zycgr210708012022年9月政府意向-超高真空多腔体镀膜系统-招标预告
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zycgr210708012022年9月政府意向-超高真空多腔体镀膜系统-招标预告
| 超高真空多腔体镀膜系统 | |
| 项目所在采购意向： | zycgr*年9月政府采购意向 |
| 采购单位： | zycgr* |
| 采购项目名称： | 超高真空多腔体镀膜系统 |
| 预算金额： | 450.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他专用仪器仪表 |
| 采购需求概况： | 拟购置1台超高真空多腔体镀膜系统，提供超高真空的多个腔体，专门针对制备器件所需的超导薄膜的蒸镀和溅射。主要指标包括含3个腔室，即进样室、电子束蒸发腔室和磁控溅射腔室，进样室真空度好于1e-8 Torr，两个镀膜腔室真空度好于1e-9 Torr，配备离子枪，进样室样品台可旋转且可加热到600度以上，腔体可烘烤120度以上，镀膜各含至少4个源。本课题需要进行大量的器件加工制备，几种高质量超导薄膜的蒸镀是必须的。为此，需购置一台3腔体的超高真空镀膜系统，包含进样室、电子束蒸发腔室和磁控溅射腔室。进样室能够保证快速进样，且能够使得样品在两个镀膜室之间的真空传输。进样室内需配备离子枪，包含氩气和氦气，在镀膜之前对样品表面进行预处理，除掉残余的光刻胶、表面吸附脏气等，获得干净平整的表面。磁控溅射腔室主要用于Pb、V等超导材料的溅射，它们的临界超导温度、临界磁场相对较高，利于量子态的构建。电子束蒸发腔室主要用于Al的超导薄膜，同时有Ti作为粘附层。为了达到更好的效果，样品台将配备液氮冷却，低温下的Al膜质量更高。同时，为了保护磁控溅射后的Pb、V等超导薄膜，样品可在真空中传输到电子束腔室，蒸发Au作为保护。 |
| 预计采购时间： | 2022-09 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 超高真空多腔体镀膜系统 | |
| 项目所在采购意向： | zycgr*年9月政府采购意向 |
| 采购单位： | zycgr* |
| 采购项目名称： | 超高真空多腔体镀膜系统 |
| 预算金额： | 450.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他专用仪器仪表 |
| 采购需求概况： | 拟购置1台超高真空多腔体镀膜系统，提供超高真空的多个腔体，专门针对制备器件所需的超导薄膜的蒸镀和溅射。主要指标包括含3个腔室，即进样室、电子束蒸发腔室和磁控溅射腔室，进样室真空度好于1e-8 Torr，两个镀膜腔室真空度好于1e-9 Torr，配备离子枪，进样室样品台可旋转且可加热到600度以上，腔体可烘烤120度以上，镀膜各含至少4个源。本课题需要进行大量的器件加工制备，几种高质量超导薄膜的蒸镀是必须的。为此，需购置一台3腔体的超高真空镀膜系统，包含进样室、电子束蒸发腔室和磁控溅射腔室。进样室能够保证快速进样，且能够使得样品在两个镀膜室之间的真空传输。进样室内需配备离子枪，包含氩气和氦气，在镀膜之前对样品表面进行预处理，除掉残余的光刻胶、表面吸附脏气等，获得干净平整的表面。磁控溅射腔室主要用于Pb、V等超导材料的溅射，它们的临界超导温度、临界磁场相对较高，利于量子态的构建。电子束蒸发腔室主要用于Al的超导薄膜，同时有Ti作为粘附层。为了达到更好的效果，样品台将配备液氮冷却，低温下的Al膜质量更高。同时，为了保护磁控溅射后的Pb、V等超导薄膜，样品可在真空中传输到电子束腔室，蒸发Au作为保护。 |
| 预计采购时间： | 2022-09 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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