-8英寸磁控溅射设备-招标预告
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-8英寸磁控溅射设备-招标预告
| 8英寸磁控溅射设备 | |
| (略) 在采购意向： | (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) |
| 采购项目名称： | 8英寸磁控溅射设备 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 电子工业专用生产设备 |
| 采购需求概况： | 针对薄膜铌酸锂光子芯片制备中高质量金属薄膜生长的需求，我校需要采购 * 台8英寸晶圆上溅射金属材料的磁控溅射设备；技术指标：1、整机由溅射室、样品传输室及控制系统组成；2、兼容8英寸及8英寸以下样品，膜厚不均匀性≤±5％；3、溅射室极限真空优于8.0× * -5Pa，从大气抽至8.0× * -4Pa≤ * min；4、4套4英寸溅射靶，配备1台直流脉冲电源，1台射频电源；采用磁控靶从下向上溅射镀膜；5、样品台可旋转可加热，加热室温～ * ±1℃，可控可调；旋转0～ * 转/分钟，可控可调；基片台配有- * V偏压装置及偏压电源；6、配备3路气体，工艺压强自动恒压控制；7、电气控制采用PLC+人机界面半自动控制系统；8、设备质保2年，电话报修后 * 小时内给出解决方案； |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
| 8英寸磁控溅射设备 | |
| (略) 在采购意向： | (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) |
| 采购项目名称： | 8英寸磁控溅射设备 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 电子工业专用生产设备 |
| 采购需求概况： | 针对薄膜铌酸锂光子芯片制备中高质量金属薄膜生长的需求，我校需要采购 * 台8英寸晶圆上溅射金属材料的磁控溅射设备；技术指标：1、整机由溅射室、样品传输室及控制系统组成；2、兼容8英寸及8英寸以下样品，膜厚不均匀性≤±5％；3、溅射室极限真空优于8.0× * -5Pa，从大气抽至8.0× * -4Pa≤ * min；4、4套4英寸溅射靶，配备1台直流脉冲电源，1台射频电源；采用磁控靶从下向上溅射镀膜；5、样品台可旋转可加热，加热室温～ * ±1℃，可控可调；旋转0～ * 转/分钟，可控可调；基片台配有- * V偏压装置及偏压电源；6、配备3路气体，工艺压强自动恒压控制；7、电气控制采用PLC+人机界面半自动控制系统；8、设备质保2年，电话报修后 * 小时内给出解决方案； |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
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