高分辨无掩膜激光刻写设备招标预告
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高分辨无掩膜激光刻写设备招标预告
| 高分辨无掩膜激光刻写设备 | |
| (略) 在采购意向： | (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) |
| 采购项目名称： | 高分辨无掩膜激光刻写设备 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 激光仪器 |
| 采购需求概况： | 设备名称：高分辨无掩膜纳米光刻系统；主要功能：实现无掩膜激光直写式微纳图案刻写，用于微光学器件、微流控芯片、半导体微电子、集成电路等材料和器件的研究与制造。采购要求：激光控制技术AOD; 激光光斑定位分辨率<1 nm; 光刻最小尺寸不大于1 um；设备外形尺寸不超过 * mm；直写速度不小于 * 点/秒 |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | 项目实施单位 (略) 柔 (略) ， (略) (略) 。 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
| 高分辨无掩膜激光刻写设备 | |
| (略) 在采购意向： | (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) |
| 采购项目名称： | 高分辨无掩膜激光刻写设备 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 激光仪器 |
| 采购需求概况： | 设备名称：高分辨无掩膜纳米光刻系统；主要功能：实现无掩膜激光直写式微纳图案刻写，用于微光学器件、微流控芯片、半导体微电子、集成电路等材料和器件的研究与制造。采购要求：激光控制技术AOD; 激光光斑定位分辨率<1 nm; 光刻最小尺寸不大于1 um；设备外形尺寸不超过 * mm；直写速度不小于 * 点/秒 |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | 项目实施单位 (略) 柔 (略) ， (略) (略) 。 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
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