(略) (略) * 年8月（至）9月采购意向项目-1政府采购意向为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《 (略) 关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔 * 〕 * 号）等有关规定，现 (略) * 年8月（至）9月采购意向项目-1采购意向公开如下：序号采购项目名称采购品目采购需求概况预算金额（万元）预计采购时间备注1医 (略) * 期A 点击查看>> 其他试验仪 器 及 装置,A 点击查看>> 光学测试 仪器,A 点击查看>> 热学式分析仪器白激光门控光谱型荧光寿命共聚焦成像系统，1台等温滴定量热仪，1台全自动药物筛选 (略) ，1台 点击查看>>
2高性能计算机集群系统A 点击查看>> 服务器用于材料模拟的高性能密集计算集群系统，包括管理登 * 节点、多个计算节点、高性能分布式存储系统、 (略) 络连接等，还应包括相配置的机架和冷却系统。 点击查看>> 原理样机反应装置A 点击查看>> 石油和化学工业 (略) 件原理样机反应装置，1台 点击查看>> 超精密半导体动静态光电分析测试系统A 点击查看>> 电阻测量仪器最小脉冲宽度: * ns, 最大脉冲电压± * V; 微弱电流测试(~fA量级); C-V模块频率范围可至 * MHz; 具有独立的远端切换开关; 器件测试平台要求: 封闭循环压缩，无需补充液氦/液氮；全自动控温: * K- * K. 直流探针具有Guard保护，6个直流测试臂，每个测试臂的漏电流< * fA.回温时间<3小时; 配备环形光和轴向光双照明功能，可适用于观察各种样品; 点击查看>>
5极端条件高灵敏度磁学测量仪配套 组件A 点击查看>> 其他专用仪器仪表极端条件高灵敏度磁学测量仪配套组件： 1.灵敏度: 1x * -8 emu 2. (略) : 0. * Oe- * Oe (peak) 3.频率: * Hz- * KHz 点击查看>> 极端条件电学与热学测量仪配套组件A 点击查看>> 其他专用仪器仪表配套极端条件下的电学和热学物性测量： 1.电流范围：2nA- * mA 2.最高电压： * V 3.电压灵敏度： * nV 4.电阻测量范围：2μΩ- * MΩ5.测量精度：0. * % 6.测量 引线 ： * 路电学测量引线 7.转角杆旋转范围： 旋转 范围：-5°- * ° 8.旋转 精度： 优于0. * °； 9.旋转 速度：0°- * °/s * .压力转角杆：0-2GPa，样品空间1.8mm * . Seebeck系数测量精度：±3 %或± 0.3μV/K 或±1.2 μV * . 热导测量精度：± 3 %或± 1.2 μW/K， T < * K 点击查看>> (略) 微 纳加 工中心电子 束蒸发镀膜 机采购项目A 点击查看>> 其他试验仪器及装置电子 束蒸发 仪，1台； 真空蒸镀腔室尺寸≤ * mm× * mm× * mm，腔 (略) 理， 带有1套可 拆卸防污隔离墙；可 对接手套箱；镀膜 控制软件， 带有手动和自动两种操作模式， 膜厚不均匀性≤±5%，镀膜 速率的理 论精度可 达0. * ？/s，膜厚厚度分 辨率可 达0. * ？，膜厚 精度可达±5%；冷 凝泵 ，抽速不低 于 * l/s，带氦压缩机， * 英尺长 氦气管道；干泵 ，抽速不低于 * cfm，腔室洁净、干燥 环境下，极 限真空 度&lt; 9E-8 Torr；6× * cc电子 束源，6KW固态电 源，带动态 矫正 功能以提 高膜厚均匀性， 带有扫描 模式；1套离子源，带有1个气体控 制质量流量器，自动控制模式；双晶检测探 头，带水 冷功能，检测精度 不低 点击查看>>
