微腔电子纸显示器件项目国际招标公告1/44
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
4197-244ZLCP(略)/36 | 彩膜显影装置 | 4台 | 设备用途及基本要求: 本设备利用精确控制的化学反应,溶解未曝光的光阻,保留已曝光的图文部分。再通过冲洗 (略) 理,分别去除基板表面残留的药液和水分,完成彩膜基板的显影过程。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY5000/USD850 |
4197-244ZLCP(略)/37 | 彩膜清洗装置 | 5台 | 设备用途及基本要求: 本设备是用来将彩膜基板上附着的有机物和异物等去除的装置。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY3000/USD500 |
4197-244ZLCP(略)/40 | 基板投入清洗装置 | 1台 | 设备用途及基本要求: 本设备使用等离子体、清洗剂、毛刷及纯水清洗搬运到工厂的基板,以去除基板上附着的有机物及异物。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY3000/USD500 |
4197-244ZLCP(略)/41 | 阵列湿法刻蚀装置 | 4台 | 设备用途及基本要求: 该设备用于阵列制程,以刻蚀未被光阻保护的金属、ITO或IGZO膜层,并具备洗净、干燥功能。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY(略)/USD1650 |
4197-244ZLCP(略)/42 | 阵列光刻胶剥离装置 | 5台 | 设备用途及基本要求: 该设备用于阵列制程,以去除基板(素基板、Rework基板、干刻和湿刻后的基板)上的光刻胶为目的,并具备洗净、干燥功能。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY(略)/USD1650 |
4197-244ZLCP(略)/43 | 阵列成膜前清洗装置 | 11台 | 设备用途及基本要求: 该设备用在基板进入成膜设备前,以清洗方式去除基板上附着的有机物及Particle,并具备基板干燥功能。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY(略)/USD1650 |
4197-244ZLCP(略)/44 | 阵列有机膜剥离装置 | 1台 | 设备用途及基本要求: 该装置用于去除基板上的有机膜,亦可单独作为清洗机对基板表面的异物进行洗净和干燥。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY3000/USD500 |
4197-244ZLCP(略)/47 | 成盒绝缘膜清洗装置 | 2台 | 设备用途及基本要求: 该装置用于成盒制程,通过基板表 (略) 理、洗剂清洗、纯水清洗、毛刷清洗、高压喷淋、二流体喷淋、风刀干燥等工艺去除基板表面有机物及异物,从而保证绝缘膜涂布前基板的洁净度。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY3000/USD500 |
4197-244ZLCP(略)/48 | 成盒绝缘膜剥离装置 | 1台 | 设备用途及基本要求: 该装置用于成盒制程和CF制程,通过药液去除基板表面的绝缘膜和CF基板表面的色阻膜,并对基板表面进行清洗以达到基板再利用的目的。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY3000/USD500 |
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
4197-244ZLCP(略)/36 | 彩膜显影装置 | 4台 | 设备用途及基本要求: 本设备利用精确控制的化学反应,溶解未曝光的光阻,保留已曝光的图文部分。再通过冲洗 (略) 理,分别去除基板表面残留的药液和水分,完成彩膜基板的显影过程。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY5000/USD850 |
4197-244ZLCP(略)/37 | 彩膜清洗装置 | 5台 | 设备用途及基本要求: 本设备是用来将彩膜基板上附着的有机物和异物等去除的装置。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY3000/USD500 |
4197-244ZLCP(略)/40 | 基板投入清洗装置 | 1台 | 设备用途及基本要求: 本设备使用等离子体、清洗剂、毛刷及纯水清洗搬运到工厂的基板,以去除基板上附着的有机物及异物。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY3000/USD500 |
4197-244ZLCP(略)/41 | 阵列湿法刻蚀装置 | 4台 | 设备用途及基本要求: 该设备用于阵列制程,以刻蚀未被光阻保护的金属、ITO或IGZO膜层,并具备洗净、干燥功能。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY(略)/USD1650 |
4197-244ZLCP(略)/42 | 阵列光刻胶剥离装置 | 5台 | 设备用途及基本要求: 该设备用于阵列制程,以去除基板(素基板、Rework基板、干刻和湿刻后的基板)上的光刻胶为目的,并具备洗净、干燥功能。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY(略)/USD1650 |
4197-244ZLCP(略)/43 | 阵列成膜前清洗装置 | 11台 | 设备用途及基本要求: 该设备用在基板进入成膜设备前,以清洗方式去除基板上附着的有机物及Particle,并具备基板干燥功能。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY(略)/USD1650 |
4197-244ZLCP(略)/44 | 阵列有机膜剥离装置 | 1台 | 设备用途及基本要求: 该装置用于去除基板上的有机膜,亦可单独作为清洗机对基板表面的异物进行洗净和干燥。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY3000/USD500 |
4197-244ZLCP(略)/47 | 成盒绝缘膜清洗装置 | 2台 | 设备用途及基本要求: 该装置用于成盒制程,通过基板表 (略) 理、洗剂清洗、纯水清洗、毛刷清洗、高压喷淋、二流体喷淋、风刀干燥等工艺去除基板表面有机物及异物,从而保证绝缘膜涂布前基板的洁净度。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY3000/USD500 |
4197-244ZLCP(略)/48 | 成盒绝缘膜剥离装置 | 1台 | 设备用途及基本要求: 该装置用于成盒制程和CF制程,通过药液去除基板表面的绝缘膜和CF基板表面的色阻膜,并对基板表面进行清洗以达到基板再利用的目的。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY3000/USD500 |
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