医药分子实验中心二期招标预告
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(略) (略) * 年8月(至)9月采购意向项目-1政府采购意向为便于供应商及时了解政府采购信息,根据《 (略) 关于开展政府采购意向公开工作的通知》(财库〔 * 〕 * 号)等有关规定,现 (略) * 年8月(至)9月采购意向项目-1采购意向公开如下:序号采购项目名称采购品目采购需求概况预算金额(万元)预计采购时间备注1医 (略) * 期A 点击查看>> 其他试验仪 器 及 装置,A 点击查看>> 光学测试 仪器,A 点击查看>> 热学式分析仪器白激光门控光谱型荧光寿命共聚焦成像系统,1台等温滴定量热仪,1台全自动药物筛选 (略) ,1台 点击查看>>
2高性能计算机集群系统A 点击查看>> 服务器用于材料模拟的高性能密集计算集群系统,包括管理登 * 节点、多个计算节点、高性能分布式存储系统、 (略) 络连接等,还应包括相配置的机架和冷却系统。 点击查看>> 原理样机反应装置A 点击查看>> 石油和化学工业 (略) 件原理样机反应装置,1台 点击查看>> 超精密半导体动静态光电分析测试系统A 点击查看>> 电阻测量仪器最小脉冲宽度: * ns, 最大脉冲电压± * V; 微弱电流测试(~fA量级); C-V模块频率范围可至 * MHz; 具有独立的远端切换开关; 器件测试平台要求: 封闭循环压缩,无需补充液氦/液氮;全自动控温: * K- * K. 直流探针具有Guard保护,6个直流测试臂,每个测试臂的漏电流< * fA.回温时间<3小时; 配备环形光和轴向光双照明功能,可适用于观察各种样品; 点击查看>>
5极端条件高灵敏度磁学测量仪配套 组件A 点击查看>> 其他专用仪器仪表极端条件高灵敏度磁学测量仪配套组件: 1.灵敏度: 1x * -8 emu 2. (略) : 0. * Oe- * Oe (peak) 3.频率: * Hz- * KHz 点击查看>> 极端条件电学与热学测量仪配套组件A 点击查看>> 其他专用仪器仪表配套极端条件下的电学和热学物性测量: 1.电流范围:2nA- * mA 2.最高电压: * V 3.电压灵敏度: * nV 4.电阻测量范围:2μΩ- * MΩ5.测量精度:0. * % 6.测量 引线 : * 路电学测量引线 7.转角杆旋转范围: 旋转 范围:-5°- * ° 8.旋转 精度: 优于0. * °; 9.旋转 速度:0°- * °/s * .压力转角杆:0-2GPa,样品空间1.8mm * . Seebeck系数测量精度:±3 %或± 0.3μV/K 或±1.2 μV * . 热导测量精度:± 3 %或± 1.2 μW/K, T < * K 点击查看>> (略) 微 纳加 工中心电子 束蒸发镀膜 机采购项目A 点击查看>> 其他试验仪器及装置电子 束蒸发 仪,1台; 真空蒸镀腔室尺寸≤ * mm× * mm× * mm,腔 (略) 理, 带有1套可 拆卸防污隔离墙;可 对接手套箱;镀膜 控制软件, 带有手动和自动两种操作模式, 膜厚不均匀性≤±5%,镀膜 速率的理 论精度可 达0. * ?/s,膜厚厚度分 辨率可 达0. * ?,膜厚 精度可达±5%;冷 凝泵 ,抽速不低 于 * l/s,带氦压缩机, * 英尺长 氦气管道;干泵 ,抽速不低于 * cfm,腔室洁净、干燥 环境下,极 限真空 度< 9E-8 Torr;6× * cc电子 束源,6KW固态电 源,带动态 矫正 功能以提 高膜厚均匀性, 带有扫描 模式;1套离子源,带有1个气体控 制质量流量器,自动控制模式;双晶检测探 头,带水 冷功能,检测精度 不低 点击查看>>
