材料学院“一体磁控溅射镀膜机”招标预告

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材料学院“一体磁控溅射镀膜机”招标预告


(略) * 年6月 政府采购意向
为便于供应商及时了解政府采购信息,根据《 (略) 关于开展政府采购意向公开工作的通知》(财库〔 * 〕 * 号)等有关规定,现 (略) * 年 * 月采购意向公开如下:

(略) “ * 体磁控溅射镀膜机”
名称:磁控溅射镀膜机; 数量:1台; 1.设备名称:磁控溅射镀膜系统 2.设备主要功能 通过磁控溅射技术在不同材料衬底上沉积:金属材料、磁性材料、非金属、金属化合物、非金属化合物、半导体材料等薄膜。 ★垂直溅射方式下 * 炉中可以自动完成多达6次样品间相互无污染的独立工艺实验。 设备为全自动控制。 3.设备主要技术指标 3.1腔体尺寸:Φ * mm*H * mm 3.2极限真空度:≤6.7* * -5Pa; 3.3静态升压:系统停泵关机后 * 小时后,真空度≤5Pa
--

序号

采购项目名称

采购需求概况

预算金额(万元)

预计采购时间

备注
1 * . * * 年 * 月

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排, (略) 和采购文件为准。
(略)
郎老师( 点击查看>> / * q.com)
* 日

(略) * 年6月 政府采购意向
为便于供应商及时了解政府采购信息,根据《 (略) 关于开展政府采购意向公开工作的通知》(财库〔 * 〕 * 号)等有关规定,现 (略) * 年 * 月采购意向公开如下:

(略) “ * 体磁控溅射镀膜机”
名称:磁控溅射镀膜机; 数量:1台; 1.设备名称:磁控溅射镀膜系统 2.设备主要功能 通过磁控溅射技术在不同材料衬底上沉积:金属材料、磁性材料、非金属、金属化合物、非金属化合物、半导体材料等薄膜。 ★垂直溅射方式下 * 炉中可以自动完成多达6次样品间相互无污染的独立工艺实验。 设备为全自动控制。 3.设备主要技术指标 3.1腔体尺寸:Φ * mm*H * mm 3.2极限真空度:≤6.7* * -5Pa; 3.3静态升压:系统停泵关机后 * 小时后,真空度≤5Pa
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序号

采购项目名称

采购需求概况

预算金额(万元)

预计采购时间

备注
1 * . * * 年 * 月

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排, (略) 和采购文件为准。
(略)
郎老师( 点击查看>> / * q.com)
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