无掩膜紫外光刻机采购
无掩膜紫外光刻机采购
序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 落实政府采购政策情况 | 预算金额(元) | 预计采购日期 | 备注 |
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1 | 无掩膜紫外光刻机采购 | 标的名称:无掩膜紫外光刻机 标的数量:1.00 主要功能或目标:无掩膜紫外光刻机是半导体材料、器件与微纳技术研究的重要工具,主要功能有掩膜版制作、光刻胶直写以及多层套刻直写等,其原理是利用特定波段的光源直接对涂有光刻胶的衬底材料进行曝光,配合后段的显影工艺,让图形直接呈现于基板上的一种微纳米制作工艺。 需满足的要求:光刻精度:至少支持两个光刻镜头:光刻镜头1:最小线宽≤0.8 μm,工作距离≥9 mm;光刻镜头2:最小线宽≤0.4 μm,工作距离≥5 mm;同时支持步进式和扫描式光刻;具备交互式套刻指引功能;具备光学主动对焦功能;支持光刻镜头电动切换;数字掩模板分辨率:≥1920 * 1080(高速),微镜尺寸≤7.6 um;支持样品电动旋转;具有原位光绘、物像绑定、成像拼接和畸变矫正功能。 | 面向中小企业采购 | *.00 | 2024年10月 |
序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 落实政府采购政策情况 | 预算金额(元) | 预计采购日期 | 备注 |
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1 | 无掩膜紫外光刻机采购 | 标的名称:无掩膜紫外光刻机 标的数量:1.00 主要功能或目标:无掩膜紫外光刻机是半导体材料、器件与微纳技术研究的重要工具,主要功能有掩膜版制作、光刻胶直写以及多层套刻直写等,其原理是利用特定波段的光源直接对涂有光刻胶的衬底材料进行曝光,配合后段的显影工艺,让图形直接呈现于基板上的一种微纳米制作工艺。 需满足的要求:光刻精度:至少支持两个光刻镜头:光刻镜头1:最小线宽≤0.8 μm,工作距离≥9 mm;光刻镜头2:最小线宽≤0.4 μm,工作距离≥5 mm;同时支持步进式和扫描式光刻;具备交互式套刻指引功能;具备光学主动对焦功能;支持光刻镜头电动切换;数字掩模板分辨率:≥1920 * 1080(高速),微镜尺寸≤7.6 um;支持样品电动旋转;具有原位光绘、物像绑定、成像拼接和畸变矫正功能。 | 面向中小企业采购 | *.00 | 2024年10月 |
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