松山湖材料实验室2021年02月至2021年12月政府采购意向
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松山湖材料实验室2021年02月至2021年12月政府采购意向
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《 (略) 关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔 * 〕 * 号）等有关规定，现将本单位 * 年 * 月至 * 年 * 月采购意向公开如下：
| 序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额(元) | 预计采购时间 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 微区扫描ＸＲＤ | 标的名称:微区扫描ＸＲＤ；标的数量:1；主要功能或目标:主要用于研究晶体结构（如原子或离子及其基团的种类和位置分布，晶体形状和大小等），特别适用于晶体物质的物相分析；需满足的要求:"微区扫描ＸＲＤ； 系统性能须达到如下条件：（1）主配9 KW转靶X射线产生器；（2）配备面内面外高精度机械探测器，同时配备点探测器、 * 维探测器以及 * 位探测器；（3）配备高性能双晶单色器；（4）具有± * mm的微曲扫描探测功能，探测光斑口径达0.1mm；（5）具有单晶薄膜常用高阶结构表征功能以及配备对应的控制和分析系统； "； | 3, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 2 | (略) 大尺寸低温恒温器 | 标的名称: (略) 大尺寸低温恒温器；标的数量:1；主要功能或目标:闭循环制冷，无需灌液氦；样品腔体为铝制，适合中子散射实验；；需满足的要求:" (略) 大尺寸低温恒温器； 系统性能须达到如下条件：（1）4英寸口径低温恒温平台；（2）4K~ * K的稳定控温；（3） * ~ * 位的连线接口；（4）配备光学耦合窗口；（5）具备1T到3T (略) 环境； "； | 2, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 3 | 傅里叶变换红外显微扫描光谱仪 | 标的名称:傅里叶变换红外显微扫描光谱仪；标的数量:1；主要功能或目标:基于对干涉后 (略) 傅里叶变换的原理而开发的红外光谱仪，主要由红外光源、光阑、干涉仪、样品室、检测器以及各种红外反射镜、激光器、控制电路板和电源组成。可 (略) 定性和定量分析；需满足的要求:谱仪为傅里叶变换光谱仪，可同时满足透射、反射等测试模式；谱仪可探测光谱范围不低于 * cm-1 - * 0cm-1；扫描速率 1.6 – * kHz 或更高；配备远红外、中红外、近红外/可见光、紫外光等各波段探测器、分光器以及相应光源；谱仪腔体配备真空系统；谱仪腔体提供可选择的腔体前、后、左、右拓展光路窗口；提供专业的测试软件；红外显微镜放大倍率不低于 * 倍；具有显微成像接口；x-y微位移自 (略) 程不低于 * x * mm，精度不低于0.1μm, 位置可重复性好于1μm；； | 3, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 4 | 电子束曝光设备 | 标的名称:电子束曝光设备；标的数量:1；主要功能或目标:用于各种微纳器件与纳米人工结构的制作，是研究材料在低维度、小 (略) 为的重要工具，也可用于直写高精度的光刻模板。如可用于制作下列器件与结构：微纳电子器件，光电子器件，生物传感器，微纳机电系统，超导电子学器件，磁电子学器件，低维材料输运性质测量的纳米电极。；需满足的要求:"1、最大加速电压： * kV； 2、最小曝光线宽： * nm； 3、最大兼容样品尺寸：8inch； 4、最小束斑尺寸：优于2nm； 5、套刻精度：优于 * nm。"； | * , * , * . * | * 年 * 月 | |
| 5 | 半自动兆声清洗机 | 标的名称:半自动兆声清洗机；标的数量:1；主要功能或目标:兆声波清洗抛光片可去掉晶片表面上小于0.2μm的粒子,起到超声波起不到的作用。这种方法能同时起到机械擦片和化学清洗两种方法的作用。；需满足的要求:"1、样品尺寸最大兼容： * 寸晶圆； 2、DI水喷头流量可调节； 3、兆声频率：不小于1MHz； 4、4寸及以上晶圆可以干进干出； 5、DI兆声喷头持续滴流系统。"； | 1, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 6 | 半自动键合机 | 标的名称:半自动键合机；标的数量:1；主要功能或目标:能够实现混合键合工艺、异质键合、直接键合和胶键合等工艺。主要应用于2.5D和3D集成领域，MEMS、LED和半导体功率器件的制造和封装。