中国科学院光电技术研究所2021年3至5月政府意向-磁控溅射 招标公告
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中国科学院光电技术研究所2021年3至5月政府意向-磁控溅射 招标公告
| 磁控溅射 | |
| (略) 在采购意向： | (略) 光 (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 光 (略) |
| 采购项目名称： | 磁控溅射 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： |
A 点击查看>> |
| 采购需求概况 ： |
在微纳工艺中，磁控溅射设备是制备微纳结构膜层的必需设备，为实现高精度、高质量的大面机膜层沉积，需要磁控溅射具备严格可控的的镀膜精度和镀膜均匀性，能够兼容多个材料尺寸以满足不同规格的镀膜要求；为实现多样化表面膜层制备，需要设备具有SiO2、SiNx等介质层，Cr、 、Cu、W等金属层的沉积能力；同时具备较高的自动化镀膜能力。现有设备条件无法同时满足上述需求，因此需要购置相应设备。 |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： |
|
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
| 磁控溅射 | |
| (略) 在采购意向： | (略) 光 (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 光 (略) |
| 采购项目名称： | 磁控溅射 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： |
A 点击查看>> |
| 采购需求概况 ： |
在微纳工艺中，磁控溅射设备是制备微纳结构膜层的必需设备，为实现高精度、高质量的大面机膜层沉积，需要磁控溅射具备严格可控的的镀膜精度和镀膜均匀性，能够兼容多个材料尺寸以满足不同规格的镀膜要求；为实现多样化表面膜层制备，需要设备具有SiO2、SiNx等介质层，Cr、 、Cu、W等金属层的沉积能力；同时具备较高的自动化镀膜能力。现有设备条件无法同时满足上述需求，因此需要购置相应设备。 |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： |
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本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
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