季华实验室2021年08月至2021年09月政府采购意向-季华实验室高精度五轴数控中心采购项目
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季华实验室2021年08月至2021年09月政府采购意向-季华实验室高精度五轴数控中心采购项目
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《 (略) 关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔 * 〕 * 号）等有关规定，现将本单位 * 年 * 月至 * 年 * 月采购意向公开如下：
| 序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 落实政府采购政策情况 | 预算金额(元) | 预计采购时间 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 季华实验室高精 (略) 采购项目 | 标的名称：高精度 * 轴数 (略) 标的数量：1 主要功能或目标：拟购进的设备具备对脆性材料平面、球面、非球面及自由曲面透镜及反射镜的超精密铣磨功能，另外脆性材料光学元件成形系统拥有多种规格加工工具，因此除基本铣磨功能外还具备捞球、切割等多种附加功能。 需满足的要求：拟购进的设备具备对脆性材料平面、球面、非球面及自由曲面透镜及反射镜的超精密铣磨功能，另外脆性材料光学元件成形系统拥有多种规格加工工具，因此除基本铣磨功能外还具备捞球、切割等多种附加功能。 | 无 | 5, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 2 | 季华实验室高精 (略) 采购项目 | 标的名称：高精度 * 轴数控快速抛光机 标的数量：1 主要功能或目标：拟购进的设备可以实现平面、球面、非球面及自由曲面透镜及反射镜的快速抛光，该设备主要用于对玻璃材料 (略) 高速抛光，使光学元件的面形能够快速收敛到 * nm RMS， (略) 需时间，降低加工成本，为下 * 步的光学元件超精抛光做好准备。 需满足的要求：1）加工口径? * mm; 2）行程范围：X/Y/Z * mm/ * mm/ * mm重复定位精度 -/+1 μm; 3）A轴- * ° / * °(摆角)，重复定位精度 -/+2” ; C轴旋转工作台 * °,重复定位精度- /+2” ; 4）抛光精度优于 * nm RMS值 | 无 | 4, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 3 | 季华实验室磁流变抛光设备采购项目 | 标的名称：磁流变抛光设备 标的数量：1 主要功能或目标：拟购进的设备具备平面、球面、非球面及自由曲面透镜及反射镜的高精度快速抛光功能，该设备主要用于对玻璃材料 (略) 高精度高速抛光，使光学元件的面形能够快速收敛到最高5nm RMS， (略) 需时间，降低加工成本，满足光学元件的高精度短周期加工需求。 需满足的要求：1） (略) 程： * mm;运动速度：0~ * 0mm/min;重复定位精度： * μm; (略) 程： * mm;运动速度：0~ * 0mm/min; 重复定位精度： * μm; (略) 程： * mm; 运动速度：0~ * 0mm/min; 重复定位精度：8μm; (略) 程：± * °；转速：0 ~ * rpm; B轴为虚拟轴± * °; (略) 程：n× * °；转速：0 ~ * rpm; 2）面形加工精度优于RMS 5nm; 3）粗糙度加工精度优于Ra 0.5nm | 无 | 4, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 4 | 季华实验室气浮隔振平台采购项目 | 标的名称： * 米隔振气浮平台 标的数量：1 主要功能或目标：气浮平台总长 * 米，宽4米，整体采用混凝土+ (略) 石材质，气浮台上表面与地面水平，具有良好的中高频隔振特性，根据实际 (略) 隔振设计，最终平台表面振动等级达到VC-D。 需满足的要求：固有频率：气浮隔振平台水平和垂直共3个方向的固有频率f<1.0Hz。 气浮隔振平台水平和垂直3个方向，在2- * Hz频段内任意 * 频率点的振动速度幅值Vrms< * μm/s。 | 无 | 2, * , * . * | * 年 * 月 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
季华实验室
* 日
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《 (略) 关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔 * 〕 * 号）等有关规定，现将本单位 * 年 * 月至 * 年 * 月采购意向公开如下：
| 序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 落实政府采购政策情况 | 预算金额(元) | 预计采购时间 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 季华实验室高精 (略) 采购项目 | 标的名称：高精度 * 轴数 (略) 标的数量：1 主要功能或目标：拟购进的设备具备对脆性材料平面、球面、非球面及自由曲面透镜及反射镜的超精密铣磨功能，另外脆性材料光学元件成形系统拥有多种规格加工工具，因此除基本铣磨功能外还具备捞球、切割等多种附加功能。 需满足的要求：拟购进的设备具备对脆性材料平面、球面、非球面及自由曲面透镜及反射镜的超精密铣磨功能，另外脆性材料光学元件成形系统拥有多种规格加工工具，因此除基本铣磨功能外还具备捞球、切割等多种附加功能。 | 无 | 5, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 2 | 季华实验室高精 (略) 采购项目 | 标的名称：高精度 * 轴数控快速抛光机 标的数量：1 主要功能或目标：拟购进的设备可以实现平面、球面、非球面及自由曲面透镜及反射镜的快速抛光，该设备主要用于对玻璃材料 (略) 高速抛光，使光学元件的面形能够快速收敛到 * nm RMS， (略) 需时间，降低加工成本，为下 * 步的光学元件超精抛光做好准备。 需满足的要求：1）加工口径? * mm; 2）行程范围：X/Y/Z * mm/ * mm/ * mm重复定位精度 -/+1 μm; 3）A轴- * ° / * °(摆角)，重复定位精度 -/+2” ; C轴旋转工作台 * °,重复定位精度- /+2” ; 4）抛光精度优于 * nm RMS值 | 无 | 4, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 3 | 季华实验室磁流变抛光设备采购项目 | 标的名称：磁流变抛光设备 标的数量：1 主要功能或目标：拟购进的设备具备平面、球面、非球面及自由曲面透镜及反射镜的高精度快速抛光功能，该设备主要用于对玻璃材料 (略) 高精度高速抛光，使光学元件的面形能够快速收敛到最高5nm RMS， (略) 需时间，降低加工成本，满足光学元件的高精度短周期加工需求。 需满足的要求：1） (略) 程： * mm;运动速度：0~ * 0mm/min;重复定位精度： * μm; (略) 程： * mm;运动速度：0~ * 0mm/min; 重复定位精度： * μm; (略) 程： * mm; 运动速度：0~ * 0mm/min; 重复定位精度：8μm; (略) 程：± * °；转速：0 ~ * rpm; B轴为虚拟轴± * °; (略) 程：n× * °；转速：0 ~ * rpm; 2）面形加工精度优于RMS 5nm; 3）粗糙度加工精度优于Ra 0.5nm | 无 | 4, * , * . * | * 年 * 月 | |
| 4 | 季华实验室气浮隔振平台采购项目 | 标的名称： * 米隔振气浮平台 标的数量：1 主要功能或目标：气浮平台总长 * 米，宽4米，整体采用混凝土+ (略) 石材质，气浮台上表面与地面水平，具有良好的中高频隔振特性，根据实际 (略) 隔振设计，最终平台表面振动等级达到VC-D。 需满足的要求：固有频率：气浮隔振平台水平和垂直共3个方向的固有频率f<1.0Hz。 气浮隔振平台水平和垂直3个方向，在2- * Hz频段内任意 * 频率点的振动速度幅值Vrms< * μm/s。 | 无 | 2, * , * . * | * 年 * 月 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
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