于0. * ?;水冷旋转 样品台,可装载 * mm× * mm的样 片,兼容小尺寸 样片,转速0- * RPM连续可调,带有升降 功能;配有蒸发源挡板;产品验收后要求质保1年。 (略) 微 纳加 工中心电子 束曝光系统采购项目A 点击查看>> 电子光学及离子光学仪器电子 束曝 光系统,1套,设备可实现高分辨电子束曝光,最小特征尺寸≤8nm ; 采用 肖特基 热场发射 电子 束源,加速电压 不大于 * KV,以避免高电压 对样片的损伤 。加速电压可以以 * V的步进任 意设置,保证灵活性,适 合多种 不同 工艺的应用需求;在 * kV下,最小束斑 直径不 大于1.6 nm;系统中配套的图形发生 器的扫描 频率 不低 于 * MHz,最小 步距增 量不大于0.1 nm,最小 停留 时间增量不大于1ns;束电流范围为5pA – * nA; 束流可 长时间 稳定,实验 室温度 波动在± 0.5°C的情况下, 任意 * 小时 内测量 束流稳定性 ≤0.5% ;写场 大小可 在0.5 μm - 2mm的范围 内任 意设定,且连续可调;提供激光 干涉 工作台,该工作台的移动范围 不小于 * x * x * mm, 其中XY方向的分 辨率不大于1nm;拼接/套刻精度 不大于 * nm (|mean| + 3 · sigma) ;提供手动进料室;及 * 个标准 样品架,可承载2英寸硅片或多个 不规则的小样品; 该系统 除了实现电子束曝 光的功能外,提供垂直方向和 侧面两 个 * 次电子探测器, (略) 高分 辨率成像和精确度量。成像放大倍数满足 * ~1, * , * 倍;提供UPS不间断电源、冷 水机以及常用工具 箱;基于Windows 系统的全自动控制软 件包NanoSuite,集成了GDSII编辑器,可对图 (略) 分层设计, 允许 导入DXF、ASCII、CIF、CAD、GDSII等多种 格式的 文件; 软件可实现多用户管理,每个用户可以使 用独立的文件和参数 ;具备成像度量功能,并可在在线或离线的状态下 进行图 形分析; 点击查看>>
多种 扫描方 式可供选择,特别是圆形/环形,可提供圆形曝光扫描 模式, 以保证圆形/环形的光滑;无缝集成专业的邻近效 应修正软 件,用于曝光密集图形时, 利用蒙特卡洛模拟电子能量分布, 并全自动 对曝 (略) 调整,修正邻近效应。整机质保1年。本次 公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排, (略) 和采购文件为准。 (略) 点击查看>>
(略) (略) * 年8月(至)9月采购意向项目-1政府采购意向为便于供应商及时了解政府采购信息,根据《 (略) 关于开展政府采购意向公开工作的通知》(财库〔 * 〕 * 号)等有关规定,现 (略) * 年8月(至)9月采购意向项目-1采购意向公开如下:序号采购项目名称采购品目采购需求概况预算金额(万元)预计采购时间备注1医 (略) * 期A 点击查看>> 其他试验仪 器 及 装置,A 点击查看>> 光学测试 仪器,A 点击查看>> 热学式分析仪器白激光门控光谱型荧光寿命共聚焦成像系统,1台等温滴定量热仪,1台全自动药物筛选 (略) ,1台 点击查看>>
2高性能计算机集群系统A 点击查看>> 服务器用于材料模拟的高性能密集计算集群系统,包括管理登 * 节点、多个计算节点、高性能分布式存储系统、 (略) 络连接等,还应包括相配置的机架和冷却系统。 点击查看>> 原理样机反应装置A 点击查看>> 石油和化学工业 (略) 件原理样机反应装置,1台 点击查看>> 超精密半导体动静态光电分析测试系统A 点击查看>> 电阻测量仪器最小脉冲宽度: * ns, 最大脉冲电压± * V; 微弱电流测试(~fA量级); C-V模块频率范围可至 * MHz; 具有独立的远端切换开关; 器件测试平台要求: 封闭循环压缩,无需补充液氦/液氮;全自动控温: * K- * K. 直流探针具有Guard保护,6个直流测试臂,每个测试臂的漏电流< * fA.回温时间<3小时; 配备环形光和轴向光双照明功能,可适用于观察各种样品; 点击查看>>
