中国科学院上海硅酸盐研究所2021年6至8月政府采购意向-多靶位超高真空磁控溅射仪-符合验收指标要求（1）样品台具备溅射4英寸及以下尺寸基片的能
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中国科学院上海硅酸盐研究所2021年6至8月政府采购意向-多靶位超高真空磁控溅射仪-符合验收指标要求（1）样品台具备溅射4英寸及以下尺寸基片的能
| 多靶位超高真空磁控溅射仪 | |
| (略) 在采购意向： | (略) (略) (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) (略) (略) |
| 采购项目名称： | 多靶位超高真空磁控溅射仪 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 真空应用设备 |
| 采购需求概况： | 符合验收指标要求（1）样品台具备溅射4英寸及以下尺寸基片的能力；可在0- * RPM的范围内转动；（2） 样品台可在低氧压环境下加热（0.1pa氧压），加热温度最高 * ℃，PID控制稳定性≤±1℃；（3） 配置5套 * mm超高真空强磁靶枪；共焦设计及防氧化设计，向上溅射；强磁靶可以沉积2mm厚的强磁性材料；（4） 所有靶枪均配置独立的气动挡板；（5） 主腔体中可实现直流自偏压清洗功能；（6） 靶枪电源包括：2套美国AE品牌 * W直流电源（含4路切换器）；1套美国AE品牌 * W射频电源， (略) 络；（7） 配备预真空室（load-lock），采用抽速不小于 * L/S的分子泵机组（包括英国爱德华涡旋干泵）；（8） 主腔室配备德国Pfeiffer涡轮分子泵+爱德华涡旋干泵系统，带控制器，所有线路电缆；（9） 真空系统具有真空度自动控制功能，极限真空度可达到3E-6Pa； |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
| 多靶位超高真空磁控溅射仪 | |
| (略) 在采购意向： | (略) (略) (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) (略) (略) |
| 采购项目名称： | 多靶位超高真空磁控溅射仪 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 真空应用设备 |
| 采购需求概况： | 符合验收指标要求（1）样品台具备溅射4英寸及以下尺寸基片的能力；可在0- * RPM的范围内转动；（2） 样品台可在低氧压环境下加热（0.1pa氧压），加热温度最高 * ℃，PID控制稳定性≤±1℃；（3） 配置5套 * mm超高真空强磁靶枪；共焦设计及防氧化设计，向上溅射；强磁靶可以沉积2mm厚的强磁性材料；（4） 所有靶枪均配置独立的气动挡板；（5） 主腔体中可实现直流自偏压清洗功能；（6） 靶枪电源包括：2套美国AE品牌 * W直流电源（含4路切换器）；1套美国AE品牌 * W射频电源， (略) 络；（7） 配备预真空室（load-lock），采用抽速不小于 * L/S的分子泵机组（包括英国爱德华涡旋干泵）；（8） 主腔室配备德国Pfeiffer涡轮分子泵+爱德华涡旋干泵系统，带控制器，所有线路电缆；（9） 真空系统具有真空度自动控制功能，极限真空度可达到3E-6Pa； |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
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