脉冲激光沉积设备招标预告
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脉冲激光沉积设备招标预告
| 脉冲激光沉积设备 | |
| (略) 在采购意向： | 中 (略) 2022年6至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 中 (略) |
| 采购项目名称： | 脉冲激光沉积设备 |
| 预算金额： | 点击查看>> 00万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 其他专用仪器仪表 |
| 采购需求概况： | 利用高能激光溅射靶材，在合适的气体氛围中，将溅射出的等离子体（羽辉）沉积在合适温度的单晶衬底上，形成高质量外延薄膜。须配有原位反射式高能电子衍射（RHEED）系统，能在生长时对表面晶体结构进行监测，同时测量生长厚度。本设备主要用于氧化物外延薄膜生长。1.具有进样室和传样杆，能单独快速更换样品和靶材，传样室本底真空不超过5e-8 Torr；2.真空腔本底真空不超过5e-9 Torr，能通过进气速率、闸板阀等连续调节氧气氛围达至少0.2 Torr；3.大功率激光加热，样品温度能在室温到1000摄氏度连续可调，且能稳定保持不低于2小时；4.光学系统能使高能激光在靶材上成清晰的像，且能在靶材上扫描；5.具有原位反射式高能电子衍射（RHEED）系统，能在上述氧气氛围下连续工作，能观察到氧化物层状生长时不小于10个的振荡；6.具有自动控制软件。 |
| 预计采购时间： | 2022-07 |
| 备注： | |
| 脉冲激光沉积设备 | |
| (略) 在采购意向： | 中 (略) 2022年6至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 中 (略) |
| 采购项目名称： | 脉冲激光沉积设备 |
| 预算金额： | 点击查看>> 00万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 其他专用仪器仪表 |
| 采购需求概况： | 利用高能激光溅射靶材，在合适的气体氛围中，将溅射出的等离子体（羽辉）沉积在合适温度的单晶衬底上，形成高质量外延薄膜。须配有原位反射式高能电子衍射（RHEED）系统，能在生长时对表面晶体结构进行监测，同时测量生长厚度。本设备主要用于氧化物外延薄膜生长。1.具有进样室和传样杆，能单独快速更换样品和靶材，传样室本底真空不超过5e-8 Torr；2.真空腔本底真空不超过5e-9 Torr，能通过进气速率、闸板阀等连续调节氧气氛围达至少0.2 Torr；3.大功率激光加热，样品温度能在室温到1000摄氏度连续可调，且能稳定保持不低于2小时；4.光学系统能使高能激光在靶材上成清晰的像，且能在靶材上扫描；5.具有原位反射式高能电子衍射（RHEED）系统，能在上述氧气氛围下连续工作，能观察到氧化物层状生长时不小于10个的振荡；6.具有自动控制软件。 |
| 预计采购时间： | 2022-07 |
| 备注： | |
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