电子束蒸发镀膜系统-电子束蒸发镀膜，招标预告
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电子束蒸发镀膜系统-电子束蒸发镀膜，招标预告
| 电子束蒸发镀膜系统 | |
| (略) 在采购意向： | (略) * 年3至4月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) |
| 采购项目名称： | 电子束蒸发镀膜系统 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 真空应用设备 |
| 采购需求概况： | 电子束蒸发镀膜，半导体器件制造工艺中的基础步骤，常用于半导体工艺中各种金属膜，反射膜的制备，要求系统稳定，成膜均匀，重复性高，工作真空度要求6E-6Torr，镀膜速率0~10埃/S可调。工艺温度不超过70度。 |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 电子束蒸发镀膜系统 | |
| (略) 在采购意向： | (略) * 年3至4月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) |
| 采购项目名称： | 电子束蒸发镀膜系统 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 真空应用设备 |
| 采购需求概况： | 电子束蒸发镀膜，半导体器件制造工艺中的基础步骤，常用于半导体工艺中各种金属膜，反射膜的制备，要求系统稳定，成膜均匀，重复性高，工作真空度要求6E-6Torr，镀膜速率0~10埃/S可调。工艺温度不超过70度。 |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
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