中国科学院光电技术研究所2021年3至5月政府意向-高真空电子蒸发纳米膜层沉积系统意向公告招标公告
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中国科学院光电技术研究所2021年3至5月政府意向-高真空电子蒸发纳米膜层沉积系统意向公告招标公告
| 高真空电子蒸发纳米膜层沉积系统 | |
| (略) 在采购意向： | (略) 光 (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 光 (略) |
| 采购项目名称： | 高真空电子蒸发纳米膜层沉积系统 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： |
A 点击查看>> |
| 采购需求概况 ： |
在微纳工艺过程中，需要电子束蒸镀设备用于微纳结构电磁增强层的沉积，SiO2、SiNx等介质层的沉积以及Si等半导体层的沉积。电子束蒸镀设备的镀膜方式包括阻蒸、电子束蒸镀，是本项目中关键膜层制备的必需设备；项目对其镀膜速率、膜厚精度和膜厚均匀性提出了极 (略) 求。现有设备条件无法同时满足上述需求，因此需要购置相应设备。 |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
| 高真空电子蒸发纳米膜层沉积系统 | |
| (略) 在采购意向： | (略) 光 (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 光 (略) |
| 采购项目名称： | 高真空电子蒸发纳米膜层沉积系统 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： |
A 点击查看>> |
| 采购需求概况 ： |
在微纳工艺过程中，需要电子束蒸镀设备用于微纳结构电磁增强层的沉积，SiO2、SiNx等介质层的沉积以及Si等半导体层的沉积。电子束蒸镀设备的镀膜方式包括阻蒸、电子束蒸镀，是本项目中关键膜层制备的必需设备；项目对其镀膜速率、膜厚精度和膜厚均匀性提出了极 (略) 求。现有设备条件无法同时满足上述需求，因此需要购置相应设备。 |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
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