松山湖材料实验室2022年09月至2022年12月政府采购意向
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松山湖材料实验室2022年09月至2022年12月政府采购意向
松山湖材料实验室2022年09月至2022年12月政府采购意向
发布机构：松山湖材料实验室发布时间：2022-09-02 16:05:05
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定，现将本单位2022年09月至2022年12月采购意向公开如下：
| 序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 落实政府采购政策情况 | 预算金额(元) | 预计采购时间 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 松山湖材料实验室自动光学检测设备（AOI）采购项目 | 标的名称：自动光学检测设备（AOI） 标的数量：1 主要功能或目标：该设备主要用于半导体晶圆光刻、刻蚀等制程过程中的整片芯片图形一致性检测及工艺微观缺陷检测监控和缺陷筛查，可快速进行的整片的在线检测。 需满足的要求："需满足的工艺技术指标： 1、样品尺寸：兼容2-8寸； 2、样品材质：包括硅、化合物半导体等透明或者不透明材料晶圆； 3、应用工序：可用于光刻、刻蚀、键合、研磨等工序中的缺陷检测; 4、可进行亚微米分辨率缺陷检测和1μm以上的图形套刻偏差检测； 5、可设置不同区域重要性和敏感度； 6、兼容镂空片和薄片样品；" | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 8,* | 2022年10月 | |
| 2 | 松山湖材料实验室研磨抛光设备采购项目 | 标的名称：研磨抛光设备 标的数量：1 主要功能或目标：研磨抛光设备主要用于半导体制程中对各种半导体材料进行厚度减薄，实现不同厚度的芯片加工需求及进行相关科学研究。 需满足的要求："1、兼容尺寸：8英寸及以下晶圆（8英寸硅片可减薄至100微米以下不破片）； 2、兼容研磨材料：Si、GaAs等； 3、减薄后单片晶圆内的厚度偏差：不大于3μm； 4、减薄后多片晶圆间的厚度偏差：不大于±3μm； 5、具备厚度测量功能。" | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 3,* | 2022年10月 | |
| 3 | 松山湖材料实验室晶圆抛光设备采购项目 | 标的名称：晶圆抛光设备 标的数量：1 主要功能或目标：晶圆抛光设备主要用于半导体制程中对各种半导体材料进行表面抛光，实现降低材料表面的粗糙度的加工需求及进行相关科学研究。 需满足的要求："1、能兼容2、4、6、8寸晶圆的抛光作业； 2、兼容抛光材料：Si、GaAs等； 3、2路及以上独立抛光 (略) 系统，采用蠕动泵自动上液； 4、抛光处理后表面粗糙度Ra小于等于2nm（Si）。" | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 1,* | 2022年10月 | |
| 4 | 松山湖材料实验室在线XRD设备采购项目 | 标的名称：在线XRD设备 标的数量：1 主要功能或目标：计划采购的在线XRD设备主要用于在线批量测试各种半导体外延设备生长的GaAs、InP及GaN基光电子、微电子器件材料，其测试结果能够对相关材料结构方面的改善、性能的提高提供更好的科学依据。 需满足的要求："1）设备所有零部件必须是全新产品，技术成熟，软件操作应具备直观、简便、功能强大的特点，有良好的人机界面。设备的设计制造应符合相关ISO9001、*及OHSAS *等国际标准； 2）设备运行稳定、可靠，能够长时间稳定工作； 3）设备应易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持； 4）设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施； 5）设备应提供足够长时间的质保期； 6）能够完成8寸晶圆及以下尺寸样品的测量。 " | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 2,* | 2022年12月 | |