；需满足的要求:"1、样品尺寸最大兼容：8寸； 2、压力最大： * kN； 3、最大加热温度： * ℃； 4、上下压盘：独立控温； 5、未来可升级为双腔键合； 6、腔体为上开盖设计。"； | 6, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 7 | 真空键合系统 | 标的名称:真空键合系统；标的数量:1；主要功能或目标:能够在低温或常温条件下，实现晶圆或基片的直接键合。主要应用太阳能电池、MEMS封装、精密加工、功率半导体、 * 维大规模集成电路等。；需满足的要求:"1、样品尺寸最大兼容：4寸； 2、压力最大：4kN； 3、具有表面活化能力； 4、腔体真空度：不高于5.0*1E-6Pa。"； | 3, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 8 | 反应离子刻蚀设备 | 标的名称:反应离子刻蚀设备；标的数量:1；主要功能或目标:实现各类微电子与光电子芯片，MEMS&NEMS，硅基光电子，3D混合集成芯片等的微纳制备过程中刻蚀工艺，主要刻蚀Si、SiO2以及SiNx等材料。；需满足的要求:"1、晶圆尺寸：2、4、6、8inc兼容； 2、Si材料刻蚀速率> * nm/min，侧壁角度> * 度，刻蚀均匀性<5%； 3、SiO2材料刻蚀速率> * nm/min，侧壁角度> * 度，刻蚀均匀性<5%； 4、SiNx材料刻蚀速率> * nm/min，侧壁角度> * 度，刻蚀均匀性<5%。"； | 2, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 9 | 扫描电化学显微系统 | 标的名称:扫描电化学显微系统；标的数量:1；主要功能或目标:计划采购扫描电化学显微系统 * 套，通过测量针尖-样品体系氧化还原反应导致的电化学电流，表 (略) 域电化学活性；能结合扫描探针，实现恒高模式下高空间分辨电化学成像；同时探针提供气体和液体加样，在很小的范围内表征原位反应等，与液相Raman组件联用,完成AFM-SECM-Raman的联合测试功能。反馈扫描分辨率XY方向优于 * nm、Z方向优于2nm，灵敏度(Amps/V) * - * 到0.1。；需满足的要求:计划购置扫描电化学显微系统1套。计划购置设备的性能指标及实验要求必须满足如下条件：1.包含反馈扫描功能，使用玻璃探针，提供垂直方向的开放光路；2. 具有液相Raman组件,能完成AFM-SECM-Raman的联合测试功能；3. 反馈扫描分辨率XY方向优于 * nm、Z方向优于2nm；4. 灵敏度(Amps/V) * ^- * 到0.1；5. 扫描范围XYZ都可达 * 微米；6. 配备水浸物镜、光谱配件、减震系统及法拉第笼。； | 2, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 扫描俄歇电子能谱仪采购项目 | 标的名称:扫描俄歇电子能谱仪采购项目；标的数量:1；主要功能或目标:计划采购扫描俄歇能谱仪 * 台，用于检测样品极表面甚至单个原子层尺度的化学性质及组成成分。；需满足的要求:设备组成包括电子能量分析器、扫描俄歇电子能谱真空系统、可液氦冷却4轴样品台、超高真空分辨扫描电子显微镜、用于深度剖析的溅射离子源组件和超高真空兼容聚焦离子束系统，可实现逐层剥离，微区精确检测。设备应具备安放及维护，提供配套软件，具备操作方便快捷、对人体健康无害等特点。； | * , * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 双半球空间动量显微能谱仪采购项目 | 标的名称:双半球空间动量显微能谱仪采购项目；标的数量:1；主要功能或目标:计划采购双半球空间动量显微能谱仪 * 台，用于微尺度领域的原位显微成像、衍射和光电子能谱研究，可同时获得样品实空间和动量空间的显微信息。；需满足的要求:系统具有μ-ARPES和PEEM双工作模式，可在实空间和动量空间切换。配备强度大、能量展束窄、光斑小的紫外光源以及低温3轴样品台，腔体及真空系统能够实现超高真空环境以及优异的磁屏蔽。PEEM横向分辨率优于 * nm；K空间分辨率优于0. * 1/?；双半球能量分辨率优于 * meV；紫外光源光斑直径小于 * μm；样品台温度范围< * K- * K。； | 8, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 超高真空互联系统采购项目 | 标的名称:超高真空互联系统采购项目；标的数量:1；主要功能或目标:计划采购超高真空互联系统 * 套，系统包含3个UFO样品传输与腔体互联系统以及 * 个多功能原子力显微镜系统，主要用于材料生长、器件制备、测试分析的大型真空仪器设备之间的互联，保证样品在不同设备之间传送时期表面不发生氧化、污染及不被外 (略) 破坏；原子力显微镜主要用于原子分辨成像、检测薄膜粗糙度及表征薄膜多种物理性能等。；需满足的要求:UFO腔体配套相互之间的连接及样品传输装置。