中国科学院微电子研究所2022年6至12月政府采购意向-光电共封异质集成技术关键工艺验证用样片-项目拟进行光电共封异质集成技术关键工艺样品制备,重点解决电芯

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中国科学院微电子研究所2022年6至12月政府采购意向-光电共封异质集成技术关键工艺验证用样片-项目拟进行光电共封异质集成技术关键工艺样品制备,重点解决电芯

光电共封异质集成技术关键工艺验证用样片
(略) 在采购意向: (略) (略) 2022年6至12月政府采购意向
采购单位: (略) (略)
采购项目名称:光电共封异质集成技术关键工艺验证用样片
预算金额: 点击查看>> 00万元(人民币)
采购品目:
C0908-其他专业技术服务
采购需求概况:
项目拟进行光电共封异质集成技术关键工艺样品制备,重点解决电芯片倒装集成到光芯片互连凸点技术,以及工艺参数和材料等变化对光口污染问题,RDL与凸点特殊结构互联及保护晶圆级工艺,需要加工各类工艺验证用样片,包含5层RDL,1-4层的RDL的min线宽/线间距=2/2 um,加工15片12吋晶圆;36um超细节距微凸点结构加工10片12吋晶圆;via直径=8um,via节距=18um,via pad=14um,trace to via pad = 3um,加工15片12吋晶圆。
预计采购时间:2022-06
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

,0908-
光电共封异质集成技术关键工艺验证用样片
(略) 在采购意向: (略) (略) 2022年6至12月政府采购意向
采购单位: (略) (略)
采购项目名称:光电共封异质集成技术关键工艺验证用样片
预算金额: 点击查看>> 00万元(人民币)
采购品目:
C0908-其他专业技术服务
采购需求概况:
项目拟进行光电共封异质集成技术关键工艺样品制备,重点解决电芯片倒装集成到光芯片互连凸点技术,以及工艺参数和材料等变化对光口污染问题,RDL与凸点特殊结构互联及保护晶圆级工艺,需要加工各类工艺验证用样片,包含5层RDL,1-4层的RDL的min线宽/线间距=2/2 um,加工15片12吋晶圆;36um超细节距微凸点结构加工10片12吋晶圆;via直径=8um,via节距=18um,via pad=14um,trace to via pad = 3um,加工15片12吋晶圆。
预计采购时间:2022-06
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

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