于0. * ？；水冷旋转 样品台，可装载 * mm× * mm的样 片，兼容小尺寸 样片，转速0- * RPM连续可调，带有升降 功能；配有蒸发源挡板；产品验收后要求质保1年。 (略) 微 纳加 工中心电子 束曝光系统采购项目A 点击查看>> 电子光学及离子光学仪器电子 束曝 光系统，1套，设备可实现高分辨电子束曝光，最小特征尺寸≤8nm ； 采用 肖特基 热场发射 电子 束源，加速电压 不大于 * KV，以避免高电压 对样片的损伤 。加速电压可以以 * V的步进任 意设置，保证灵活性，适 合多种 不同 工艺的应用需求；在 * kV下，最小束斑 直径不 大于1.6 nm；系统中配套的图形发生 器的扫描 频率 不低 于 * MHz，最小 步距增 量不大于0.1 nm，最小 停留 时间增量不大于1ns；束电流范围为5pA – * nA； 束流可 长时间 稳定，实验 室温度 波动在± 0.5°C的情况下， 任意 * 小时 内测量 束流稳定性 ≤0.5% ；写场 大小可 在0.5 μm - 2mm的范围 内任 意设定，且连续可调；提供激光 干涉 工作台，该工作台的移动范围 不小于 * x * x * mm， 其中XY方向的分 辨率不大于1nm；拼接/套刻精度 不大于 * nm (|mean| + 3 · sigma) ；提供手动进料室；及 * 个标准 样品架，可承载2英寸硅片或多个 不规则的小样品； 该系统 除了实现电子束曝 光的功能外，提供垂直方向和 侧面两 个 * 次电子探测器， (略) 高分 辨率成像和精确度量。成像放大倍数满足 * ~1, * , * 倍；提供UPS不间断电源、冷 水机以及常用工具 箱；基于Windows 系统的全自动控制软 件包NanoSuite，集成了GDSII编辑器，可对图 (略) 分层设计， 允许 导入DXF、ASCII、CIF、CAD、GDSII等多种 格式的 文件； 软件可实现多用户管理，每个用户可以使 用独立的文件和参数 ；具备成像度量功能，并可在在线或离线的状态下 进行图 形分析； 点击查看>>
多种 扫描方 式可供选择，特别是圆形/环形，可提供圆形曝光扫描 模式， 以保证圆形/环形的光滑；无缝集成专业的邻近效 应修正软 件，用于曝光密集图形时， 利用蒙特卡洛模拟电子能量分布， 并全自动 对曝 (略) 调整，修正邻近效应。整机质保1年。本次 公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。 (略) 点击查看>>

(略) (略) * 年8月（至）9月采购意向项目-1政府采购意向为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《 (略) 关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔 * 〕 * 号）等有关规定，现 (略) * 年8月（至）9月采购意向项目-1采购意向公开如下：序号采购项目名称采购品目采购需求概况预算金额（万元）预计采购时间备注1医 (略) * 期A 点击查看>> 其他试验仪 器 及 装置,A 点击查看>> 光学测试 仪器,A 点击查看>> 热学式分析仪器白激光门控光谱型荧光寿命共聚焦成像系统，1台等温滴定量热仪，1台全自动药物筛选 (略) ，1台 点击查看>>
2高性能计算机集群系统A 点击查看>> 服务器用于材料模拟的高性能密集计算集群系统，包括管理登 * 节点、多个计算节点、高性能分布式存储系统、 (略) 络连接等，还应包括相配置的机架和冷却系统。 点击查看>> 原理样机反应装置A 点击查看>> 石油和化学工业 (略) 件原理样机反应装置，1台 点击查看>> 超精密半导体动静态光电分析测试系统A 点击查看>> 电阻测量仪器最小脉冲宽度: * ns, 最大脉冲电压± * V; 微弱电流测试(~fA量级); C-V模块频率范围可至 * MHz; 具有独立的远端切换开关; 器件测试平台要求: 封闭循环压缩，无需补充液氦/液氮；全自动控温: * K- * K. 直流探针具有Guard保护，6个直流测试臂，每个测试臂的漏电流&lt; * fA.回温时间&lt;3小时; 配备环形光和轴向光双照明功能，可适用于观察各种样品; 点击查看>>
