热等静压炉 招标预告
热等静压炉 招标预告
序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额(元) | 预计采购时间(填写到月) | 备注 |
---|---|---|---|---|---|
1 | 热等静压炉 | 热等静压炉1台,用于金属材料类、碳纤维材料成型技术研究,要求最高工作压力:200MPa;最高工作温度:1400℃;有效热区直径:Φ500mm;有效热区高度:1000mm。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
2 | 500M核磁共振波谱仪固体探头及附件 | 500M核磁共振波谱仪固体探头及附件1套,用于固体材料化合物化学结构、空间结构及构型分析研究,要求灵敏度:13C ≥ 240,15N ≥ 40;最大转速24kHz。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
3 | 飞秒瞬态吸收仪 | 飞秒瞬态吸收仪1台,用于光催化材料电子等微观粒子的超快运动时间尺度,更加深入的阐明机理,要求指标:光机电一体程控自动化,灵敏度>1 mOD/nJ泵浦。ns 探测的时间抖动<1 ns。320 – 1600 nm 的光谱覆盖范围。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
4 | 等离子刻蚀机 | 离子刻蚀机1台,用于光电子器件和纳米功能器件研究,要求指标:可加工wafer尺寸>4英寸;刻蚀速率>0.2um/min;刻蚀轮廓角度>85°;刻蚀均匀性片内5点<±5%,片间<±5%。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
5 | X射线能谱仪 | X射线能谱仪1台,用于固体材料表面元素和价态的定性定量分析研究,要求单色化X射线源,极限能量分辨率:0.43 eV;快速平行成像,对Ag3d5/2,线扫描的最佳空间分辨率优于1μm;离子枪刻蚀套件等。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
6 | 多靶磁控溅射系统 | 多靶磁控溅射机1台,用于半导体器件和光电子器件研究,要求指标:工件盘尺寸≥8英寸;极限真空低于1E-7 Torr;镀膜均匀性:片内<±3%,批次间<2%。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
7 | 一体化荧光显微成像仪 | 一体化荧光显微成像仪1台,用于细胞活性研究,旨在探明光催化对癌细胞的控制作用,要求指标:采用先进的高分辨率全景扫描分析系统,全景无缝扫描像素≥ 点击查看>> * 点击查看>> ,具备z轴高解析度0.1um层扫和3D功能及自动防萃灭功能。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
8 | 高效离子色谱三重四极杆质谱联用仪 | 高效离子色谱三重四极杆质谱联用仪1台,用于化合物定性定量分析研究,要求采用二元高压液相色谱仪,最大耐压1000bar;质量数范围:5-2000,高端质量数不高于2000amu;SRM扫描速度:最大可达600 SRMs/秒。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
9 | 激光纳米加工光源 | 激光纳米加工光源1台,用于微纳芯片加工和光学功能器件研制,要求指标:可调谐纳秒脉冲激光器输出波长覆盖400-2500nm;峰值能量达70 @@@ 50 nm,在近(中)红外 2000 nm左右有输出不低于10 mJ。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
10 | ESR光催化过程检测仪 | ESR光催化过程检测仪1台,用于实时定量分析光催化过程的产物和动力学,要求指标:检测灵敏度需优于5×109 spins/G,信噪比优于700:1,浓度灵敏度30 pM,磁场稳定性(长时间稳定性)需优于20 mG/h,磁场稳定性(短时间稳定性)需优于5 mG/min。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
11 | 原位分析高分辨场发射扫描电镜 | 原位分析高分辨场发射扫描电镜1台,用于材料的微观形貌、结构表征研究,要求采用高分辨肖特基场发射电子枪,加速电压:200V-30kV,束流大小:1 pA-50 nA连续可调。 | 点击查看>> | 2022年09月 |
序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额(元) | 预计采购时间(填写到月) | 备注 |
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1 | 热等静压炉 | 热等静压炉1台,用于金属材料类、碳纤维材料成型技术研究,要求最高工作压力:200MPa;最高工作温度:1400℃;有效热区直径:Φ500mm;有效热区高度:1000mm。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
2 | 500M核磁共振波谱仪固体探头及附件 | 500M核磁共振波谱仪固体探头及附件1套,用于固体材料化合物化学结构、空间结构及构型分析研究,要求灵敏度:13C ≥ 240,15N ≥ 40;最大转速24kHz。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
3 | 飞秒瞬态吸收仪 | 飞秒瞬态吸收仪1台,用于光催化材料电子等微观粒子的超快运动时间尺度,更加深入的阐明机理,要求指标:光机电一体程控自动化,灵敏度>1 mOD/nJ泵浦。ns 探测的时间抖动<1 ns。320 – 1600 nm 的光谱覆盖范围。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
4 | 等离子刻蚀机 | 离子刻蚀机1台,用于光电子器件和纳米功能器件研究,要求指标:可加工wafer尺寸>4英寸;刻蚀速率>0.2um/min;刻蚀轮廓角度>85°;刻蚀均匀性片内5点<±5%,片间<±5%。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
5 | X射线能谱仪 | X射线能谱仪1台,用于固体材料表面元素和价态的定性定量分析研究,要求单色化X射线源,极限能量分辨率:0.43 eV;快速平行成像,对Ag3d5/2,线扫描的最佳空间分辨率优于1μm;离子枪刻蚀套件等。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
6 | 多靶磁控溅射系统 | 多靶磁控溅射机1台,用于半导体器件和光电子器件研究,要求指标:工件盘尺寸≥8英寸;极限真空低于1E-7 Torr;镀膜均匀性:片内<±3%,批次间<2%。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
7 | 一体化荧光显微成像仪 | 一体化荧光显微成像仪1台,用于细胞活性研究,旨在探明光催化对癌细胞的控制作用,要求指标:采用先进的高分辨率全景扫描分析系统,全景无缝扫描像素≥ 点击查看>> * 点击查看>> ,具备z轴高解析度0.1um层扫和3D功能及自动防萃灭功能。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
8 | 高效离子色谱三重四极杆质谱联用仪 | 高效离子色谱三重四极杆质谱联用仪1台,用于化合物定性定量分析研究,要求采用二元高压液相色谱仪,最大耐压1000bar;质量数范围:5-2000,高端质量数不高于2000amu;SRM扫描速度:最大可达600 SRMs/秒。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
9 | 激光纳米加工光源 | 激光纳米加工光源1台,用于微纳芯片加工和光学功能器件研制,要求指标:可调谐纳秒脉冲激光器输出波长覆盖400-2500nm;峰值能量达70 @@@ 50 nm,在近(中)红外 2000 nm左右有输出不低于10 mJ。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
10 | ESR光催化过程检测仪 | ESR光催化过程检测仪1台,用于实时定量分析光催化过程的产物和动力学,要求指标:检测灵敏度需优于5×109 spins/G,信噪比优于700:1,浓度灵敏度30 pM,磁场稳定性(长时间稳定性)需优于20 mG/h,磁场稳定性(短时间稳定性)需优于5 mG/min。 | 点击查看>> | 2022年09月 | |
11 | 原位分析高分辨场发射扫描电镜 | 原位分析高分辨场发射扫描电镜1台,用于材料的微观形貌、结构表征研究,要求采用高分辨肖特基场发射电子枪,加速电压:200V-30kV,束流大小:1 pA-50 nA连续可调。 | 点击查看>> | 2022年09月 |
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