中国科学院2020年12月政府采购意向-工件镀膜设备预算金额追加采购意向公告

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中国科学院2020年12月政府采购意向-工件镀膜设备预算金额追加采购意向公告





工件镀膜设备预算金额追加
(略) 在采购意向: (略) * 年 * 月政府采购意向
采购单位: (略) (略) (略)
采购项目名称:工件镀膜设备预算金额追加
预算金额: * . 点击查看>> 万元(人民币)
采购品目:

A 点击查看>> 金属喷涂设备

采购需求概况 :

碗状工件镀膜设备;数量:1套;主要功能:实现对碗状工件的磁控溅射镀膜和电子束蒸发镀膜,其中磁控溅射镀膜系统具有衬底低能电子衍射(LEED)和反射高能电子衍射(RHEED)测量功能。设备质保期1年。大尺寸平板工件镀膜设备;数量:1套;功能:实现对大尺寸平面工件的磁控溅射镀膜,磁控溅射系统具有高功率脉冲电源和射频电源,分别实现介质膜和金属膜的制备。设备质保期1年。本次为预算金额追加,不是新增。

预计采购时间: 点击查看>>
备注:

(略) (略) (略)


本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排, (略) 和采购文件为准。







工件镀膜设备预算金额追加
(略) 在采购意向: (略) * 年 * 月政府采购意向
采购单位: (略) (略) (略)
采购项目名称:工件镀膜设备预算金额追加
预算金额: * . 点击查看>> 万元(人民币)
采购品目:

A 点击查看>> 金属喷涂设备

采购需求概况 :

碗状工件镀膜设备;数量:1套;主要功能:实现对碗状工件的磁控溅射镀膜和电子束蒸发镀膜,其中磁控溅射镀膜系统具有衬底低能电子衍射(LEED)和反射高能电子衍射(RHEED)测量功能。设备质保期1年。大尺寸平板工件镀膜设备;数量:1套;功能:实现对大尺寸平面工件的磁控溅射镀膜,磁控溅射系统具有高功率脉冲电源和射频电源,分别实现介质膜和金属膜的制备。设备质保期1年。本次为预算金额追加,不是新增。

预计采购时间: 点击查看>>
备注:

(略) (略) (略)


本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排, (略) 和采购文件为准。



    
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