福州大学2021年4月至12月政府采购意向
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福州大学2021年4月至12月政府采购意向
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《 (略) 关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔 * 〕 * 号）等有关规定，现将（ (略) ） * 年 4 （至） * 月采购意向公开如下：
| 序号 | 采购单位 | 采购项目名称 | 采购品目 | 采购需求概况 | 预算金额(万元) | 预计采购日期 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | (略) | (略) 科研仪器设备采购 | [A * ]仪器仪表 | 1、激光直写光刻机（ * 万元），激光直写光刻系统在集成电路工艺中起曝光光刻胶，显影后形成图形， 其主要特点是曝光效率高、无需掩膜等，可和电子束曝光机功能相互补充，是集成电路制造工艺中的 * 个重要设备。 2、脉冲激光分子束外延沉积系统（ * 万元），主要承担单晶外延氧化物薄膜及异质结的生长与制备，主要用于研究新型功能氧化物薄膜材料及其功能调控等，需要激光加热装置、原位的 RHEED系统。 3、原子层沉积系统（ * 万元），原子层沉积系统是集成电路微纳加工工艺中必备的 * 个设备，主要用于沉积绝缘氧化物，如 ZrO2， HfO2， Al2O3，SiO2等，作为微纳电子器件的栅介质、绝缘介质等。其能够是实现原子级平整界面，有效降低界面态密度，实现高性能器件。 | * | 点击查看>> | 无 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
(略)
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为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《 (略) 关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔 * 〕 * 号）等有关规定，现将（ (略) ） * 年 4 （至） * 月采购意向公开如下：
| 序号 | 采购单位 | 采购项目名称 | 采购品目 | 采购需求概况 | 预算金额(万元) | 预计采购日期 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | (略) | (略) 科研仪器设备采购 | [A * ]仪器仪表 | 1、激光直写光刻机（ * 万元），激光直写光刻系统在集成电路工艺中起曝光光刻胶，显影后形成图形， 其主要特点是曝光效率高、无需掩膜等，可和电子束曝光机功能相互补充，是集成电路制造工艺中的 * 个重要设备。 2、脉冲激光分子束外延沉积系统（ * 万元），主要承担单晶外延氧化物薄膜及异质结的生长与制备，主要用于研究新型功能氧化物薄膜材料及其功能调控等，需要激光加热装置、原位的 RHEED系统。 3、原子层沉积系统（ * 万元），原子层沉积系统是集成电路微纳加工工艺中必备的 * 个设备，主要用于沉积绝缘氧化物，如 ZrO2， HfO2， Al2O3，SiO2等，作为微纳电子器件的栅介质、绝缘介质等。其能够是实现原子级平整界面，有效降低界面态密度，实现高性能器件。 | * | 点击查看>> | 无 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
(略)
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