关于存储集成电路产业基地环境影响报告表审批前公示

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关于存储集成电路产业基地环境影响报告表审批前公示

  根据建设项目环境影响评价审批程序的有关规定,经审查,我局拟对存 (略) 产业基地环境影响报告表作出审批决定,为体现公开、公正的原则,强化公众参与,现予公示5个工作日,如有意见,请在公示期内来信或 (略) 反映。依据《中华人民共和国行政许可法》第四十七条的规定,自公示之日起五个工作日内申请人及有关利害关系 (略) 拟作出的决定提出听证申请。

  公示时间:2024-10-23

  公告期限:自本公告发布之日起5个工作日届满。

  联系地址: (略) (略) 新安街 (略) 96号413室

  邮编:(略)

  联系电话:0755-(略)

项目名称:

存 (略) 产业基地

建设单位:

(略) 时 (略)

建设地点:

(略) (略) 新桥街道新 (略) 西边、长流陂消防站北边

环评机构:

(略) 国寰 (略)

项目概况:

项目主要从事球栅阵列式封装产品、固态硬盘、便携式固态硬盘、便携式移动存储、内存条等生产,年总产量(略)万个。主要生产工艺包括 (略) 理工艺、SMT表面贴装、PCB板清洗、PCB板烘烤、倒装、回流焊、底部填充、贴片、W/B前电浆清洗、焊线、Mold前电浆清洗、塑封成型、PMC模后固化、烘烤、打标、植球、洗板等。项目不涉及晶圆基底生长、掩膜设计、前处理等生产工序;项目设置进行物理性质测试的研发实验室,不涉及动物实验、P3和P4实验、化学和生物实验。

主要环境影响及预防或者减轻不良环境影响的对策和措施:

主要环境影响及预防或者减轻不良环境影响的对策和措施:项目开槽废水及清洗废水、纯水制备RO膜清洗废水经 (略) (略) (略) 排入沙井水质 (略) 理,废水回用系统浓水、纯水制备系统浓水及反冲 (略) (略) 排入沙井水质 (略) 理;项目水喷淋装置废水及冷却废水循环使用,不外排;研磨切割废水及纯水制备系统二级浓水全部回用,不外排。项目废气经分 (略) 理达标后高空排放。项目噪声源采取消声、减振、隔声等措施后达标排放。项目危险废物委托具有危 (略) 理处置资质单 (略) 理处置,一般工业固体废物交由专 (略) 理处置。

  根据建设项目环境影响评价审批程序的有关规定,经审查,我局拟对存 (略) 产业基地环境影响报告表作出审批决定,为体现公开、公正的原则,强化公众参与,现予公示5个工作日,如有意见,请在公示期内来信或 (略) 反映。依据《中华人民共和国行政许可法》第四十七条的规定,自公示之日起五个工作日内申请人及有关利害关系 (略) 拟作出的决定提出听证申请。

  公示时间:2024-10-23

  公告期限:自本公告发布之日起5个工作日届满。

  联系地址: (略) (略) 新安街 (略) 96号413室

  邮编:(略)

  联系电话:0755-(略)

项目名称:

存 (略) 产业基地

建设单位:

(略) 时 (略)

建设地点:

(略) (略) 新桥街道新 (略) 西边、长流陂消防站北边

环评机构:

(略) 国寰 (略)

项目概况:

项目主要从事球栅阵列式封装产品、固态硬盘、便携式固态硬盘、便携式移动存储、内存条等生产,年总产量(略)万个。主要生产工艺包括 (略) 理工艺、SMT表面贴装、PCB板清洗、PCB板烘烤、倒装、回流焊、底部填充、贴片、W/B前电浆清洗、焊线、Mold前电浆清洗、塑封成型、PMC模后固化、烘烤、打标、植球、洗板等。项目不涉及晶圆基底生长、掩膜设计、前处理等生产工序;项目设置进行物理性质测试的研发实验室,不涉及动物实验、P3和P4实验、化学和生物实验。

主要环境影响及预防或者减轻不良环境影响的对策和措施:

主要环境影响及预防或者减轻不良环境影响的对策和措施:项目开槽废水及清洗废水、纯水制备RO膜清洗废水经 (略) (略) (略) 排入沙井水质 (略) 理,废水回用系统浓水、纯水制备系统浓水及反冲 (略) (略) 排入沙井水质 (略) 理;项目水喷淋装置废水及冷却废水循环使用,不外排;研磨切割废水及纯水制备系统二级浓水全部回用,不外排。项目废气经分 (略) 理达标后高空排放。项目噪声源采取消声、减振、隔声等措施后达标排放。项目危险废物委托具有危 (略) 理处置资质单 (略) 理处置,一般工业固体废物交由专 (略) 理处置。

    
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