磁控溅射系统采购竞价公告

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磁控溅射系统采购竞价公告

项目名称 磁控溅射系统采购 项目编号 *
项目编号 *
公告发布日期 2024/05/11 15:26 公告截止日期 2024/05/14 15:26
公告截止日期 2024/05/14 15:26
采购单位 山西师范大学 是否本地化服务 否
是否本地化服务 否
联系人 中标后在我参与的项目中查看 联系手机 中标后在我参与的项目中查看
联系手机 中标后在我参与的项目中查看
采购预算 ￥* 是否需要踏勘 否
是否需要踏勘 否
踏勘联系人 踏勘联系电话
踏勘联系电话
踏勘地点 踏勘联系时间
踏勘联系时间
送货/施工/服务期限 2-3月
送货/施工/服务地址 (略) 小 (略) 339号山西师范大学北区2号教学楼C101
售后服务 (1) 要求用户可以随时通过电话、电子邮件等方式与厂家维修人员联系。 (2) 在收到用户技术服务的通知后，要求厂家在3个小时内作出响应，8小时内提供解决方案。 (3) 如果通过电话、传真、电子邮件等手段不能解决问题，确认有必要派遣工程师到达用户现场的情况下，厂家需在3个工作日内派遣工程师到达用户现场。
付款条款 交货并验收合格后100%付款
其他说明
采购内容 数量单位
磁控溅射系统 1(套)
是否进口 否
参考品牌及型号 不限定品牌型号
技术参数要求 1、真空极限：优于9.0×10-8 mbar（烘烤后） 2、基片：基片台有负偏压装置，可加 -200 V的负偏压，可实现对样品的刻蚀，改善样品的致密性等参数 3、溅射靶：4个2 inch圆形阴极，强磁场1 个，普磁场3 个，可开展Pt、Ta、SiO2、NiFe镀膜生长 4、气路系统： (略) 氩气质量流量计进气，实现溅射气压的调节 5、工作模式：向上溅射（基片台再腔室顶部，靶在腔室底部） 6、膜厚均匀性：溅射区域达4 inch，保证30mm×30mm区域均匀性3% 7、报警及保护：对靶、泵、电机缺水、过流过压、断路等异常情况进行监控报警并执行相应保护措施
,山西, (略) ,小店区,太原
项目名称 磁控溅射系统采购 项目编号 *
项目编号 *
公告发布日期 2024/05/11 15:26 公告截止日期 2024/05/14 15:26
公告截止日期 2024/05/14 15:26
采购单位 山西师范大学 是否本地化服务 否
是否本地化服务 否
联系人 中标后在我参与的项目中查看 联系手机 中标后在我参与的项目中查看
联系手机 中标后在我参与的项目中查看
采购预算 ￥* 是否需要踏勘 否
是否需要踏勘 否
踏勘联系人 踏勘联系电话
踏勘联系电话
踏勘地点 踏勘联系时间
踏勘联系时间
送货/施工/服务期限 2-3月
送货/施工/服务地址 (略) 小 (略) 339号山西师范大学北区2号教学楼C101
售后服务 (1) 要求用户可以随时通过电话、电子邮件等方式与厂家维修人员联系。 (2) 在收到用户技术服务的通知后，要求厂家在3个小时内作出响应，8小时内提供解决方案。 (3) 如果通过电话、传真、电子邮件等手段不能解决问题，确认有必要派遣工程师到达用户现场的情况下，厂家需在3个工作日内派遣工程师到达用户现场。
付款条款 交货并验收合格后100%付款
其他说明
采购内容 数量单位
磁控溅射系统 1(套)
是否进口 否
参考品牌及型号 不限定品牌型号
技术参数要求 1、真空极限：优于9.0×10-8 mbar（烘烤后） 2、基片：基片台有负偏压装置，可加 -200 V的负偏压，可实现对样品的刻蚀，改善样品的致密性等参数 3、溅射靶：4个2 inch圆形阴极，强磁场1 个，普磁场3 个，可开展Pt、Ta、SiO2、NiFe镀膜生长 4、气路系统： (略) 氩气质量流量计进气，实现溅射气压的调节 5、工作模式：向上溅射（基片台再腔室顶部，靶在腔室底部） 6、膜厚均匀性：溅射区域达4 inch，保证30mm×30mm区域均匀性3% 7、报警及保护：对靶、泵、电机缺水、过流过压、断路等异常情况进行监控报警并执行相应保护措施
,山西, (略) ,小店区,太原
    
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