南京大学2022年政府采购意向公开（第20批）-紫外接触式曝光机
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南京大学2022年政府采购意向公开（第20批）-紫外接触式曝光机
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《 (略) 关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕 (略) ）等有关规定， (略) 2022年政府采购意向公开（第20批）政府采购意向公开如下：
| 序号 | 采购项目名称 | (略) | 采购品目 | 采购需求概况 | 预算金额(万元) | 预计采购日期 | 备注 |
| 1 | 紫外接触式曝光机 | 点击查看>> | A 点击查看>> 其他仪器仪表 | 名称：紫外接触式光刻机。数量：1套。主要功能：通过精密的光学系统，将掩模版上的图形投影到晶圆和芯片上，并使得预先旋涂的光刻胶发生光学反应，结合后续的显影工艺，实现微小结构图形转移；需要具备正面对准和背面对准的功能，并具备硬接触和真空接触等曝光模式。质保期：自仪器验收之日起不少于1年。 | 228 | 2022年04月 | |
| 2 | 反应离子体刻蚀机 | 点击查看>> | A 点击查看>> 其他仪器仪表 | 名称：反应离子刻蚀机RIE。数量：1套。主要功能：在真空系统中将工艺气体形成等离子体，实现对相应材料的干法刻蚀工艺；需要实现对硅、氧化硅、氮化硅、氮化铌等材料的高均匀性、高重复性的刻蚀。质保期：自仪器验收之日起不少于1年。 | 115 | 2022年04月 | |
| 3 | 原子沉积系统ALD | 点击查看>> | A 点击查看>> 其他仪器仪表 | 名称：原子层沉积系统ALD。数量：1套。主要功能：用于高质量介质材料薄膜的沉积，包括氧化铝、氮化铝、氧化硅、氧化铪、氮化硅等。质保期：自仪器验收之日起不少于1年。 | 371 | 2022年04月 | |
| 4 | 椭偏仪 | 点击查看>> | A 点击查看>> 其他仪器仪表 | 名称：椭偏仪。数量：1套。主要功能：利用光的偏振态变化来进行薄膜性质的表征，与样品非接触，对样品没有破坏且不需要真空，在薄膜厚度和n、k参数测量方面广为应用；光谱范围需要到紫外和近红外，具备微光斑和消色差等功能。质保期：自仪器验收之日起不少于1年。 | 149 | 2022年04月 | |
| 5 | 离子束刻蚀机 | 点击查看>> | A 点击查看>> 其他仪器仪表 | 名称：离子束刻蚀机。数量：1套。主要功能：将氩离子经过电场加速对样品表面进行物理轰击，造成物理溅射刻蚀；用于多种材料的高均匀性刻蚀，包括但不限于各种金属和半导体材料。质保期：自仪器验收之日起不少于1年。 | 103 | 2022年04月 | |
| 6 | 等离子体气相沉积PECVD | 点击查看>> | A 点击查看>> 其他仪器仪表 | 名称：等离子体增强化学气相沉积PECVD。数量：1套。主要功能：要求具备ICP-PECVD功能，主要用于高质量氧化硅、氮化硅薄膜材料的沉积。质保期：自仪器验收之日起不少于1年。 | 322 | 2022年04月 | |
| 7 | 电子束蒸发溅射系统 | 点击查看>> | A 点击查看>> 其他仪器仪表 | 名称：电子束蒸发系统。数量：1套。主要功能：实现材料的电子束蒸发方法镀膜；用于各种金属和化合物材料薄膜的制备，需要满足lift-off工艺的需求。质保期：自仪器验收之日起不少于1年。 | 230 | 2022年04月 | |
| 8 | 电子束溅射系统 | 点击查看>> | A 点击查看>> 其他仪器仪表 | 名称：磁控溅射系统。数量：1套。主要功能：用于各种金属和化合物材料薄膜的制备，要求配备直流和射频电源，要求具备氧气、氮气反应溅射功能。质保期：自仪器验收之日起不少于1年。 | 241 | 2022年04月 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
