1）放大倍数：50X-1000X。2）光学系统：无限远色差校正光学系统，齐焦距离≤45mm。3）观察筒：30°倾斜，瞳距调节：50mm~76mm，三档分光比双目: 三目=100 ：0 /20:80 /0:100。4）目镜：自带视度调节高眼点大视野平场目镜PL10X，视场≥25mm，其中一支目镜带单刻度十字分划板。5）转换器：明暗场6孔物镜转换器，带DIC插槽。6）物镜：明暗场半复消色差金相物镜：5X/NA≥0.15/WD≥13.5mm，10X/NA≥0.30/WD≥9.00mm；20X/NA≥0.40/WD≥8.50mm；50X/NA≥0.80/WD≥1.00mm。7）载物台： (略) ，面积4英寸，X、Y方向同轴调节；移动范围：（Y）102mm*(X)105mm；带Y轴锁定机构，移动精度：0.1mm。配套360°旋转工作台。8）透反两用机架：低手位粗微同轴调焦机构。粗调行程≥25mm,微调精度0.001mm。带有防止下滑的调节松紧装置和随机上限位装置。内置宽电压系统,双路电源输出，采用数字调光，具有光强设定与复位功能、反射/透射光切换开关,内置透射光滤色镜（LBD、ND6、ND25)；12V100W卤素灯照明。9）明暗场反射照明器：带可变孔径光阑，中心可调；带可变孔径视场光阑，中心可调；带滤色片插槽与偏光装置插槽,带明暗场切换装置。10)偏光附件（反射用）： 起偏镜插板、360°旋转检偏镜插板。11)产品的所采用零部件和生产过程，需对有害物质进行严格控制，符合《电器电子产品有害物质限制使用管理办法》（令第32号）环保要求，提供专业机构出具的证明材料（复印件加盖生产企业公章）。2、金相试样磨抛机1）机体形式：台式双盘 2）控制方式：双盘双控 3）磨盘转速本机具备(定速+无极变速)功能 高低定速(低速 600 和高速 1200)+无级变速(100-1500 转/分钟速度可调) 4）转速方式:正反转任意调节 5）磨盘直径：φ230mm （可选配φ200、φ250、φ300mm 等规格） 6）外形尺寸：φ200、φ230 规格 680X570X320mm,(φ250、φ300mm 规格尺寸 850x750x450mm) 7）电源 ：220V

1）放大倍数：50X-1000X。2）光学系统：无限远色差校正光学系统，齐焦距离≤45mm。3）观察筒：30°倾斜，瞳距调节：50mm~76mm，三档分光比双目: 三目=100 ：0 /20:80 /0:100。4）目镜：自带视度调节高眼点大视野平场目镜PL10X，视场≥25mm，其中一支目镜带单刻度十字分划板。5）转换器：明暗场6孔物镜转换器，带DIC插槽。6）物镜：明暗场半复消色差金相物镜：5X/NA≥0.15/WD≥13.5mm，10X/NA≥0.30/WD≥9.00mm；20X/NA≥0.40/WD≥8.50mm；50X/NA≥0.80/WD≥1.00mm。7）载物台： (略) ，面积4英寸，X、Y方向同轴调节；移动范围：（Y）102mm*(X)105mm；带Y轴锁定机构，移动精度：0.1mm。配套360°旋转工作台。8）透反两用机架：低手位粗微同轴调焦机构。粗调行程≥25mm,微调精度0.001mm。带有防止下滑的调节松紧装置和随机上限位装置。内置宽电压系统,双路电源输出，采用数字调光，具有光强设定与复位功能、反射/透射光切换开关,内置透射光滤色镜（LBD、ND6、ND25)；12V100W卤素灯照明。9）明暗场反射照明器：带可变孔径光阑，中心可调；带可变孔径视场光阑，中心可调；带滤色片插槽与偏光装置插槽,带明暗场切换装置。10)偏光附件（反射用）： 起偏镜插板、360°旋转检偏镜插板。11)产品的所采用零部件和生产过程，需对有害物质进行严格控制，符合《电器电子产品有害物质限制使用管理办法》（令第32号）环保要求，提供专业机构出具的证明材料（复印件加盖生产企业公章）。2、金相试样磨抛机1）机体形式：台式双盘 2）控制方式：双盘双控 3）磨盘转速本机具备(定速+无极变速)功能 高低定速(低速 600 和高速 1200)+无级变速(100-1500 转/分钟速度可调) 4）转速方式:正反转任意调节 5）磨盘直径：φ230mm （可选配φ200、φ250、φ300mm 等规格） 6）外形尺寸：φ200、φ230 规格 680X570X320mm,(φ250、φ300mm 规格尺寸 850x750x450mm) 7）电源 ：220V