多功能原子力显微镜扫描头可实现 * - * K变温；可实现STM、接触式AFM、非接触式AFM以及原子操纵等功能，包含锁相环模式和KPFM锁相放大器。； | 6, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 真空烘烤炉采购项目 | 标的名称:真空烘烤炉采购项目；标的数量:1；主要功能或目标:计划采购的真空烘烤炉设备用于高温条件下烘烤金属有机物化学气相沉积 (略) 件，主要包括石墨大盘、小盘、天花板等容易形成GaAs、InP等 (略) 件，经该设备烘烤后能够实现 (略) 件的重复使用。；需满足的要求:"该仪器设备的具体要求如下： 1、 (略) (略) 件必须是全新产品，技术成熟，软件操作应具备直观、简便、功能强大的特点，有良好的人机界面。设备的设计制造应符合相关标准，如ISO * 等。 2、 (略) 稳定、可靠，能够长时间稳定工作。 3、该设备应易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持。 4、该设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施。 5、该设备应提供足够长时间的质保期。"； | 1, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 电化学腐蚀电容-电压曲线测试仪采购项目 | 标的名称:电化学腐蚀电容-电压曲线测试仪；标的数量:1；主要功能或目标:计划采购的电化学腐蚀电容-电压曲线测试仪用于测试III-V族、II-VI族、IV族半导体材料，主要包括GaAs、InP、GaN、Si及SiC材料等的掺杂离化载流子浓度以及导电类型，用以监测制备材料的掺杂质量。；需满足的要求:"该仪器设备的具体要求如下： 1、 (略) (略) 件必须是全新产品，技术成熟，软件操作应具备直观、简便、功能强大的特点，有良好的人机界面。设备的设计制造应符合相关国际标准，如ISO * 等。 2、 (略) 稳定、可靠，能够长时间稳定工作。 3、该设备应易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持。 4、该设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施。 5、该设备应提供足够长时间的质保期。"； | 2, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 金属有机物化学气相沉积设备 | 标的名称:金属有机物化学气相沉积设备；标的数量:1；主要功能或目标:计划采购的金属有机物化学气相沉积设备主要用于生长高质量GaAs、 InP基AlGaAs、InGaAlP、InGaAs、InGaAsP相关的III-V族化合物半导体超晶格、量子阱光电子及微电子材料等。；需满足的要求:"该仪器设备的具体要求如下： 1、 (略) (略) 件必须是全新产品，技术成熟，软件操作应具备直观、简便、功能强大的特点，有良好的人机界面。设备的设计制造应符合相关ISO * 及OHSAS * 1等国际标准。 2、 (略) 稳定、可靠，能够长时间稳定工作。 3、该设备应易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持。 4、该设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施。 5、该设备应提供足够长时间的质保期。"； | * , * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | “天工”超算集群 * 期 | 标的名称:超级计算机与附属设施；标的数量:1；主要功能或目标:功能：高性能计算 目标：算力> * T；需满足的要求:需要满足> * 0 CPU核有至少 * 个GPU节点； | * , * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 扫描荧光光谱仪 | 标的名称:扫描荧光光谱仪；标的数量:1；主要功能或目标:量子点发光材料晶圆的PL谱表征以及绘图；需满足的要求:波长测量范围： 点击查看>> nm 晶圆尺寸：最大可容纳8英寸 配置激光器： * nm * nm； | 1, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 高分辨X射线衍射仪XRD | 标的名称:高分辨X射线衍射仪XRD；标的数量:1；主要功能或目标:高分辨率、晶体缺陷分析；需满足的要求:原位加载平台、可旋转； | 1, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 静态万能力学试验机 | 标的名称:静态万能力学试验机；标的数量:1；主要功能或目标:材料静态力学性能测试；需满足的要求:载荷 * KN； | 1, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 原子力显微镜 | 标的名称:原子力显微镜；标的数量:1；主要功能或目标:用于4寸和6寸SiC衬底和外延片的表面缺陷形貌的检测；需满足的要求:1、具备兼容4/6寸的全自动样品台。