2022年6至12月政府意向-圆表面元素分析系统招标预告

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2022年6至12月政府意向-圆表面元素分析系统招标预告


圆表面元素分析系统
(略) 在采购意向: (略) (略) 2022年6至12月政府采购意向
采购单位: (略) (略)
采购项目名称:圆表面元素分析系统
预算金额: 点击查看>> 00万元(人民币)
采购品目:
A 点击查看>> -其他电工、电子专用生产设备
采购需求概况:
该系统主要用于对晶圆表面薄膜材料,开展高精度痕量杂质元素分析,实现对痕量杂质元素在线测量,是支撑新型光刻机在CMOS工艺线上开展工艺验证的必要检测设备。该系统可提供超洁净晶圆表面痕量杂质元素的收集,配套ICP-MSMS (略) 理后的溶液,在线测量更低浓度的杂质元素,确保重金属掩膜在经过清洗工艺后,去除干净,达到CMOS工艺的对金属污染的控制要求。该设备主要性能指标为:1.支持尺寸硅晶圆为200mm;2.支持常规金属元素及贵金属及的扫描及测试,包括金,银,铂等;3.金属杂质浓度最低探测精度达到~1E10 atoms/cm2;4.系统自动收集晶圆表面沾污测试溶液;5.支持多种扫描方式:表面扫描,边缘扫描,亲水性扫描等;
预计采购时间:2022-11
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。




圆表面元素分析系统
(略) 在采购意向: (略) (略) 2022年6至12月政府采购意向
采购单位: (略) (略)
采购项目名称:圆表面元素分析系统
预算金额: 点击查看>> 00万元(人民币)
采购品目:
A 点击查看>> -其他电工、电子专用生产设备
采购需求概况:
该系统主要用于对晶圆表面薄膜材料,开展高精度痕量杂质元素分析,实现对痕量杂质元素在线测量,是支撑新型光刻机在CMOS工艺线上开展工艺验证的必要检测设备。该系统可提供超洁净晶圆表面痕量杂质元素的收集,配套ICP-MSMS (略) 理后的溶液,在线测量更低浓度的杂质元素,确保重金属掩膜在经过清洗工艺后,去除干净,达到CMOS工艺的对金属污染的控制要求。该设备主要性能指标为:1.支持尺寸硅晶圆为200mm;2.支持常规金属元素及贵金属及的扫描及测试,包括金,银,铂等;3.金属杂质浓度最低探测精度达到~1E10 atoms/cm2;4.系统自动收集晶圆表面沾污测试溶液;5.支持多种扫描方式:表面扫描,边缘扫描,亲水性扫描等;
预计采购时间:2022-11
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。



    
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