-高精度紫外光刻系统招标预告
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-高精度紫外光刻系统招标预告
| 高精度紫外光刻系统 | |
| (略) 在采购意向： | (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) |
| 采购项目名称： | 高精度紫外光刻系统 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： |
A 点击查看>> 其他仪器仪表 |
| 采购需求概况： |
在微纳器件加工过程中，实现高精度图形化制备的前提就是拥有 * 台高性能的光刻机，用以制备高精度的光刻胶掩膜层。紫外曝光机是半导体微纳电子器件加工中最基本也是最重要的 * 种，是研究亚微米尺度器件的理想工具。 * 般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。采用紫外光源，可制作亚微米(最小线宽0.5 ?m)的图形。是微纳器件加工制作工艺中的重要设备，用于各种微器件的制作和低维人工结构的形成，如制作微电子器件，光电子器件，生物传感器，微机电系统，超导电子学器件，磁电子学器件等器件结构，是微纳加工中最关键的设备之 * 。 |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
| 高精度紫外光刻系统 | |
| (略) 在采购意向： | (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) |
| 采购项目名称： | 高精度紫外光刻系统 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： |
A 点击查看>> 其他仪器仪表 |
| 采购需求概况： |
在微纳器件加工过程中，实现高精度图形化制备的前提就是拥有 * 台高性能的光刻机，用以制备高精度的光刻胶掩膜层。紫外曝光机是半导体微纳电子器件加工中最基本也是最重要的 * 种，是研究亚微米尺度器件的理想工具。 * 般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。采用紫外光源，可制作亚微米(最小线宽0.5 ?m)的图形。是微纳器件加工制作工艺中的重要设备，用于各种微器件的制作和低维人工结构的形成，如制作微电子器件，光电子器件，生物传感器，微机电系统，超导电子学器件，磁电子学器件等器件结构，是微纳加工中最关键的设备之 * 。 |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
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