反应式等离子体镀 (略) 在采购意向： (略) (略) * 年2至12月政府采购意向采购单位： (略) (略) 采购项目名称：反应式等离子体镀膜设备预算金额： * . 点击查看>> 万元(人民币)采购品目：
A 点击查看>> 采购需求概况：
反应式等离子体镀膜设备主要用于沉积高质量透明导电TCO薄膜，该台设备可在 * mm× * mm大面积衬底上镀制高性能TCO薄膜，镀制 * nm膜厚IWO材料时，膜厚均匀性单一托盘内≤5%、托盘间≤5%；平均面电阻单一托盘内<20 ohm/sq.，均匀性≤8%、托盘间均匀性≤5%；平均透过率（ 点击查看>> nm波长范围）单一托盘内≥86%。售后质保期1年，设备终身提供售后服务。供货期要求签订合同并支付预付款后 * 天。预计采购时间： 点击查看>> 备注：

反应式等离子体镀 (略) 在采购意向： (略) (略) * 年2至12月政府采购意向采购单位： (略) (略) 采购项目名称：反应式等离子体镀膜设备预算金额： * . 点击查看>> 万元(人民币)采购品目：
A 点击查看>> 采购需求概况：
反应式等离子体镀膜设备主要用于沉积高质量透明导电TCO薄膜，该台设备可在 * mm× * mm大面积衬底上镀制高性能TCO薄膜，镀制 * nm膜厚IWO材料时，膜厚均匀性单一托盘内≤5%、托盘间≤5%；平均面电阻单一托盘内<20 ohm/sq.，均匀性≤8%、托盘间均匀性≤5%；平均透过率（ 点击查看>> nm波长范围）单一托盘内≥86%。售后质保期1年，设备终身提供售后服务。供货期要求签订合同并支付预付款后 * 天。预计采购时间： 点击查看>> 备注：