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该设备可应用于大口径薄膜光学成像系统中的关键光学元件“大口径薄膜微结构次镜”的加工过程检测。表面微纳颗粒快速检测仪可以有效提高大口径次镜的微纳结构的制备成功率和加工效率，是开展相关方向研究的重要保障。因此急需 * 台测量口径能达到 * mm以上的表面微纳颗粒快速（测量时间≤ * min）检测仪，检测的颗粒粒径能够到 * nm以下。目前国 (略) ，如中芯国际，华为等，都有表面微纳颗粒快速检测仪，因为其是保障光刻工艺稳定、高成品率的重要手段。但是这些企业都将此类设备作为常用设备，任务量很紧，不具备外协的可能性。另外，表面微纳颗粒快速检测仪需要在 * 级的洁净环境下工作以保证测量不会给掩模和基片带来额外的污染，保证测量结果的准确性，因此不适合将光刻掩模和基片来回搬运，这样将失去检测的意义。同时掩模和基片检测 (略) 光刻，具有及时性。 (略) 述，表面微纳颗粒快速检测根本不能外协。因此，项目亟需该设备对 (略) 测试。采购1台。合同签订后9个月内到货。

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该设备可应用于大口径薄膜光学成像系统中的关键光学元件“大口径薄膜微结构次镜”的加工过程检测。表面微纳颗粒快速检测仪可以有效提高大口径次镜的微纳结构的制备成功率和加工效率，是开展相关方向研究的重要保障。因此急需 * 台测量口径能达到 * mm以上的表面微纳颗粒快速（测量时间≤ * min）检测仪，检测的颗粒粒径能够到 * nm以下。目前国 (略) ，如中芯国际，华为等，都有表面微纳颗粒快速检测仪，因为其是保障光刻工艺稳定、高成品率的重要手段。但是这些企业都将此类设备作为常用设备，任务量很紧，不具备外协的可能性。另外，表面微纳颗粒快速检测仪需要在 * 级的洁净环境下工作以保证测量不会给掩模和基片带来额外的污染，保证测量结果的准确性，因此不适合将光刻掩模和基片来回搬运，这样将失去检测的意义。同时掩模和基片检测 (略) 光刻，具有及时性。 (略) 述，表面微纳颗粒快速检测根本不能外协。因此，项目亟需该设备对 (略) 测试。采购1台。合同签订后9个月内到货。