工科物理实验建设六期-磁控溅射系统采购公告

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工科物理实验建设六期-磁控溅射系统采购公告

项目名称工科物理实验建设(六期)-磁控溅射系统项目编号JJ*
公告开始日期*公告截止日期*
采购单位东北大学付款方式货到验收付款
联系人中标后在我参与的项目中查看联系电话中标后在我参与的项目中查看
签约时间要求成交后5个工作日内到货时间要求签约后60个工作日内
预 算*.0
收货地址 (略) 和平区文化路3巷东北大学建筑学馆
供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购商品采购数量计量单位所属分类
磁控溅射系统1台其他仪器仪表
品牌杭州大华
型号Table PVD-10
品牌2无
型号无
品牌3无
型号无
预算*.0
技术参数及配置要求1、溅射腔体：约Φ250×H300mm；304不锈钢焊接腔体，圆柱式，前开门配观察窗；后置抽气系统；2、真空系统2.1 抽气系统1）机械泵+分子泵两级真空系统 2）前级泵：采用DRV-16机械泵及电磁压差式充气阀，抽速：4L/S3）主抽泵：分子泵，抽气速率：62L/S接口法兰：CF63，转速：72000rpm 极限压强：5×10-7Pa4）主抽阀：CC-63 超高真空电动闸板阀，用于分子泵与沉积室隔离，可调节分子泵抽速从而可以降低工艺气体流量，有利于稳定工艺气压。5）旁抽、前级阀门： GDC-J166）放气阀：电磁截止阀（DJ2C-6）用于真空室解除及真空充气使用。2.2 真空测量：全量程数显复合真空计，测量范围：1×105～1×10-5Pa；真空测量采用“一低一高”2.3系统性能指标1）极限真空度：优于7.5×10-5Pa （连续抽气24小时达到）2）恢复真空：从大气抽至8×10-4Pa≤45分钟（充干燥氮气并且真空室内无放气量大的材料）3）真空室漏率：关机12小时真空度≤5Pa。（新设备空载，极限真空后关机）4、磁控溅射靶数量：2套1）磁控溅射靶磁路模块化设计，靶材直接水冷；磁铁不泡水，避免磁铁腐蚀退磁；磁路模块化，方便不同应用随时更换；2）靶材大小为直径50.8mm，建议厚度≤5mm，靶材利用率超过40%3）镀膜方式：由上往下溅镀；共焦（溅射靶角度可调）4）镀膜均匀性：3英寸范围内薄膜厚度均匀性优于±5%；5、样品台1）样品台：抽屉式结构可装载最大3英寸基片托（方片尺寸60×60mm）可以根据客户样品形状和大小定制样品托。2）样品台旋转：转速0-30rpm连续可调；步进电机控制，转动平稳。3）样品台加热：采用数字温控仪，最高温度300℃，自动控温及数字显示，精度±0.5℃，可设定升温斜率。加热区内，温度均匀性±5℃。4）样品台上方设置气动基片挡板；6、溅射电源1）射频电源：功率300W，频率13.56MHz，全自动匹配一体机；数量1套2）直流溅射电源：最大输出功率：500W；输出电压：0～-800V可调 数量1套7、工艺气路质量流量计控制器，最大流量200sccm一路，可向真空腔体中通入惰性气体； 配有电磁截止阀控制进气。8、控制单元1）采用PLC+触摸屏控制，可实现自动一键式抽真空，溅射电源手动以方便用户进行镀膜工艺参数的索；2）控制内容：总供电、分子泵、机械泵、阀门；分子泵电源参数显示及开关控制；真空计、质量流量控制器参数显示及控制；基片台转速控制；基片加热温度控制等； 3）安全保护报警系统：在缺水、水压过低、电源过流、短路等异常情况执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统。9、工业冷水机采用微电脑PLC控制，可自动控制整机运行，全功能防错操作系统，电气部分均为国际品牌，保证机器工作稳定，寿命长久。全钛管式水箱蒸发器，防止纯水在输送过程中产生固体和其它金属杂质。精密数显温度控制器，能精确控制水温±1℃，按键式操作，安装简便，静电喷塑外壳，欧化设计，美观大方，外表板采用快速拆装形式。1）标准制冷量：2941 Kcal/h2） 输入功率：1.29 kw3）冷冻水量（m3/h）：0.59 4）水箱容量（L）：165）安全保护：压缩机过热，过流，高低压力，超温，流量，相序，排气过热保护6）外形尺寸：长580mm×宽440mm×高770mm
售后服务商品承诺:送货上门/安装调试/技术培训;需提供免费上门技术培训，有专门技术工程师负责指导使用，培训内容包括：系统原理、实验操作、电气控制的使用、仪器维护、安全要点以及其他相关内容；质保期内设备的维修免费（人为损坏因素除外）；每年免费提供2次设备巡检，能够对设备进行长期维护和检修；随时跟踪设备运行及维护，保证设备正常运行；;

