双光束超分辨光刻机产业化基地一期
双光束超分辨光刻机产业化基地一期
项目代码: | 点击查看>> - * - 点击查看>> | 项目名称: | 双光束超分辨光 (略) * 期 |
单位名称: | (略) 光电工 (略) | 项目法人: | 韩道 |
建设地点: | 韩杨路1号及光电创新园1期1号楼 | 申报单位经济类型: | 国有及国有控股企业 |
(略) 属行业: | 制造业 - 专用设备制造业 - 电子和电工机械专用设备制造 - 半导体器件专用设备制造 | 项目总投资(万元): | * |
建设性质: | 新建 | 计划开工时间: | 点击查看>> |
审核状态: | 已审核通过 | ||
主要建设规模及内容: | 购置飞秒激光器、纳米位移台、材料分析和蒸镀等 * 万元以上设备共 * 台套,建设光芯片制造用双光束超分辨光刻机的工程化实验室和 * 期生产车间。建成后光芯片制造用双光束超分辨光刻机的年产能达到5台,年产值达到 * 万元。 |
项目代码: | 点击查看>> - * - 点击查看>> | 项目名称: | 双光束超分辨光 (略) * 期 |
单位名称: | (略) 光电工 (略) | 项目法人: | 韩道 |
建设地点: | 韩杨路1号及光电创新园1期1号楼 | 申报单位经济类型: | 国有及国有控股企业 |
(略) 属行业: | 制造业 - 专用设备制造业 - 电子和电工机械专用设备制造 - 半导体器件专用设备制造 | 项目总投资(万元): | * |
建设性质: | 新建 | 计划开工时间: | 点击查看>> |
审核状态: | 已审核通过 | ||
主要建设规模及内容: | 购置飞秒激光器、纳米位移台、材料分析和蒸镀等 * 万元以上设备共 * 台套,建设光芯片制造用双光束超分辨光刻机的工程化实验室和 * 期生产车间。建成后光芯片制造用双光束超分辨光刻机的年产能达到5台,年产值达到 * 万元。 |
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