材料系课题组无掩膜紫外光刻机采购申请采购公告

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材料系课题组无掩膜紫外光刻机采购申请采购公告

南方科技大学 SUSTech-JC-2024-00866 竞采采购公告
项目名称 材料系YURY ILLARIONOV课题组无掩膜紫外光刻机采购申请
项目编号 SUSTech-JC-2024-00866
项目类型 货物类
成交方式 最低价成交
采购方式 公开竞采
公告开始时间 ** 19:56:50
公告结束时间 ** 19:56:50
预算(元) *.00
项目预算是否含税 国产含税
备注



序号 名称 数量 单位

1

无掩膜紫外光刻机(核心货物)

1

是否接受进口

拒绝进口

品牌

赫智科技、亿拓光电、复享光学

型号

TTT-07-UV Litho ACA Pro(XIP)、YT-MUVL-QI18、FX.004.16

技术规格及参数

1.1光刻精度:
至少支持两个光刻镜头:
光刻镜头1:最小线宽≤0.8 μm,工作距离≥9 mm;
光刻镜头2:最小线宽≤0.4 μm,工作距离≥5 mm
Lithography accuracy:
Supports at least two Lithography lenses:
Lithography lens 1:
Critical dimension≤0.8 μm,WD≥9 mm;
Lithography lens 2:
Critical dimension≤0.4 μm,WD≥5 mm
1.2 套刻指引:支持实时光刻图形的预览功能
Pattern indication wavelength:exposure preview, for alignment purpose
1.3支持激光主动对焦
Optical automatic focus function
1.4 支持光刻镜头电动切换
Lens switching module
1.5曝光波长:385±5 nm
Exposure wavelength:385±5 nm
1.6 数字掩模板分辨率:≥1920 * 1080
DMD resolution:≥1920 * 1080
1.7显微观测:支持显微观测且不会引起光刻胶变性
Microscopic observation:Supports microscopic observation without causing photoresist
denaturation
1.8 光刻镜头电动切换时间:≤300 ms;重复定位精度:≤400 nm
Supports up to Lithography lens Speed:≤300 ms;Bidirectional accuracy:≤400 nm
1.9 最大样品厚度:≥10 mm
Maximum Compatible sample thickness:≥10 mm
1.10 最大样品尺寸:≥125 mm * 125 mm
Maximum Substrate dimension:≥125 mm * 125 mm
1.11 样品电动旋转:电动样品旋转台,行程≥±20°,步进精度≤0.001°
Electric adjustment:Rotation stage,Range≥±20°,Accuracy≤0.001°
1.12样品吸附:支持样品吸附
Sample adsorption: Support for sample adsorption
1.13设备软件:支持阵列光刻、尺寸测量、进度显示
Software: Programmable parameter array for rapid exposure optimization、Mapping
navigation、Dimension measurement
1.14画图软件:支持阵列画图、套刻画图
Professional software for pattern pixelate: Design tools for array patterns、Design tools
for overlay patterns
1.15湿度控制:支持设备内部湿度控制
Humidity control: dehumidification device integrated
1.16软件操作界面支持中英文双语
The software operation interface supports both Chinese and English
1.171.17 防震保护要求:鉴于实验室位于三楼,中标供应商必须提供隔离解决方案,能够有效地隔离大部分实验室振动。最为重要的是,提供的隔离解决方案必须足以确保最低器件分辨率达到 400nm或者更优。
Vibration Protection Requirement: Given the lab"s location on the 3rd floor, the supplier is required to furnish an isolation solution capable of effectively isolating the majority of laboratory vibrations. Of utmost importance is that the isolation solution provided must be sufficient to ensure minimum device resolution as good as 400nm

质保期

质保1年

售后要求

1.维修响应时间:招标方报修后,中标供应商须【24】小时内响应,【48】小时内派员上门现场维护,并在【72】小时内解决问题,如在规定时间内不能解决设备故障,应提供相同档次、功能的设备给招标方代用。 2. 中标供应商售前售中售后均需能够用英语和项目负责人无障碍交流,包括书面和口头。

付款方式 合同生效并收到相应发票后支付合同总额的30%作为进度款;设备到达指定安装现场且安装、调试合格并提供全额发票后,经学校确认无质量问题后支付70%的货款。
交货期 合同签订后90天(自然日)内,具体时间根据学校要求提前7天(自然日)通知送货

1. 欢迎有意向的供应商登录系统参与竞采;

2. 未注册 的供应商请先注册 成为竞采平台供应商后参与项目竞采;

