新增30万片集成电路用300mm高端硅片研发与先进制造项目及集成电路制造用300毫米硅片LTO改造项目（一阶段）

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新增30万片集成电路用300mm高端硅片研发与先进制造项目及集成电路制造用300毫米硅片LTO改造项目（一阶段）

项目名称
新增 30 万片集成电路用300mm 高端硅片研发与先进制造项目及集成电路制造用300 毫米硅片LTO 改造项目（一阶段）
项目名称
新增 30 万片集成电路用300mm 高端硅片研发与先进制造项目及集成电路制造用300 毫米硅片LTO 改造项目（一阶段）
建设单位
上海新 (略)
所属行业
计算机、通信和其他电子设备制造业
建设地点
浦东新区泥城镇云水路1000号
项目基本信息
1、在现有二期项目生产车间内，增加1 台薄膜沉积设备——低温氧化炉（简称“LTO机台”）进行硅片氧化薄膜沉积工艺，并配套新增1 台边缘清洗机对薄膜沉积后的硅片进行清洗，硅片处理量为3 万片／月，依托二期项目配套公辅环保设施。2、在现有拉晶厂房2 层增加1 个石墨部件清洁间，专门用于石墨部件（包括石墨坩埚、石墨托盘、固化毡等）的清洁工作，并配套建设废气捕集处理装置和排气筒
设计单位
(略)
计划开工日期
**
环评项目登记号
115-32-21-49
环评批文文号
沪自贸临环保许评【2021】6号
环评批文日期
**
联系人
王宾兵
联系电话
*
电子邮箱
binbing.*@*ingsemi.com
实际开工日期
**
实际开工日期
**
施工期环保措施落实情况（pdf）
LTO施工期环保措施落实报告.pdf点击下载
施工期环境监测结果（pdf）
开始调试日期
**
竣工日期
**
开始调试日期
**
联系人
王先生
联系电话
*
非重大调整报告（pdf）
环保措施落实情况（pdf）
LTO环保措施落实情况.pdf点击下载
公示起始日期
公示起始日期
验收报告
项目名称
新增 30 万片集成电路用300mm 高端硅片研发与先进制造项目及集成电路制造用300 毫米硅片LTO 改造项目（一阶段）
项目名称
新增 30 万片集成电路用300mm 高端硅片研发与先进制造项目及集成电路制造用300 毫米硅片LTO 改造项目（一阶段）
建设单位
上海新 (略)
所属行业
计算机、通信和其他电子设备制造业
建设地点
浦东新区泥城镇云水路1000号
项目基本信息
1、在现有二期项目生产车间内，增加1 台薄膜沉积设备——低温氧化炉（简称“LTO机台”）进行硅片氧化薄膜沉积工艺，并配套新增1 台边缘清洗机对薄膜沉积后的硅片进行清洗，硅片处理量为3 万片／月，依托二期项目配套公辅环保设施。2、在现有拉晶厂房2 层增加1 个石墨部件清洁间，专门用于石墨部件（包括石墨坩埚、石墨托盘、固化毡等）的清洁工作，并配套建设废气捕集处理装置和排气筒
设计单位
(略)
计划开工日期
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环评项目登记号
115-32-21-49
环评批文文号
沪自贸临环保许评【2021】6号
环评批文日期
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联系人
王宾兵
联系电话
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电子邮箱
binbing.*@*ingsemi.com
实际开工日期
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实际开工日期
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开始调试日期
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竣工日期
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