2、具备自动扫描模式。3、可以在非接触模式成像。4、具备相位成像模式。5、具备静电力显微镜。6、需配备现在高端主流配置扫描器。7、 X×Y扫描器闭环范围不小于 * μm× * μm。； | 2, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 单片清洗机 | 标的名称:单片清洗机；标的数量:1；主要功能或目标:用于4寸及6寸SiC衬底和外延片的表面颗粒及阴、阳离子残留的清洗；需满足的要求:1、兼容4/6寸晶圆清洗；2、清洗后晶片表面的颗粒度和阴离子、阳离子残留需达到技术指标；3、清洗能力不低于 * 片/小时；4、合格率大于 * %。； | 3, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | * 吨螺旋压力机 | 标的名称: * 吨螺旋压力机；标的数量:1；主要功能或目标:6MN伺服数控直驱式电动螺旋压力机，1台，执行标准JB/T 1 * * ，主要用于高温合金、钛合金等材料锻件的近净成型，要求设备精度高、可控、质量稳定、易维护。交货周期：合同签订后 * 天。；需满足的要求:； | 2, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 低压铸造机 | 标的名称:低压铸造机；标的数量:1；主要功能或目标:"1、具备高精度的智能型控制仪，能够准确控制金属液温度、浇注速度、压力等。 2、实现常用金属材料的真空低压铸造。 3、铸件在设定的压力 (略) 以铸件质地紧密、光洁、力学性好； 4、具备半固态微锻功能； "；需满足的要求:"1、费用报价需包含（随机软件费用）、运杂费、运输过程中的发生的保险费、安装费等，为 * 口价包干费用；2、 具备真空系统、浆料搅拌系统、压铸系统及微锻系统；5、需采用西门子PLC及触摸屏系统自动控制，稳定性高 6、需带有多种模具自动冷却及加热系统 7、需带有手动和自动双工作模式"； | 1, * , * . * | * 年 * 月 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
(略) 湖材料实验室
* 日
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《 (略) 关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔 * 〕 * 号）等有关规定，现将本单位 * 年 * 月至 * 年 * 月采购意向公开如下：
| 序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额(元) | 预计采购时间 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 微区扫描ＸＲＤ | 标的名称:微区扫描ＸＲＤ；标的数量:1；主要功能或目标:主要用于研究晶体结构（如原子或离子及其基团的种类和位置分布，晶体形状和大小等），特别适用于晶体物质的物相分析；需满足的要求:"微区扫描ＸＲＤ； 系统性能须达到如下条件：（1）主配9 KW转靶X射线产生器；（2）配备面内面外高精度机械探测器，同时配备点探测器、 * 维探测器以及 * 位探测器；（3）配备高性能双晶单色器；（4）具有± * mm的微曲扫描探测功能，探测光斑口径达0.1mm；（5）具有单晶薄膜常用高阶结构表征功能以及配备对应的控制和分析系统； "； | 3, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 2 | (略) 大尺寸低温恒温器 | 标的名称: (略) 大尺寸低温恒温器；标的数量:1；主要功能或目标:闭循环制冷，无需灌液氦；样品腔体为铝制，适合中子散射实验；；需满足的要求:" (略) 大尺寸低温恒温器； 系统性能须达到如下条件：（1）4英寸口径低温恒温平台；（2）4K~ * K的稳定控温；（3） * ~ * 位的连线接口；（4）配备光学耦合窗口；（5）具备1T到3T (略) 环境； "； | 2, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 3 | 傅里叶变换红外显微扫描光谱仪 | 标的名称:傅里叶变换红外显微扫描光谱仪；标的数量:1；主要功能或目标:基于对干涉后 (略) 傅里叶变换的原理而开发的红外光谱仪，主要由红外光源、光阑、干涉仪、样品室、检测器以及各种红外反射镜、激光器、控制电路板和电源组成。