双光束超分辨光刻机产业化基地一期

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双光束超分辨光刻机产业化基地一期


项目代码: 点击查看>> - * - 点击查看>> 项目名称:双光束超分辨光 (略) * 期
单位名称: (略) 光电工 (略) 项目法人:韩道
建设地点:韩杨路1号及光电创新园1期1号楼申报单位经济类型:国有及国有控股企业
(略) 属行业:制造业 - 专用设备制造业 - 电子和电工机械专用设备制造 - 半导体器件专用设备制造项目总投资(万元): *
建设性质:新建计划开工时间: 点击查看>>
审核状态:已审核通过
主要建设规模及内容:购置飞秒激光器、纳米位移台、材料分析和蒸镀等 * 万元以上设备共 * 台套,建设光芯片制造用双光束超分辨光刻机的工程化实验室和 * 期生产车间。建成后光芯片制造用双光束超分辨光刻机的年产能达到5台,年产值达到 * 万元。

项目代码: 点击查看>> - * - 点击查看>> 项目名称:双光束超分辨光 (略) * 期
单位名称: (略) 光电工 (略) 项目法人:韩道
建设地点:韩杨路1号及光电创新园1期1号楼申报单位经济类型:国有及国有控股企业
(略) 属行业:制造业 - 专用设备制造业 - 电子和电工机械专用设备制造 - 半导体器件专用设备制造项目总投资(万元): *
建设性质:新建计划开工时间: 点击查看>>
审核状态:已审核通过
主要建设规模及内容:购置飞秒激光器、纳米位移台、材料分析和蒸镀等 * 万元以上设备共 * 台套,建设光芯片制造用双光束超分辨光刻机的工程化实验室和 * 期生产车间。建成后光芯片制造用双光束超分辨光刻机的年产能达到5台,年产值达到 * 万元。
    
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