中国科学院2020年7至12月政府采购意向-电子枪真空镀膜机
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中国科学院2020年7至12月政府采购意向-电子枪真空镀膜机
| 电子枪真空镀膜机 | |
| (略) 在采购意向： | (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) (略) (略) |
| 采购项目名称： | 电子枪真空镀膜机 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 金属喷涂设备 |
| 采购需求概况： | 1. 真空室尺寸：真空室内腔直径 * mm ，高度不低于 * mm； 2. 设备总高度：＜3m；3. 设备能耗：待机时能耗约 * kW， 抽真空且加热时能耗约 * kW， 蒸镀时能耗约 * kW；4. 真空室排气性能：极限压力(极限真空度):优于8E-5 Pa；恢复真空时间:从大气抽到3E-3 Pa不超过 * 分钟；保真空：抽到极限真空度后，关闭高真空阀 * 小时后，真空室真空度≤9.0E-2Pa；漏气速率：低于 9.0E-5Pa？m3/秒5. 基片架：整体帽形工作盘，转速在3— * rpm，连续可调；6. 基片烘烤温度：采用上烘烤与下烘烤两种加热方式，上烘烤最高 * ℃，下烘烤最高 * ℃，控温精度±1℃，PID控制，基片烘烤温度均匀性为 * ℃± * ℃（ * min内）；7. 工作气体充气系统：预留4路流量计接口；8. 膜厚监控方式：进口石英晶体振荡膜厚检测仪， * 探头；9. 蒸发源：配备进口电子枪（ * kW， * °偏转）及电源JST- * F（电压 -4～- * kV，电流 0～1.0A）； |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | (略) (略) (略) |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
| 电子枪真空镀膜机 | |
| (略) 在采购意向： | (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) (略) (略) |
| 采购项目名称： | 电子枪真空镀膜机 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 金属喷涂设备 |
| 采购需求概况： | 1. 真空室尺寸：真空室内腔直径 * mm ，高度不低于 * mm； 2. 设备总高度：＜3m；3. 设备能耗：待机时能耗约 * kW， 抽真空且加热时能耗约 * kW， 蒸镀时能耗约 * kW；4. 真空室排气性能：极限压力(极限真空度):优于8E-5 Pa；恢复真空时间:从大气抽到3E-3 Pa不超过 * 分钟；保真空：抽到极限真空度后，关闭高真空阀 * 小时后，真空室真空度≤9.0E-2Pa；漏气速率：低于 9.0E-5Pa？m3/秒5. 基片架：整体帽形工作盘，转速在3— * rpm，连续可调；6. 基片烘烤温度：采用上烘烤与下烘烤两种加热方式，上烘烤最高 * ℃，下烘烤最高 * ℃，控温精度±1℃，PID控制，基片烘烤温度均匀性为 * ℃± * ℃（ * min内）；7. 工作气体充气系统：预留4路流量计接口；8. 膜厚监控方式：进口石英晶体振荡膜厚检测仪， * 探头；9. 蒸发源：配备进口电子枪（ * kW， * °偏转）及电源JST- * F（电压 -4～- * kV，电流 0～1.0A）； |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | (略) (略) (略) |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
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