中国科学院2020年12月政府采购意向-工件镀膜设备预算金额追加采购意向公告
中国科学院2020年12月政府采购意向-工件镀膜设备预算金额追加采购意向公告
工件镀膜设备预算金额追加 | |
(略) 在采购意向: | (略) * 年 * 月政府采购意向 |
采购单位: | (略) (略) (略) |
采购项目名称: | 工件镀膜设备预算金额追加 |
预算金额: | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
采购品目: | A 点击查看>> 金属喷涂设备 |
采购需求概况 : | 碗状工件镀膜设备;数量:1套;主要功能:实现对碗状工件的磁控溅射镀膜和电子束蒸发镀膜,其中磁控溅射镀膜系统具有衬底低能电子衍射(LEED)和反射高能电子衍射(RHEED)测量功能。设备质保期1年。大尺寸平板工件镀膜设备;数量:1套;功能:实现对大尺寸平面工件的磁控溅射镀膜,磁控溅射系统具有高功率脉冲电源和射频电源,分别实现介质膜和金属膜的制备。设备质保期1年。本次为预算金额追加,不是新增。 |
预计采购时间: | 点击查看>> |
备注: | (略) (略) (略) |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排, (略) 和采购文件为准。
工件镀膜设备预算金额追加 | |
(略) 在采购意向: | (略) * 年 * 月政府采购意向 |
采购单位: | (略) (略) (略) |
采购项目名称: | 工件镀膜设备预算金额追加 |
预算金额: | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
采购品目: | A 点击查看>> 金属喷涂设备 |
采购需求概况 : | 碗状工件镀膜设备;数量:1套;主要功能:实现对碗状工件的磁控溅射镀膜和电子束蒸发镀膜,其中磁控溅射镀膜系统具有衬底低能电子衍射(LEED)和反射高能电子衍射(RHEED)测量功能。设备质保期1年。大尺寸平板工件镀膜设备;数量:1套;功能:实现对大尺寸平面工件的磁控溅射镀膜,磁控溅射系统具有高功率脉冲电源和射频电源,分别实现介质膜和金属膜的制备。设备质保期1年。本次为预算金额追加,不是新增。 |
预计采购时间: | 点击查看>> |
备注: | (略) (略) (略) |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排, (略) 和采购文件为准。
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