5极端条件高灵敏度磁学测量仪配套 组件A 点击查看>> 其他专用仪器仪表极端条件高灵敏度磁学测量仪配套组件： 1.灵敏度: 1x * -8 emu 2. (略) : 0. * Oe- * Oe (peak) 3.频率: * Hz- * KHz 点击查看>> 极端条件电学与热学测量仪配套组件A 点击查看>> 其他专用仪器仪表配套极端条件下的电学和热学物性测量： 1.电流范围：2nA- * mA 2.最高电压： * V 3.电压灵敏度： * nV 4.电阻测量范围：2μΩ- * MΩ5.测量精度：0. * % 6.测量 引线 ： * 路电学测量引线 7.转角杆旋转范围： 旋转 范围：-5°- * ° 8.旋转 精度： 优于0. * °； 9.旋转 速度：0°- * °/s * .压力转角杆：0-2GPa，样品空间1.8mm * . Seebeck系数测量精度：±3 %或± 0.3μV/K 或±1.2 μV * . 热导测量精度：± 3 %或± 1.2 μW/K， T < * K 点击查看>> (略) 微 纳加 工中心电子 束蒸发镀膜 机采购项目A 点击查看>> 其他试验仪器及装置电子 束蒸发 仪，1台； 真空蒸镀腔室尺寸≤ * mm× * mm× * mm，腔 (略) 理， 带有1套可 拆卸防污隔离墙；可 对接手套箱；镀膜 控制软件， 带有手动和自动两种操作模式， 膜厚不均匀性≤±5%，镀膜 速率的理 论精度可 达0. * ？/s，膜厚厚度分 辨率可 达0. * ？，膜厚 精度可达±5%；冷 凝泵 ，抽速不低 于 * l/s，带氦压缩机， * 英尺长 氦气管道；干泵 ，抽速不低于 * cfm，腔室洁净、干燥 环境下，极 限真空 度&lt; 9E-8 Torr；6× * cc电子 束源，6KW固态电 源，带动态 矫正 功能以提 高膜厚均匀性， 带有扫描 模式；1套离子源，带有1个气体控 制质量流量器，自动控制模式；双晶检测探 头，带水 冷功能，检测精度 不低 点击查看>>
于0. * ？；水冷旋转 样品台，可装载 * mm× * mm的样 片，兼容小尺寸 样片，转速0- * RPM连续可调，带有升降 功能；配有蒸发源挡板；产品验收后要求质保1年。 (略) 微 纳加 工中心电子 束曝光系统采购项目A 点击查看>> 电子光学及离子光学仪器电子 束曝 光系统，1套，设备可实现高分辨电子束曝光，最小特征尺寸≤8nm ； 采用 肖特基 热场发射 电子 束源，加速电压 不大于 * KV，以避免高电压 对样片的损伤 。加速电压可以以 * V的步进任 意设置，保证灵活性，适 合多种 不同 工艺的应用需求；在 * kV下，最小束斑 直径不 大于1.6 nm；系统中配套的图形发生 器的扫描 频率 不低 于 * MHz，最小 步距增 量不大于0.1 nm，最小 停留 时间增量不大于1ns；束电流范围为5pA – * nA； 束流可 长时间 稳定，实验 室温度 波动在± 0.5°C的情况下， 任意 * 小时 内测量 束流稳定性 ≤0.5% ；写场 大小可 在0.5 μm - 2mm的范围 内任 意设定，且连续可调；提供激光 干涉 工作台，该工作台的移动范围 不小于 * x * x * mm， 其中XY方向的分 辨率不大于1nm；拼接/套刻精度 不大于 * nm (|mean| + 3 · sigma) ；提供手动进料室；及 * 个标准 样品架，可承载2英寸硅片或多个 不规则的小样品； 该系统 除了实现电子束曝 光的功能外，提供垂直方向和 侧面两 个 * 次电子探测器， (略) 高分 辨率成像和精确度量。成像放大倍数满足 * ~1, * , * 倍；提供UPS不间断电源、冷 水机以及常用工具 箱；基于Windows 系统的全自动控制软 件包NanoSuite，集成了GDSII编辑器，可对图 (略) 分层设计， 允许 导入DXF、ASCII、CIF、CAD、GDSII等多种 格式的 文件； 软件可实现多用户管理，每个用户可以使 用独立的文件和参数 ；具备成像度量功能，并可在在线或离线的状态下 进行图 形分析； 点击查看>>
多种 扫描方 式可供选择，特别是圆形/环形，可提供圆形曝光扫描 模式， 以保证圆形/环形的光滑；无缝集成专业的邻近效 应修正软 件，用于曝光密集图形时， 利用蒙特卡洛模拟电子能量分布， 并全自动 对曝 (略) 调整，修正邻近效应。整机质保1年。本次 公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。 (略) 点击查看>>