可 (略) 定性和定量分析；需满足的要求:谱仪为傅里叶变换光谱仪，可同时满足透射、反射等测试模式；谱仪可探测光谱范围不低于 * cm-1 - * 0cm-1；扫描速率 1.6 – * kHz 或更高；配备远红外、中红外、近红外/可见光、紫外光等各波段探测器、分光器以及相应光源；谱仪腔体配备真空系统；谱仪腔体提供可选择的腔体前、后、左、右拓展光路窗口；提供专业的测试软件；红外显微镜放大倍率不低于 * 倍；具有显微成像接口；x-y微位移自 (略) 程不低于 * x * mm，精度不低于0.1μm, 位置可重复性好于1μm；； | 3, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 4 | 电子束曝光设备 | 标的名称:电子束曝光设备；标的数量:1；主要功能或目标:用于各种微纳器件与纳米人工结构的制作，是研究材料在低维度、小 (略) 为的重要工具，也可用于直写高精度的光刻模板。如可用于制作下列器件与结构：微纳电子器件，光电子器件，生物传感器，微纳机电系统，超导电子学器件，磁电子学器件，低维材料输运性质测量的纳米电极。；需满足的要求:"1、最大加速电压： * kV； 2、最小曝光线宽： * nm； 3、最大兼容样品尺寸：8inch； 4、最小束斑尺寸：优于2nm； 5、套刻精度：优于 * nm。"； | * , * , * . * | * 年 * 月 | |
| 5 | 半自动兆声清洗机 | 标的名称:半自动兆声清洗机；标的数量:1；主要功能或目标:兆声波清洗抛光片可去掉晶片表面上小于0.2μm的粒子,起到超声波起不到的作用。这种方法能同时起到机械擦片和化学清洗两种方法的作用。；需满足的要求:"1、样品尺寸最大兼容： * 寸晶圆； 2、DI水喷头流量可调节； 3、兆声频率：不小于1MHz； 4、4寸及以上晶圆可以干进干出； 5、DI兆声喷头持续滴流系统。"； | 1, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 6 | 半自动键合机 | 标的名称:半自动键合机；标的数量:1；主要功能或目标:能够实现混合键合工艺、异质键合、直接键合和胶键合等工艺。主要应用于2.5D和3D集成领域，MEMS、LED和半导体功率器件的制造和封装。；需满足的要求:"1、样品尺寸最大兼容：8寸； 2、压力最大： * kN； 3、最大加热温度： * ℃； 4、上下压盘：独立控温； 5、未来可升级为双腔键合； 6、腔体为上开盖设计。"； | 6, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 7 | 真空键合系统 | 标的名称:真空键合系统；标的数量:1；主要功能或目标:能够在低温或常温条件下，实现晶圆或基片的直接键合。主要应用太阳能电池、MEMS封装、精密加工、功率半导体、 * 维大规模集成电路等。；需满足的要求:"1、样品尺寸最大兼容：4寸； 2、压力最大：4kN； 3、具有表面活化能力； 4、腔体真空度：不高于5.0*1E-6Pa。"； | 3, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 8 | 反应离子刻蚀设备 | 标的名称:反应离子刻蚀设备；标的数量:1；主要功能或目标:实现各类微电子与光电子芯片，MEMS&NEMS，硅基光电子，3D混合集成芯片等的微纳制备过程中刻蚀工艺，主要刻蚀Si、SiO2以及SiNx等材料。；需满足的要求:"1、晶圆尺寸：2、4、6、8inc兼容； 2、Si材料刻蚀速率> * nm/min，侧壁角度> * 度，刻蚀均匀性<5%； 3、SiO2材料刻蚀速率> * nm/min，侧壁角度> * 度，刻蚀均匀性<5%； 4、SiNx材料刻蚀速率> * nm/min，侧壁角度> * 度，刻蚀均匀性<5%。"； | 2, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 9 | 扫描电化学显微系统 | 标的名称:扫描电化学显微系统；标的数量:1；主要功能或目标:计划采购扫描电化学显微系统 * 套，通过测量针尖-样品体系氧化还原反应导致的电化学电流，表 (略) 域电化学活性；能结合扫描探针，实现恒高模式下高空间分辨电化学成像；同时探针提供气体和液体加样，在很小的范围内表征原位反应等，与液相Raman组件联用,完成AFM-SECM-Raman的联合测试功能。反馈扫描分辨率XY方向优于 * nm、Z方向优于2nm，灵敏度(Amps/V) * - * 到0.1。；需满足的要求:计划购置扫描电化学显微系统1套。计划购置设备的性能指标及实验要求必须满足如下条件：1.包含反馈扫描功能，使用玻璃探针，提供垂直方向的开放光路；2. 具有液相Raman组件,能完成AFM-SECM-Raman的联合测试功能；3. 反馈扫描分辨率XY方向优于 * nm、Z方向优于2nm；4. 灵敏度(Amps/V) * ^- * 到0.1；5. 