上海交通大学2021年7月政府采购意向-化学机械抛光后清洗设备-主要功能化学机械抛光后基片的清洗，去除抛光后的化学试剂及颗粒
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上海交通大学2021年7月政府采购意向-化学机械抛光后清洗设备-主要功能化学机械抛光后基片的清洗，去除抛光后的化学试剂及颗粒
| 化学机械抛光后清洗设备 | |
| (略) 在采购意向： | (略) * 年7月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) |
| 采购项目名称： | 化学机械抛光后清洗设备 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 电子工业专用生产设备 |
| 采购需求概况： | 主要功能：化学机械抛光后基片的清洗，去除抛光后的化学试剂及颗粒污染。质量：具备独立式兆声清洗、化学试剂清洗、以及旋转甩干的系统，可用于支持4“、6"、8”晶圆化学机械抛光后清洁洗；配有DIW预清洗、双面PVA刷洗（2套）、兆声清洗等独立清洗单元、以旋转甩干模块，配备清洗化学试剂供应系统。服务：3年质保。 |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
| 化学机械抛光后清洗设备 | |
| (略) 在采购意向： | (略) * 年7月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) |
| 采购项目名称： | 化学机械抛光后清洗设备 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 电子工业专用生产设备 |
| 采购需求概况： | 主要功能：化学机械抛光后基片的清洗，去除抛光后的化学试剂及颗粒污染。质量：具备独立式兆声清洗、化学试剂清洗、以及旋转甩干的系统，可用于支持4“、6"、8”晶圆化学机械抛光后清洁洗；配有DIW预清洗、双面PVA刷洗（2套）、兆声清洗等独立清洗单元、以旋转甩干模块，配备清洗化学试剂供应系统。服务：3年质保。 |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
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