5极端条件高灵敏度磁学测量仪配套 组件A 点击查看>> 其他专用仪器仪表极端条件高灵敏度磁学测量仪配套组件: 1.灵敏度: 1x * -8 emu 2. (略) : 0. * Oe- * Oe (peak) 3.频率: * Hz- * KHz 点击查看>> 极端条件电学与热学测量仪配套组件A 点击查看>> 其他专用仪器仪表配套极端条件下的电学和热学物性测量: 1.电流范围:2nA- * mA 2.最高电压: * V 3.电压灵敏度: * nV 4.电阻测量范围:2μΩ- * MΩ5.测量精度:0. * % 6.测量 引线 : * 路电学测量引线 7.转角杆旋转范围: 旋转 范围:-5°- * ° 8.旋转 精度: 优于0. * °; 9.旋转 速度:0°- * °/s * .压力转角杆:0-2GPa,样品空间1.8mm * . Seebeck系数测量精度:±3 %或± 0.3μV/K 或±1.2 μV * . 热导测量精度:± 3 %或± 1.2 μW/K, T < * K 点击查看>> (略) 微 纳加 工中心电子 束蒸发镀膜 机采购项目A 点击查看>> 其他试验仪器及装置电子 束蒸发 仪,1台; 真空蒸镀腔室尺寸≤ * mm× * mm× * mm,腔 (略) 理, 带有1套可 拆卸防污隔离墙;可 对接手套箱;镀膜 控制软件, 带有手动和自动两种操作模式, 膜厚不均匀性≤±5%,镀膜 速率的理 论精度可 达0. * ?/s,膜厚厚度分 辨率可 达0. * ?,膜厚 精度可达±5%;冷 凝泵 ,抽速不低 于 * l/s,带氦压缩机, * 英尺长 氦气管道;干泵 ,抽速不低于 * cfm,腔室洁净、干燥 环境下,极 限真空 度< 9E-8 Torr;6× * cc电子 束源,6KW固态电 源,带动态 矫正 功能以提 高膜厚均匀性, 带有扫描 模式;1套离子源,带有1个气体控 制质量流量器,自动控制模式;双晶检测探 头,带水 冷功能,检测精度 不低 点击查看>>
于0. * ?;水冷旋转 样品台,可装载 * mm× * mm的样 片,兼容小尺寸 样片,转速0- * RPM连续可调,带有升降 功能;配有蒸发源挡板;产品验收后要求质保1年。 (略) 微 纳加 工中心电子 束曝光系统采购项目A 点击查看>> 电子光学及离子光学仪器电子 束曝 光系统,1套,设备可实现高分辨电子束曝光,最小特征尺寸≤8nm ; 采用 肖特基 热场发射 电子 束源,加速电压 不大于 * KV,以避免高电压 对样片的损伤 。加速电压可以以 * V的步进任 意设置,保证灵活性,适 合多种 不同 工艺的应用需求;在 * kV下,最小束斑 直径不 大于1.6 nm;系统中配套的图形发生 器的扫描 频率 不低 于 * MHz,最小 步距增 量不大于0.1 nm,最小 停留 时间增量不大于1ns;束电流范围为5pA – * nA; 束流可 长时间 稳定,实验 室温度 波动在± 0.5°C的情况下, 任意 * 小时 内测量 束流稳定性 ≤0.5% ;写场 大小可 在0.5 μm - 2mm的范围 内任 意设定,且连续可调;提供激光 干涉 工作台,该工作台的移动范围 不小于 * x * x * mm, 其中XY方向的分 辨率不大于1nm;拼接/套刻精度 不大于 * nm (|mean| + 3 · sigma) ;提供手动进料室;及 * 个标准 样品架,可承载2英寸硅片或多个 不规则的小样品; 该系统 除了实现电子束曝 光的功能外,提供垂直方向和 侧面两 个 * 次电子探测器, (略) 高分 辨率成像和精确度量。成像放大倍数满足 * ~1, * , * 倍;提供UPS不间断电源、冷 水机以及常用工具 箱;基于Windows 系统的全自动控制软 件包NanoSuite,集成了GDSII编辑器,可对图 (略) 分层设计, 允许 导入DXF、ASCII、CIF、CAD、GDSII等多种 格式的 文件; 软件可实现多用户管理,每个用户可以使 用独立的文件和参数 ;具备成像度量功能,并可在在线或离线的状态下 进行图 形分析; 点击查看>>
多种 扫描方 式可供选择,特别是圆形/环形,可提供圆形曝光扫描 模式, 以保证圆形/环形的光滑;无缝集成专业的邻近效 应修正软 件,用于曝光密集图形时, 利用蒙特卡洛模拟电子能量分布, 并全自动 对曝 (略) 调整,修正邻近效应。整机质保1年。本次 公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排, (略) 和采购文件为准。 (略) 点击查看>>
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