扫描范围XYZ都可达 * 微米；6. 配备水浸物镜、光谱配件、减震系统及法拉第笼。； | 2, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 扫描俄歇电子能谱仪采购项目 | 标的名称:扫描俄歇电子能谱仪采购项目；标的数量:1；主要功能或目标:计划采购扫描俄歇能谱仪 * 台，用于检测样品极表面甚至单个原子层尺度的化学性质及组成成分。；需满足的要求:设备组成包括电子能量分析器、扫描俄歇电子能谱真空系统、可液氦冷却4轴样品台、超高真空分辨扫描电子显微镜、用于深度剖析的溅射离子源组件和超高真空兼容聚焦离子束系统，可实现逐层剥离，微区精确检测。设备应具备安放及维护，提供配套软件，具备操作方便快捷、对人体健康无害等特点。； | * , * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 双半球空间动量显微能谱仪采购项目 | 标的名称:双半球空间动量显微能谱仪采购项目；标的数量:1；主要功能或目标:计划采购双半球空间动量显微能谱仪 * 台，用于微尺度领域的原位显微成像、衍射和光电子能谱研究，可同时获得样品实空间和动量空间的显微信息。；需满足的要求:系统具有μ-ARPES和PEEM双工作模式，可在实空间和动量空间切换。配备强度大、能量展束窄、光斑小的紫外光源以及低温3轴样品台，腔体及真空系统能够实现超高真空环境以及优异的磁屏蔽。PEEM横向分辨率优于 * nm；K空间分辨率优于0. * 1/?；双半球能量分辨率优于 * meV；紫外光源光斑直径小于 * μm；样品台温度范围< * K- * K。； | 8, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 超高真空互联系统采购项目 | 标的名称:超高真空互联系统采购项目；标的数量:1；主要功能或目标:计划采购超高真空互联系统 * 套，系统包含3个UFO样品传输与腔体互联系统以及 * 个多功能原子力显微镜系统，主要用于材料生长、器件制备、测试分析的大型真空仪器设备之间的互联，保证样品在不同设备之间传送时期表面不发生氧化、污染及不被外 (略) 破坏；原子力显微镜主要用于原子分辨成像、检测薄膜粗糙度及表征薄膜多种物理性能等。；需满足的要求:UFO腔体配套相互之间的连接及样品传输装置。多功能原子力显微镜扫描头可实现 * - * K变温；可实现STM、接触式AFM、非接触式AFM以及原子操纵等功能，包含锁相环模式和KPFM锁相放大器。； | 6, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 真空烘烤炉采购项目 | 标的名称:真空烘烤炉采购项目；标的数量:1；主要功能或目标:计划采购的真空烘烤炉设备用于高温条件下烘烤金属有机物化学气相沉积 (略) 件，主要包括石墨大盘、小盘、天花板等容易形成GaAs、InP等 (略) 件，经该设备烘烤后能够实现 (略) 件的重复使用。；需满足的要求:"该仪器设备的具体要求如下： 1、 (略) (略) 件必须是全新产品，技术成熟，软件操作应具备直观、简便、功能强大的特点，有良好的人机界面。设备的设计制造应符合相关标准，如ISO * 等。 2、 (略) 稳定、可靠，能够长时间稳定工作。 3、该设备应易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持。 4、该设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施。 5、该设备应提供足够长时间的质保期。"； | 1, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 电化学腐蚀电容-电压曲线测试仪采购项目 | 标的名称:电化学腐蚀电容-电压曲线测试仪；标的数量:1；主要功能或目标:计划采购的电化学腐蚀电容-电压曲线测试仪用于测试III-V族、II-VI族、IV族半导体材料，主要包括GaAs、InP、GaN、Si及SiC材料等的掺杂离化载流子浓度以及导电类型，用以监测制备材料的掺杂质量。；需满足的要求:"该仪器设备的具体要求如下： 1、 (略) (略) 件必须是全新产品，技术成熟，软件操作应具备直观、简便、功能强大的特点，有良好的人机界面。设备的设计制造应符合相关国际标准，如ISO * 等。 2、 (略) 稳定、可靠，能够长时间稳定工作。 3、该设备应易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持。 4、该设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施。 5、该设备应提供足够长时间的质保期。"