磁控溅射系统招标预告

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磁控溅射系统招标预告



磁控溅射系统
(略) 在采购意向：中 (略) * 年1至12月政府采购意向
采购单位：中 (略)
采购项目名称：磁控溅射系统
预算金额： * . 点击查看>> 万元(人民币)
采购品目：
A 点击查看>> 其他专用仪器仪表
采购需求概况：
该设备主要用于制备高性能超导薄膜，需要达到以下条件： 1.真空度优于5e-7Pa 2.支持全自动镀膜 3.支持离子束刻蚀 4.支持4个以上靶材 5.支持至少3路气体， (略) 精准的流量控制 6.支持多个共溅射 7.支持样品控温
预计采购时间： 点击查看>>
备注：

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。



磁控溅射系统
(略) 在采购意向：中 (略) * 年1至12月政府采购意向
采购单位：中 (略)
采购项目名称：磁控溅射系统
预算金额： * . 点击查看>> 万元(人民币)
采购品目：
A 点击查看>> 其他专用仪器仪表
采购需求概况：
该设备主要用于制备高性能超导薄膜，需要达到以下条件： 1.真空度优于5e-7Pa 2.支持全自动镀膜 3.支持离子束刻蚀 4.支持4个以上靶材 5.支持至少3路气体， (略) 精准的流量控制 6.支持多个共溅射 7.支持样品控温
预计采购时间： 点击查看>>
备注：

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

    
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