迪思微电子高端掩模制造项目
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迪思微电子高端掩模制造项目
根 (略) 发展计划，无 (略) 拟于新吴区无锡
(略) 闲置地块建设新建高端光掩模项目。
项目不新增用地，租赁无 (略) 33216 平方米厂房，建设 40 纳
米高端掩模生产线，项目总投资 11.5 亿人民币，其中 2 亿用于洁净室建设，9.5 亿用
于购置设备，引进多台高阶电子束曝光机、刻蚀机、检测机、清洗机等进口设备。
项目建成后，将形成年产 42000 片光掩模版的生产规模
根 (略) 发展计划，无 (略) 拟于新吴区无锡
(略) 闲置地块建设新建高端光掩模项目。
项目不新增用地，租赁无 (略) 33216 平方米厂房，建设 40 纳
米高端掩模生产线，项目总投资 11.5 亿人民币，其中 2 亿用于洁净室建设，9.5 亿用
于购置设备，引进多台高阶电子束曝光机、刻蚀机、检测机、清洗机等进口设备。
项目建成后，将形成年产 42000 片光掩模版的生产规模
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