数字曝光机国际招标公告2/01
数字曝光机国际招标公告2/01
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 数字曝光机 | 1台 | (1)本设备主要用于TFT LCD工艺中,生产UV Mask时对涂布光刻胶后基板进行曝光。 (2)Mark对位精度:≤±10μm,寻边对位精度:≤20μm (3)分辨率(Resolution)/解析精度 ≤15μm,极限解析精度≤10μm | 0730-*-01 |
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 数字曝光机 | 1台 | (1)本设备主要用于TFT LCD工艺中,生产UV Mask时对涂布光刻胶后基板进行曝光。 (2)Mark对位精度:≤±10μm,寻边对位精度:≤20μm (3)分辨率(Resolution)/解析精度 ≤15μm,极限解析精度≤10μm | 0730-*-01 |
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