企业名称

北京 (略)

所在地址

(略) 北京经济技术开发 (略) 106号1幢一层

法人代表

所属行业

光电子器件制造

主要生产工艺

薄膜生长、光刻，刻

主要产品

制冷型红外成像探测器

排放污染物名称

VOCs

治理设施

集中收集+酸碱液喷淋(硫酸

NaOH)+滤料过滤+喷雾(NaOH)

+气水分离脱液

集中收集+活性炭吸附塔

使用有毒有害原料

名称

数量(吨)

用途

溴

5.0×10-3

湿法腐蚀前清洗

*醇

4.124

湿法腐蚀前清洗

氢氟酸

2.0×10-3

衬底清洗

高纯碲化镉

5.0×10-3

形成碲镉汞薄膜层

高纯碲化汞

5.0×10-4

形成碲镉汞薄膜层

高纯汞

1.0×10-3

形成碲镉汞薄膜层

排放有毒有害物质

名称

数量(吨)

浓度(毫克/立方米)

汞

1.9×10-6

低于检出限

镉

9.3×10-?

6.0×10-6

硫化氢

5.5×10-?

0.035

危险废物产生和处置

危险废物名称

产生量(吨)

处置去向

废胶

0.0356

北京鑫兴众成 (略)

废显影液

0.2883

废活性炭

0.*

废化学试剂空瓶

0.*

废滤芯

0.1792

废石英管

0.*

污泥

0.038

实验室废液

0.3909

混合物废渣

0.0388

废酸

3.*

废有机溶剂

8.7474

环境风险防控措施

加强员工环境保护教育培训工作，建立环境风险源台账，制定环境突发事件应急预案，加强净 化设备的维护保养工作，安排专人负责管理；制定危废管理计划，分类入库，定期联系有资质 单位进行转运。

企业名称

北京 (略)

所在地址

(略) 北京经济技术开发 (略) 106号1幢一层

法人代表

所属行业

光电子器件制造

主要生产工艺

薄膜生长、光刻，刻

主要产品

制冷型红外成像探测器

排放污染物名称

VOCs

治理设施

集中收集+酸碱液喷淋(硫酸

NaOH)+滤料过滤+喷雾(NaOH)

+气水分离脱液

集中收集+活性炭吸附塔

使用有毒有害原料

名称

数量(吨)

用途

溴

5.0×10-3

湿法腐蚀前清洗

*醇

4.124

湿法腐蚀前清洗

氢氟酸

2.0×10-3

衬底清洗

高纯碲化镉

5.0×10-3

形成碲镉汞薄膜层

高纯碲化汞

5.0×10-4

形成碲镉汞薄膜层

高纯汞

1.0×10-3

形成碲镉汞薄膜层

排放有毒有害物质

名称

数量(吨)

浓度(毫克/立方米)

汞

1.9×10-6

低于检出限

镉

9.3×10-?

6.0×10-6

硫化氢

5.5×10-?

0.035

危险废物产生和处置

危险废物名称

产生量(吨)

处置去向

废胶

0.0356

北京鑫兴众成 (略)

废显影液

0.2883

废活性炭

0.*

废化学试剂空瓶

0.*

废滤芯

0.1792

废石英管

0.*

污泥

0.038

实验室废液

0.3909

混合物废渣

0.0388

废酸

3.*

废有机溶剂

8.7474

环境风险防控措施

加强员工环境保护教育培训工作，建立环境风险源台账，制定环境突发事件应急预案，加强净 化设备的维护保养工作，安排专人负责管理；制定危废管理计划，分类入库，定期联系有资质 单位进行转运。