中国科学院上海微系统与信息技术研究所2021年8至11月政府采购意向-双面抛光机-双面抛光利用抛光液及抛光垫，以化学机械反的方式对300mm硅
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中国科学院上海微系统与信息技术研究所2021年8至11月政府采购意向-双面抛光机-双面抛光利用抛光液及抛光垫，以化学机械反的方式对300mm硅
| 双面抛光机 | |
| (略) 在采购意向： | (略) (略) 微系统与信 (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) (略) 微系统与信 (略) |
| 采购项目名称： | 双面抛光机 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> |
| 采购需求概况： | 双面抛光利用抛光液及抛光垫，以化学机械反的方式对 * mm硅片正面和背面同时抛光，以保证硅片的平坦度（GBIR，SFQR与ESFQR），改善背面粗糙度，并去除掉前制程造成的表面缺陷，如研磨砂轮印记（Wheel Mark），蚀刻凹点（Etching Pit）等。该工艺是完成超平坦硅片的 * 道抛光工艺（双面抛光、边缘抛光、最终抛光）之 * ，关键指标如下：SFQR<0. * um；GBIR<0.1um。 |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
| 双面抛光机 | |
| (略) 在采购意向： | (略) (略) 微系统与信 (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) (略) 微系统与信 (略) |
| 采购项目名称： | 双面抛光机 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> |
| 采购需求概况： | 双面抛光利用抛光液及抛光垫，以化学机械反的方式对 * mm硅片正面和背面同时抛光，以保证硅片的平坦度（GBIR，SFQR与ESFQR），改善背面粗糙度，并去除掉前制程造成的表面缺陷，如研磨砂轮印记（Wheel Mark），蚀刻凹点（Etching Pit）等。该工艺是完成超平坦硅片的 * 道抛光工艺（双面抛光、边缘抛光、最终抛光）之 * ，关键指标如下：SFQR<0. * um；GBIR<0.1um。 |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
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