高真空电子束蒸发薄膜沉积系统招标预告
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高真空电子束蒸发薄膜沉积系统招标预告
| 高真空电子束蒸发薄膜沉积系统 | |
| (略) 在采购意向： | (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) |
| 采购项目名称： | 高真空电子束蒸发薄膜沉积系统 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 其他金属加工设备 |
| 采购需求概况： | 本次预采购 * 套高真空电子束蒸发薄膜沉积系统。可满足Cr、Ti、Au、Fe、Al、Ni等金属及合金在基片上均匀沉积薄膜的各类工艺要求。极限真空：8E-5Pa；抽气时间：8E-4Pa≤ * min（系统短时间暴露大气后开始抽气）；漏率：<8E-7Pa/s；样品台：4英寸样品台，配备独立挡板，可旋转加热，旋转速度0- * rpm；E型电子枪；膜厚均匀性<2%；最小膜厚沉积厚度：1nm；真空腔体：采用不锈钢壳体， (略) 理，前开门形式，配有观察窗、照明烘烤设备；真空系统配置：分子泵、机械泵；冷却水循环设备：水温 * ℃~ * ℃；晶体膜厚监测仪： (略) 安装高分辨率薄膜测厚仪、测量精度1.0？，可直观显示测得的膜厚、速率；配套蒸镀上述金属对应的坩埚；真空、厚度、输入 (略) 集合在 * 个控制面板。应该具备操作界面简单、直观、自动化参数设置、简单易用以及能长时间稳定工作等优良特性。质保期1年，终身维护，交货时间为合同签订后3个月内。提供技术培训以及操作手册，及时提供相关领域新技术与新信息。终身免费提供相 (略) 。 |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
| 高真空电子束蒸发薄膜沉积系统 | |
| (略) 在采购意向： | (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) |
| 采购项目名称： | 高真空电子束蒸发薄膜沉积系统 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 其他金属加工设备 |
| 采购需求概况： | 本次预采购 * 套高真空电子束蒸发薄膜沉积系统。可满足Cr、Ti、Au、Fe、Al、Ni等金属及合金在基片上均匀沉积薄膜的各类工艺要求。极限真空：8E-5Pa；抽气时间：8E-4Pa≤ * min（系统短时间暴露大气后开始抽气）；漏率：<8E-7Pa/s；样品台：4英寸样品台，配备独立挡板，可旋转加热，旋转速度0- * rpm；E型电子枪；膜厚均匀性<2%；最小膜厚沉积厚度：1nm；真空腔体：采用不锈钢壳体， (略) 理，前开门形式，配有观察窗、照明烘烤设备；真空系统配置：分子泵、机械泵；冷却水循环设备：水温 * ℃~ * ℃；晶体膜厚监测仪： (略) 安装高分辨率薄膜测厚仪、测量精度1.0？，可直观显示测得的膜厚、速率；配套蒸镀上述金属对应的坩埚；真空、厚度、输入 (略) 集合在 * 个控制面板。应该具备操作界面简单、直观、自动化参数设置、简单易用以及能长时间稳定工作等优良特性。质保期1年，终身维护，交货时间为合同签订后3个月内。提供技术培训以及操作手册，及时提供相关领域新技术与新信息。终身免费提供相 (略) 。 |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
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