3. 如对项目有疑问或质疑,请于项目截止前1个工作日登录系统在线提交咨询或质疑,逾期不受理。

南方科技大学 SUSTech-JC-2024-00866 竞采采购公告
项目名称 材料系YURY ILLARIONOV课题组无掩膜紫外光刻机采购申请
项目编号 SUSTech-JC-2024-00866
项目类型 货物类
成交方式 最低价成交
采购方式 公开竞采
公告开始时间 ** 19:56:50
公告结束时间 ** 19:56:50
预算(元) *.00
项目预算是否含税 国产含税
备注



序号 名称 数量 单位

1

无掩膜紫外光刻机(核心货物)

1

是否接受进口

拒绝进口

品牌

赫智科技、亿拓光电、复享光学

型号

TTT-07-UV Litho ACA Pro(XIP)、YT-MUVL-QI18、FX.004.16

技术规格及参数

1.1光刻精度:
至少支持两个光刻镜头:
光刻镜头1:最小线宽≤0.8 μm,工作距离≥9 mm;
光刻镜头2:最小线宽≤0.4 μm,工作距离≥5 mm
Lithography accuracy:
Supports at least two Lithography lenses:
Lithography lens 1:
Critical dimension≤0.8 μm,WD≥9 mm;
Lithography lens 2:
Critical dimension≤0.4 μm,WD≥5 mm
1.2 套刻指引:支持实时光刻图形的预览功能
Pattern indication wavelength:exposure preview, for alignment purpose
1.3支持激光主动对焦
Optical automatic focus function
1.4 支持光刻镜头电动切换
Lens switching module
1.5曝光波长:385±5 nm
Exposure wavelength:385±5 nm
1.6 数字掩模板分辨率:≥1920 * 1080
DMD resolution:≥1920 * 1080
1.7显微观测:支持显微观测且不会引起光刻胶变性
Microscopic observation:Supports microscopic observation without causing photoresist
denaturation
1.8 光刻镜头电动切换时间:≤300 ms;重复定位精度:≤400 nm
Supports up to Lithography lens Speed:≤300 ms;Bidirectional accuracy:≤400 nm
1.9 最大样品厚度:≥10 mm
Maximum Compatible sample thickness:≥10 mm
1.10 最大样品尺寸:≥125 mm * 125 mm
Maximum Substrate dimension:≥125 mm * 125 mm
1.11 样品电动旋转:电动样品旋转台,行程≥±20°,步进精度≤0.001°
Electric adjustment:Rotation stage,Range≥±20°,Accuracy≤0.001°
1.12样品吸附:支持样品吸附
Sample adsorption: Support for sample adsorption
1.13设备软件:支持阵列光刻、尺寸测量、进度显示
Software: Programmable parameter array for rapid exposure optimization、Mapping
navigation、Dimension measurement
1.14画图软件:支持阵列画图、套刻画图
Professional software for pattern pixelate: Design tools for array patterns、Design tools
for overlay patterns
1.15湿度控制:支持设备内部湿度控制
Humidity control: dehumidification device integrated
1.16软件操作界面支持中英文双语
The software operation interface supports both Chinese and English
1.171.17 防震保护要求:鉴于实验室位于三楼,中标供应商必须提供隔离解决方案,能够有效地隔离大部分实验室振动。最为重要的是,提供的隔离解决方案必须足以确保最低器件分辨率达到 400nm或者更优。
Vibration Protection Requirement: Given the lab"s location on the 3rd floor, the supplier is required to furnish an isolation solution capable of effectively isolating the majority of laboratory vibrations. Of utmost importance is that the isolation solution provided must be sufficient to ensure minimum device resolution as good as 400nm

质保期

质保1年

售后要求

1.维修响应时间:招标方报修后,中标供应商须【24】小时内响应,【48】小时内派员上门现场维护,并在【72】小时内解决问题,如在规定时间内不能解决设备故障,应提供相同档次、功能的设备给招标方代用。 2. 中标供应商售前售中售后均需能够用英语和项目负责人无障碍交流,包括书面和口头。

付款方式 合同生效并收到相应发票后支付合同总额的30%作为进度款;设备到达指定安装现场且安装、调试合格并提供全额发票后,经学校确认无质量问题后支付70%的货款。
交货期 合同签订后90天(自然日)内,具体时间根据学校要求提前7天(自然日)通知送货

1. 欢迎有意向的供应商登录系统参与竞采;

2. 未注册 的供应商请先注册 成为竞采平台供应商后参与项目竞采;

3. 如对项目有疑问或质疑,请于项目截止前1个工作日登录系统在线提交咨询或质疑,逾期不受理。

    
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