； | 2, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 金属有机物化学气相沉积设备 | 标的名称:金属有机物化学气相沉积设备；标的数量:1；主要功能或目标:计划采购的金属有机物化学气相沉积设备主要用于生长高质量GaAs、 InP基AlGaAs、InGaAlP、InGaAs、InGaAsP相关的III-V族化合物半导体超晶格、量子阱光电子及微电子材料等。；需满足的要求:"该仪器设备的具体要求如下： 1、 (略) (略) 件必须是全新产品，技术成熟，软件操作应具备直观、简便、功能强大的特点，有良好的人机界面。设备的设计制造应符合相关ISO * 及OHSAS * 1等国际标准。 2、 (略) 稳定、可靠，能够长时间稳定工作。 3、该设备应易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持。 4、该设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施。 5、该设备应提供足够长时间的质保期。"； | * , * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | “天工”超算集群 * 期 | 标的名称:超级计算机与附属设施；标的数量:1；主要功能或目标:功能：高性能计算 目标：算力> * T；需满足的要求:需要满足> * 0 CPU核有至少 * 个GPU节点； | * , * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 扫描荧光光谱仪 | 标的名称:扫描荧光光谱仪；标的数量:1；主要功能或目标:量子点发光材料晶圆的PL谱表征以及绘图；需满足的要求:波长测量范围： 点击查看>> nm 晶圆尺寸：最大可容纳8英寸 配置激光器： * nm * nm； | 1, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 高分辨X射线衍射仪XRD | 标的名称:高分辨X射线衍射仪XRD；标的数量:1；主要功能或目标:高分辨率、晶体缺陷分析；需满足的要求:原位加载平台、可旋转； | 1, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 静态万能力学试验机 | 标的名称:静态万能力学试验机；标的数量:1；主要功能或目标:材料静态力学性能测试；需满足的要求:载荷 * KN； | 1, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 原子力显微镜 | 标的名称:原子力显微镜；标的数量:1；主要功能或目标:用于4寸和6寸SiC衬底和外延片的表面缺陷形貌的检测；需满足的要求:1、具备兼容4/6寸的全自动样品台。2、具备自动扫描模式。3、可以在非接触模式成像。4、具备相位成像模式。5、具备静电力显微镜。6、需配备现在高端主流配置扫描器。7、 X×Y扫描器闭环范围不小于 * μm× * μm。； | 2, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 单片清洗机 | 标的名称:单片清洗机；标的数量:1；主要功能或目标:用于4寸及6寸SiC衬底和外延片的表面颗粒及阴、阳离子残留的清洗；需满足的要求:1、兼容4/6寸晶圆清洗；2、清洗后晶片表面的颗粒度和阴离子、阳离子残留需达到技术指标；3、清洗能力不低于 * 片/小时；4、合格率大于 * %。； | 3, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | * 吨螺旋压力机 | 标的名称: * 吨螺旋压力机；标的数量:1；主要功能或目标:6MN伺服数控直驱式电动螺旋压力机，1台，执行标准JB/T 1 * * ，主要用于高温合金、钛合金等材料锻件的近净成型，要求设备精度高、可控、质量稳定、易维护。交货周期：合同签订后 * 天。；需满足的要求:； | 2, * , * . * | * 年 * 月 | |
| * | 低压铸造机 | 标的名称:低压铸造机；标的数量:1；主要功能或目标:"1、具备高精度的智能型控制仪，能够准确控制金属液温度、浇注速度、压力等。 2、实现常用金属材料的真空低压铸造。 3、铸件在设定的压力 (略) 以铸件质地紧密、光洁、力学性好； 4、具备半固态微锻功能； "；需满足的要求:"1、费用报价需包含（随机软件费用）、运杂费、运输过程中的发生的保险费、安装费等，为 * 口价包干费用；2、 具备真空系统、浆料搅拌系统、压铸系统及微锻系统；5、需采用西门子PLC及触摸屏系统自动控制，稳定性高 6、需带有多种模具自动冷却及加热系统 7、需带有手动和自动双工作模式"； | 1, * , * . * | * 年 * 月 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
(略) 湖材料实验室
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