报价地址：http://**
项目名称工科物理实验建设(六期)-磁控溅射系统项目编号JJ*
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签约时间要求成交后5个工作日内到货时间要求签约后60个工作日内
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供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

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磁控溅射系统1台其他仪器仪表
品牌杭州大华
型号Table PVD-10
品牌2无
型号无
品牌3无
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技术参数及配置要求1、溅射腔体：约Φ250×H300mm；304不锈钢焊接腔体，圆柱式，前开门配观察窗；后置抽气系统；2、真空系统2.1 抽气系统1）机械泵+分子泵两级真空系统 2）前级泵：采用DRV-16机械泵及电磁压差式充气阀，抽速：4L/S3）主抽泵：分子泵，抽气速率：62L/S接口法兰：CF63，转速：72000rpm 极限压强：5×10-7Pa4）主抽阀：CC-63 超高真空电动闸板阀，用于分子泵与沉积室隔离，可调节分子泵抽速从而可以降低工艺气体流量，有利于稳定工艺气压。5）旁抽、前级阀门： GDC-J166）放气阀：电磁截止阀（DJ2C-6）用于真空室解除及真空充气使用。2.2 真空测量：全量程数显复合真空计，测量范围：1×105～1×10-5Pa；真空测量采用“一低一高”2.3系统性能指标1）极限真空度：优于7.5×10-5Pa （连续抽气24小时达到）2）恢复真空：从大气抽至8×10-4Pa≤45分钟（充干燥氮气并且真空室内无放气量大的材料）3）真空室漏率：关机12小时真空度≤5Pa。（新设备空载，极限真空后关机）4、磁控溅射靶数量：2套1）磁控溅射靶磁路模块化设计，靶材直接水冷；磁铁不泡水，避免磁铁腐蚀退磁；磁路模块化，方便不同应用随时更换；2）靶材大小为直径50.8mm，建议厚度≤5mm，靶材利用率超过40%3）镀膜方式：由上往下溅镀；共焦（溅射靶角度可调）4）镀膜均匀性：3英寸范围内薄膜厚度均匀性优于±5%；5、样品台1）样品台：抽屉式结构可装载最大3英寸基片托（方片尺寸60×60mm）可以根据客户样品形状和大小定制样品托。2）样品台旋转：转速0-30rpm连续可调；步进电机控制，转动平稳。3）样品台加热：采用数字温控仪，最高温度300℃，自动控温及数字显示，精度±0.5℃，可设定升温斜率。加热区内，温度均匀性±5℃。4）样品台上方设置气动基片挡板；6、溅射电源1）射频电源：功率300W，频率13.56MHz，全自动匹配一体机；数量1套2）直流溅射电源：最大输出功率：500W；输出电压：0～-800V可调 数量1套7、工艺气路质量流量计控制器，最大流量200sccm一路，可向真空腔体中通入惰性气体； 配有电磁截止阀控制进气。8、控制单元1）采用PLC+触摸屏控制，可实现自动一键式抽真空，溅射电源手动以方便用户进行镀膜工艺参数的索；2）控制内容：总供电、分子泵、机械泵、阀门；分子泵电源参数显示及开关控制；真空计、质量流量控制器参数显示及控制；基片台转速控制；基片加热温度控制等； 3）安全保护报警系统：在缺水、水压过低、电源过流、短路等异常情况执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统。9、工业冷水机采用微电脑PLC控制，可自动控制整机运行，全功能防错操作系统，电气部分均为国际品牌，保证机器工作稳定，寿命长久。全钛管式水箱蒸发器，防止纯水在输送过程中产生固体和其它金属杂质。精密数显温度控制器，能精确控制水温±1℃，按键式操作，安装简便，静电喷塑外壳，欧化设计，美观大方，外表板采用快速拆装形式。1）标准制冷量：2941 Kcal/h2） 输入功率：1.29 kw3）冷冻水量（m3/h）：0.59 4）水箱容量（L）：165）安全保护：压缩机过热，过流，高低压力，超温，流量，相序，排气过热保护6）外形尺寸：长580mm×宽440mm×高770mm
售后服务商品承诺:送货上门/安装调试/技术培训;需提供免费上门技术培训，有专门技术工程师负责指导使用，培训内容包括：系统原理、实验操作、电气控制的使用、仪器维护、安全要点以及其他相关内容；质保期内设备的维修免费（人为损坏因素除外）；每年免费提供2次设备巡检，能够对设备进行长期维护和检修；随时跟踪设备运行及维护，保证设备正常运行；;

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