复旦大学2022年8月政府采购意向-原子层薄膜气相沉积系统-原子层沉积设备主要用于沉积出薄膜材料,满足沉积Al2O3、H

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复旦大学2022年8月政府采购意向-原子层薄膜气相沉积系统-原子层沉积设备主要用于沉积出薄膜材料,满足沉积Al2O3、H

原子层薄膜气相沉积系统
(略) 在采购意向: (略) 2022年8月政府采购意向
采购单位: (略)
采购项目名称:原子层薄膜气相沉积系统
预算金额: 点击查看>> 00万元(人民币)
采购品目:
A 点击查看>> 真空应用设备
采购需求概况:
原子层沉积设备主要用于沉积出薄膜材料,满足沉积Al2O3、HfO2、ZrO2等薄膜材料的需要。原子层沉积设备主要由腔体、 (略) 、加热前驱源系统、真空系统、 (略) 分组成。均匀性在±5% (20nm基础) 。反应腔须满足直径不小于200mm的晶圆基底镀膜的使用要求。兼容4英寸硅片。反应腔体最高加热温度≥500℃。工艺温度范围为30–500℃。反应腔的控制精度须≤±2℃。真空腔外壁为全冷壁,在设备的正常运行时,真空腔外壁温度应不超过35℃。每个液态料源装置均须配制循环水水浴装置,以稳定低蒸发压液态源温度。水浴温度须≤±2℃。采用电容耦合等离子系统,射频频率为 点击查看>> MHz或更优,功率不小于300W,要求功率可以调节。
预计采购时间:2022-08
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

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原子层薄膜气相沉积系统
(略) 在采购意向: (略) 2022年8月政府采购意向
采购单位: (略)
采购项目名称:原子层薄膜气相沉积系统
预算金额: 点击查看>> 00万元(人民币)
采购品目:
A 点击查看>> 真空应用设备
采购需求概况:
原子层沉积设备主要用于沉积出薄膜材料,满足沉积Al2O3、HfO2、ZrO2等薄膜材料的需要。原子层沉积设备主要由腔体、 (略) 、加热前驱源系统、真空系统、 (略) 分组成。均匀性在±5% (20nm基础) 。反应腔须满足直径不小于200mm的晶圆基底镀膜的使用要求。兼容4英寸硅片。反应腔体最高加热温度≥500℃。工艺温度范围为30–500℃。反应腔的控制精度须≤±2℃。真空腔外壁为全冷壁,在设备的正常运行时,真空腔外壁温度应不超过35℃。每个液态料源装置均须配制循环水水浴装置,以稳定低蒸发压液态源温度。水浴温度须≤±2℃。采用电容耦合等离子系统,射频频率为 点击查看>> MHz或更优,功率不小于300W,要求功率可以调节。
预计采购时间:2022-08
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

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