项目名称

高精密半导体光掩模基板与高世代FPD光掩模基板制造基地项目

建设单位

韶光芯材(浏阳) (略)

设计单位

信息产业电子第十 (略) (略)

建设地点

(略) 经济技 (略) (略) (略) 交叉口东北角

基本情况

地块规划用地面积*.58㎡，建筑密度42.11%，绿地率为11.65%，容积率为1.84，小车停车位67个，总建筑面积*.38㎡，拟建设5栋建筑，包括生 1#生产厂房、2#生产厂房、3#生产厂房、4#动力厂房、5#*类仓库等。

公示期限

7个工作日（2024.12.24-2024.1.2）

联系地址

浏 (略) (略) 紫星广场14栋政务服务大厅

联系电话

0731-*

附图

高精密半导体光掩模基板与高世代FPD光掩模基板制造基地项目总平面图

备注

有关利害关系人及社会各界人士如有异议，请在公示 (略) 提出书面意见，您的合理意见将作为规划审批的参考依据之一（您的意见或建议恕不一一函复）。

项目名称

高精密半导体光掩模基板与高世代FPD光掩模基板制造基地项目

建设单位

韶光芯材(浏阳) (略)

设计单位

信息产业电子第十 (略) (略)

建设地点

(略) 经济技 (略) (略) (略) 交叉口东北角

基本情况

地块规划用地面积*.58㎡，建筑密度42.11%，绿地率为11.65%，容积率为1.84，小车停车位67个，总建筑面积*.38㎡，拟建设5栋建筑，包括生 1#生产厂房、2#生产厂房、3#生产厂房、4#动力厂房、5#*类仓库等。

公示期限

7个工作日（2024.12.24-2024.1.2）

联系地址

浏 (略) (略) 紫星广场14栋政务服务大厅

联系电话

0731-*

附图

高精密半导体光掩模基板与高世代FPD光掩模基板制造基地项目总平面图

备注

有关利害关系人及社会各界人士如有异议，请在公示 (略) 提出书面意见，您的合理意见将作为规划审批的参考依据之一（您的意见或建议恕不一一函复）。