多靶磁控溅射镀膜系统招标公告
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多靶磁控溅射镀膜系统招标公告
| 项目名称 | 多靶磁控溅射镀膜系统 | 项目编号 | XF-WSBX-* |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | ** 16:06:01 | 公告截止日期 | ** 18:00:00 |
| 采购单位 | 浙江大学 | 付款方式 | 货到付款，*方在到货验收后15日内向*方一次性支付本项目的总额 |
| 联系人 | 成交后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 成交后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 成交后3个工作日内 | 到货时间要求 | 成交后2个工作日内 |
| 预算总价 | ￥ 305,000.00 | ||
| 收货地址 | 浙江大学西溪校 (略) 328 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 多靶磁控溅射镀膜系统 | 1 | 台 | 电子工业生产设备 |
| 预算单价 | ￥ 305,000.00 |
|---|---|
| 技术参数及配置要求 | 1.真空极限：6.0×10-5Pa（空载，经烘烤除气后）； 2.漏率：≤0.8Pa/h； 3.抽速：（空载）从大气抽至8.0×10-4Pa≤30min； 4.基片台尺寸：圆形基片台结构，可承载最大120×120mm 基片，基片台磁流体密封，电机驱动； 5.基片旋转：0～30 转/分钟； 6.加热：室温～500±1℃，可控可调； 7.工作方式：各靶可独立/顺次/共同工作，采用磁控靶从下向上溅射镀膜； 8.膜厚不均匀性≤±5%（Φ100mm范围内）； 9.控制方式：PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统； 10.报警及保护：对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施，完善的逻辑程序互锁保护系统。 11.溅射靶：配2只3英寸靶，预留一个磁控溅射靶位 |
| 售后服务 | 服务网点:当地;电话支持:7x24小时;质保期:1年;服务时限:报修后48小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品; |
浙江大学
** 16:06:01
| 项目名称 | 多靶磁控溅射镀膜系统 | 项目编号 | XF-WSBX-* |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | ** 16:06:01 | 公告截止日期 | ** 18:00:00 |
| 采购单位 | 浙江大学 | 付款方式 | 货到付款，*方在到货验收后15日内向*方一次性支付本项目的总额 |
| 联系人 | 成交后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 成交后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 成交后3个工作日内 | 到货时间要求 | 成交后2个工作日内 |
| 预算总价 | ￥ 305,000.00 | ||
| 收货地址 | 浙江大学西溪校 (略) 328 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 多靶磁控溅射镀膜系统 | 1 | 台 | 电子工业生产设备 |
| 预算单价 | ￥ 305,000.00 |
|---|---|
| 技术参数及配置要求 | 1.真空极限：6.0×10-5Pa（空载，经烘烤除气后）； 2.漏率：≤0.8Pa/h； 3.抽速：（空载）从大气抽至8.0×10-4Pa≤30min； 4.基片台尺寸：圆形基片台结构，可承载最大120×120mm 基片，基片台磁流体密封，电机驱动； 5.基片旋转：0～30 转/分钟； 6.加热：室温～500±1℃，可控可调； 7.工作方式：各靶可独立/顺次/共同工作，采用磁控靶从下向上溅射镀膜； 8.膜厚不均匀性≤±5%（Φ100mm范围内）； 9.控制方式：PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统； 10.报警及保护：对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施，完善的逻辑程序互锁保护系统。 11.溅射靶：配2只3英寸靶，预留一个磁控溅射靶位 |
| 售后服务 | 服务网点:当地;电话支持:7x24小时;质保期:1年;服务时限:报修后48小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品; |
浙江大学
** 16:06:01
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