项目名称

广东工业大学大 (略) 半导体微 (略) 建设项目

建设地点

广东广 (略)

建设单位

广东工业大学

项目概况

广东工业大学大 (略) 半导体微 (略) 建设项 (略) (略) 小谷围街道大学 (略) 100号广东工业大学大 (略) 理学馆一楼南 (略) ，申报内容为从事金属氧化物半导体场效应晶体管研发，年研发2000片。该项目建筑面积1800平方米，使用1栋7层建筑物首层 (略) 域；主要设备有单片清洗系统1套、湿法刻蚀与清洗系统5套、等离子刻蚀机5台、气相刻蚀机1台、刻蚀机1台、等离子清洗机1台、去胶机1台、化学气相沉积设备3台、等离子体原子层沉积设备1台、磁控溅射机5台、脉冲激光沉积（PLD）1台、真空镀膜机1台、金属真空电子束蒸镀仪2台、纳米压印系统1台、光刻机5台、电子束曝光系统1套、全自动涂胶显影机1台、高真空蒸发镀膜系统1套、扩散炉1台、光绘机2台、空压机2台、纯水系统1套等；员工100名，内部不安排食宿。

环评机构

广州经济技 (略) (略)

主要环境影响及预防或减轻不良环境影响的对策和措施

（一）项目排水系统采用雨污分流。试验废水经新 (略) (略) 理后与纯水制备产生的浓水、生活污水 (略) (略) (略) (略) ，送沥滘净水 (略) 理。该项目生活污水依托所在建筑物已有生活污水排放口排放，设置试验废水排放口1个、清净下水排放口1个。
（二）按照广东省《固定污染源挥发性有机物综合排放标准》（DB44/2367-2022）的无组织排放控制要求落实相关措施。碱洗、显影工序产生的废气经收集至酸液 (略) 理；酸洗、湿法刻蚀工序产生的废气与经“等离子燃烧+水洗” (略) 理后的干法刻蚀、化学气相沉积、干洗清洗、原子层沉积废气一并经碱液 (略) 理；湿法去胶、物理气相沉积的硅片清洗工序与光刻的预烘烤、底漆涂覆、涂胶、前烘、曝光后烘烤、硬烘烤工序产生的废气经收集至二级活性炭吸 (略) 理；上述 (略) 理达标后通过专用管道引至所在建筑物楼顶高空排放。项目设置废气排放口1个。
加强车间边界无组织排放废气的监控，确保车间边界无组织排放监控点的废气达到相应标准限值的要求，监测超标时应加强对无组织排放废气的收集 (略) 理。
（三）选用低噪声设备， (略) ，高噪声源应采取隔声、减振等措施，定期检修设备。
（四）酸洗废液、蚀刻废液、碱洗废液、显影废液、废光刻胶、废六*基二硅氮烷、废三氯*烯、废*酮、废*酸*酯、废化学试剂瓶、废活性炭、废UV灯管等属于危险废物的须设置符合《危险废物贮存污染控制标准》（*）要求的专用贮存场所存放并委托具备危 (略) 理资质 (略) 理。

公众参与情况

项目名称

广东工业大学大 (略) 半导体微 (略) 建设项目

建设地点

广东广 (略)

建设单位

广东工业大学

项目概况

广东工业大学大 (略) 半导体微 (略) 建设项 (略) (略) 小谷围街道大学 (略) 100号广东工业大学大 (略) 理学馆一楼南 (略) ，申报内容为从事金属氧化物半导体场效应晶体管研发，年研发2000片。该项目建筑面积1800平方米，使用1栋7层建筑物首层 (略) 域；主要设备有单片清洗系统1套、湿法刻蚀与清洗系统5套、等离子刻蚀机5台、气相刻蚀机1台、刻蚀机1台、等离子清洗机1台、去胶机1台、化学气相沉积设备3台、等离子体原子层沉积设备1台、磁控溅射机5台、脉冲激光沉积（PLD）1台、真空镀膜机1台、金属真空电子束蒸镀仪2台、纳米压印系统1台、光刻机5台、电子束曝光系统1套、全自动涂胶显影机1台、高真空蒸发镀膜系统1套、扩散炉1台、光绘机2台、空压机2台、纯水系统1套等；员工100名，内部不安排食宿。

环评机构

广州经济技 (略) (略)

主要环境影响及预防或减轻不良环境影响的对策和措施

（一）项目排水系统采用雨污分流。试验废水经新 (略) (略) 理后与纯水制备产生的浓水、生活污水 (略) (略) (略) (略) ，送沥滘净水 (略) 理。该项目生活污水依托所在建筑物已有生活污水排放口排放，设置试验废水排放口1个、清净下水排放口1个。
（二）按照广东省《固定污染源挥发性有机物综合排放标准》（DB44/2367-2022）的无组织排放控制要求落实相关措施。碱洗、显影工序产生的废气经收集至酸液 (略) 理；酸洗、湿法刻蚀工序产生的废气与经“等离子燃烧+水洗” (略) 理后的干法刻蚀、化学气相沉积、干洗清洗、原子层沉积废气一并经碱液 (略) 理；湿法去胶、物理气相沉积的硅片清洗工序与光刻的预烘烤、底漆涂覆、涂胶、前烘、曝光后烘烤、硬烘烤工序产生的废气经收集至二级活性炭吸 (略) 理；上述 (略) 理达标后通过专用管道引至所在建筑物楼顶高空排放。项目设置废气排放口1个。
加强车间边界无组织排放废气的监控，确保车间边界无组织排放监控点的废气达到相应标准限值的要求，监测超标时应加强对无组织排放废气的收集 (略) 理。
（三）选用低噪声设备， (略) ，高噪声源应采取隔声、减振等措施，定期检修设备。
（四）酸洗废液、蚀刻废液、碱洗废液、显影废液、废光刻胶、废六*基二硅氮烷、废三氯*烯、废*酮、废*酸*酯、废化学试剂瓶、废活性炭、废UV灯管等属于危险废物的须设置符合《危险废物贮存污染控制标准》（*）要求的专用贮存场所存放并委托具备危 (略) 理资质 (略) 理。

公众参与情况