(略) 招标办公室
2022年03月21日
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《 (略) 关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕 (略) ）等有关规定， (略) 2022年政府采购意向公开（第20批）政府采购意向公开如下：
| 序号 | 采购项目名称 | (略) | 采购品目 | 采购需求概况 | 预算金额(万元) | 预计采购日期 | 备注 |
| 1 | 紫外接触式曝光机 | 点击查看>> | A 点击查看>> 其他仪器仪表 | 名称：紫外接触式光刻机。数量：1套。主要功能：通过精密的光学系统，将掩模版上的图形投影到晶圆和芯片上，并使得预先旋涂的光刻胶发生光学反应，结合后续的显影工艺，实现微小结构图形转移；需要具备正面对准和背面对准的功能，并具备硬接触和真空接触等曝光模式。质保期：自仪器验收之日起不少于1年。 | 228 | 2022年04月 | |
| 2 | 反应离子体刻蚀机 | 点击查看>> | A 点击查看>> 其他仪器仪表 | 名称：反应离子刻蚀机RIE。数量：1套。主要功能：在真空系统中将工艺气体形成等离子体，实现对相应材料的干法刻蚀工艺；需要实现对硅、氧化硅、氮化硅、氮化铌等材料的高均匀性、高重复性的刻蚀。质保期：自仪器验收之日起不少于1年。 | 115 | 2022年04月 | |
| 3 | 原子沉积系统ALD | 点击查看>> | A 点击查看>> 其他仪器仪表 | 名称：原子层沉积系统ALD。数量：1套。主要功能：用于高质量介质材料薄膜的沉积，包括氧化铝、氮化铝、氧化硅、氧化铪、氮化硅等。质保期：自仪器验收之日起不少于1年。 | 371 | 2022年04月 | |
| 4 | 椭偏仪 | 点击查看>> | A 点击查看>> 其他仪器仪表 | 名称：椭偏仪。数量：1套。主要功能：利用光的偏振态变化来进行薄膜性质的表征，与样品非接触，对样品没有破坏且不需要真空，在薄膜厚度和n、k参数测量方面广为应用；光谱范围需要到紫外和近红外，具备微光斑和消色差等功能。质保期：自仪器验收之日起不少于1年。 | 149 | 2022年04月 | |
| 5 | 离子束刻蚀机 | 点击查看>> | A 点击查看>> 其他仪器仪表 | 名称：离子束刻蚀机。数量：1套。主要功能：将氩离子经过电场加速对样品表面进行物理轰击，造成物理溅射刻蚀；用于多种材料的高均匀性刻蚀，包括但不限于各种金属和半导体材料。质保期：自仪器验收之日起不少于1年。 | 103 | 2022年04月 | |
| 6 | 等离子体气相沉积PECVD | 点击查看>> | A 点击查看>> 其他仪器仪表 | 名称：等离子体增强化学气相沉积PECVD。数量：1套。主要功能：要求具备ICP-PECVD功能，主要用于高质量氧化硅、氮化硅薄膜材料的沉积。质保期：自仪器验收之日起不少于1年。 | 322 | 2022年04月 | |
| 7 | 电子束蒸发溅射系统 | 点击查看>> | A 点击查看>> 其他仪器仪表 | 名称：电子束蒸发系统。数量：1套。主要功能：实现材料的电子束蒸发方法镀膜；用于各种金属和化合物材料薄膜的制备，需要满足lift-off工艺的需求。质保期：自仪器验收之日起不少于1年。 | 230 | 2022年04月 | |
| 8 | 电子束溅射系统 | 点击查看>> | A 点击查看>> 其他仪器仪表 | 名称：磁控溅射系统。数量：1套。主要功能：用于各种金属和化合物材料薄膜的制备，要求配备直流和射频电源，要求具备氧气、氮气反应溅射功能。质保期：自仪器验收之日起不少于1年。 | 241 | 2022年04月 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
(略) 招标办公室
2022年03月21日
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