第三代半导体碳化硅衬底产业化基地建设二期项目
第三代半导体碳化硅衬底产业化基地建设二期项目
建设地点: (略) 大兴新城东 (略) 0605-022C地块
公示时间:2024-09-30至2024-10-21
受理时间:2024-09-30
项目概况:北京天科合 (略) 第三代半导体碳化硅衬底产业化基地建设二期项 (略) (略) 大兴新城 (略) 0605-022C地块,厂址中心坐标为东经116°20′49.6104″(116.(略)),北纬39°40′29.5752″(39.(略)),为现有工程东侧空地;项目总占地面积(略).032m2,总建筑面积(略).29m2,包括生产厂房、化学品库、危废库、一般固废库、综合楼、门卫等。拟购置长晶及附属、晶体加工、晶片加工等工艺设备,新建6-8英寸碳化硅衬底生产线及研发中心,以及相关配套设施。 (略) 碳化硅晶体与晶片产能,同时建设研发中心以对生产工艺和参数持续进行优化和完善,投产后将实现年产约37.(略)片导电型碳化硅衬底,其中6英寸导电型碳化硅衬底23.(略)片,8英寸导电型碳化硅衬底13.(略)片。
行政相对人名称:北京天科合 (略)
联系人:周少良
联系电话:(略)
审批部门: (略) (略)
邮政编码:(略)
邮寄地址: (略) (略) (略) 2号楼
传真电话:010-(略)
设定依据:1、《中华人民共和国环境保护法》第十九条、第四十一条、第六十一条、第六十三条。2、《中华人民共和国环境影响评价法》第二十二条、第二十三条、第二十四条、第二十五条。3、《中华人民共和国大气污染防治法》第十八条、第二十二条。4、《中华人民共和国水污染防治法》第十九条。5、《中华人民共和国环境噪声污染防治法》第十三条。6、《中华人民共和国固体废物污染环境防治法》第十三条、第十四条。7、《中华人民共和国放射性污染防治法》第二十九条。8、《建设项目环境保护管理条例》第六条。
建设地点: (略) 大兴新城东 (略) 0605-022C地块
公示时间:2024-09-30至2024-10-21
受理时间:2024-09-30
项目概况:北京天科合 (略) 第三代半导体碳化硅衬底产业化基地建设二期项 (略) (略) 大兴新城 (略) 0605-022C地块,厂址中心坐标为东经116°20′49.6104″(116.(略)),北纬39°40′29.5752″(39.(略)),为现有工程东侧空地;项目总占地面积(略).032m2,总建筑面积(略).29m2,包括生产厂房、化学品库、危废库、一般固废库、综合楼、门卫等。拟购置长晶及附属、晶体加工、晶片加工等工艺设备,新建6-8英寸碳化硅衬底生产线及研发中心,以及相关配套设施。 (略) 碳化硅晶体与晶片产能,同时建设研发中心以对生产工艺和参数持续进行优化和完善,投产后将实现年产约37.(略)片导电型碳化硅衬底,其中6英寸导电型碳化硅衬底23.(略)片,8英寸导电型碳化硅衬底13.(略)片。
行政相对人名称:北京天科合 (略)
联系人:周少良
联系电话:(略)
审批部门: (略) (略)
邮政编码:(略)
邮寄地址: (略) (略) (略) 2号楼
传真电话:010-(略)
设定依据:1、《中华人民共和国环境保护法》第十九条、第四十一条、第六十一条、第六十三条。2、《中华人民共和国环境影响评价法》第二十二条、第二十三条、第二十四条、第二十五条。3、《中华人民共和国大气污染防治法》第十八条、第二十二条。4、《中华人民共和国水污染防治法》第十九条。5、《中华人民共和国环境噪声污染防治法》第十三条。6、《中华人民共和国固体废物污染环境防治法》第十三条、第十四条。7、《中华人民共和国放射性污染防治法》第二十九条。8、《建设项目环境保护管理条例》第六条。
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