年产3000吨芯片CMP关键材料及系列抛光液建设项目

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年产3000吨芯片CMP关键材料及系列抛光液建设项目



项目基本信息年产 * 吨芯片CMP关键材料及系列抛光液建设项目 (略) 内现有土地 * 平方米, (略) 房约 * 0平方米,开发年 * 吨芯片CMP抛光液核心原材料“高纯电子级硅溶胶分散液”,及其系列产品“硅晶圆片抛光用成品CMP抛光液”以及 “铜及铜阻挡层抛光用成品CMP抛光液”。主要生产工艺:高纯硅酸溶液制备,硅溶胶合成,浓缩,提纯;高纯电子级硅溶胶与其他活性添加剂混合、搅拌、过滤.,灌装等;主要生产用设备:纯水系统,反应釜,过滤器,存储罐,搅拌罐,灌装机等。项目建成后预计年综合能耗 * 吨/标准煤。
项目名称项目代码 点击查看>> - * - 点击查看>>
行业类别制造业-其他制造业项目建设性质新建
项目建设地 (略) 市- (略) 经济技术产业集聚区- (略) 经济技术开发区第十 * 大街与经南 * 北 * 路交叉口东 * 米 (略) 计划开工年限 点击查看>>
估算总投资(万元) * 0计划完工年限 点击查看>>
建设规模及内容
项目单位信息
单位名称 (略) 联合 (略) 法人代表姓名汪静
单位性质股份制企业

办理结果信息

(略) 门 审批事项 审批时间 审批结果 审批文号 监管告知信息
(略) 经济技术产业 (略) 企业投资项目备案 点击查看>> 已备案 点击查看>> - * - 点击查看>> 暂无告知信息


项目基本信息年产 * 吨芯片CMP关键材料及系列抛光液建设项目 (略) 内现有土地 * 平方米, (略) 房约 * 0平方米,开发年 * 吨芯片CMP抛光液核心原材料“高纯电子级硅溶胶分散液”,及其系列产品“硅晶圆片抛光用成品CMP抛光液”以及 “铜及铜阻挡层抛光用成品CMP抛光液”。主要生产工艺:高纯硅酸溶液制备,硅溶胶合成,浓缩,提纯;高纯电子级硅溶胶与其他活性添加剂混合、搅拌、过滤.,灌装等;主要生产用设备:纯水系统,反应釜,过滤器,存储罐,搅拌罐,灌装机等。项目建成后预计年综合能耗 * 吨/标准煤。
项目名称项目代码 点击查看>> - * - 点击查看>>
行业类别制造业-其他制造业项目建设性质新建
项目建设地 (略) 市- (略) 经济技术产业集聚区- (略) 经济技术开发区第十 * 大街与经南 * 北 * 路交叉口东 * 米 (略) 计划开工年限 点击查看>>
估算总投资(万元) * 0计划完工年限 点击查看>>
建设规模及内容
项目单位信息
单位名称 (略) 联合 (略) 法人代表姓名汪静
单位性质股份制企业

办理结果信息

(略) 门 审批事项 审批时间 审批结果 审批文号 监管告知信息
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