| 5 | 松山湖材料实验室PZT测试系统采购项目 | 标的名称：PZT测试系统 标的数量：1 主要功能或目标：主要用于对PZT薄膜的压电/铁电/介电特性进行测试表征，判断PZT加工设备的工艺状态、保证PZT成膜质量。 需满足的要求："需满足的工艺技术指标： 1、可进行压电、铁电和介电性能测试； 2、压电测试：具备逆压电测试能力，具备纵向压电系数e31的测试/提取能力，施加电压≥200V；振动位移分辨率≤2nm；测试精度≤0.05C/m2；连续测试重复性≤2%； 3、铁电测试：具备电滞回线、击穿漏电、铁电疲劳的测试能力，施加频率≥100kHz，施加电压≥200V； 4、介电测试：具备介电常数、介电损耗、介电疲劳的测试能力； 5、配备测试夹具、探针台及观测系统。" | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 2,* | 2022年10月 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
松山湖材料实验室
2022年09月02日
松山湖材料实验室2022年09月至2022年12月政府采购意向
发布机构：松山湖材料实验室发布时间：2022-09-02 16:05:05
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定，现将本单位2022年09月至2022年12月采购意向公开如下：
| 序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 落实政府采购政策情况 | 预算金额(元) | 预计采购时间 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 松山湖材料实验室自动光学检测设备（AOI）采购项目 | 标的名称：自动光学检测设备（AOI） 标的数量：1 主要功能或目标：该设备主要用于半导体晶圆光刻、刻蚀等制程过程中的整片芯片图形一致性检测及工艺微观缺陷检测监控和缺陷筛查，可快速进行的整片的在线检测。 需满足的要求："需满足的工艺技术指标： 1、样品尺寸：兼容2-8寸； 2、样品材质：包括硅、化合物半导体等透明或者不透明材料晶圆； 3、应用工序：可用于光刻、刻蚀、键合、研磨等工序中的缺陷检测; 4、可进行亚微米分辨率缺陷检测和1μm以上的图形套刻偏差检测； 5、可设置不同区域重要性和敏感度； 6、兼容镂空片和薄片样品；" | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 8,* | 2022年10月 | |
| 2 | 松山湖材料实验室研磨抛光设备采购项目 | 标的名称：研磨抛光设备 标的数量：1 主要功能或目标：研磨抛光设备主要用于半导体制程中对各种半导体材料进行厚度减薄，实现不同厚度的芯片加工需求及进行相关科学研究。 需满足的要求："1、兼容尺寸：8英寸及以下晶圆（8英寸硅片可减薄至100微米以下不破片）； 2、兼容研磨材料：Si、GaAs等； 3、减薄后单片晶圆内的厚度偏差：不大于3μm； 4、减薄后多片晶圆间的厚度偏差：不大于±3μm； 5、具备厚度测量功能。" | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 3,* | 2022年10月 | |
| 3 | 松山湖材料实验室晶圆抛光设备采购项目 | 标的名称：晶圆抛光设备 标的数量：1 主要功能或目标：晶圆抛光设备主要用于半导体制程中对各种半导体材料进行表面抛光，实现降低材料表面的粗糙度的加工需求及进行相关科学研究。 需满足的要求："1、能兼容2、4、6、8寸晶圆的抛光作业； 2、兼容抛光材料：Si、GaAs等； 3、2路及以上独立抛光 (略) 系统，采用蠕动泵自动上液； 4、抛光处理后表面粗糙度Ra小于等于2nm（Si）。" | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 1,* | 2022年10月 | |
| 4 | 松山湖材料实验室在线XRD设备采购项目 | 标的名称：在线XRD设备 标的数量：1 主要功能或目标：计划采购的在线XRD设备主要用于在线批量测试各种半导体外延设备生长的GaAs、InP及GaN基光电子、微电子器件材料，其测试结果能够对相关材料结构方面的改善、性能的提高提供更好的科学依据。 需满足的要求："1）设备所有零部件必须是全新产品，技术成熟，软件操作应具备直观、简便、功能强大的特点，有良好的人机界面。设备的设计制造应符合相关ISO9001、*及OHSAS *等国际标准； 2）设备运行稳定、可靠，能够长时间稳定工作； 3）设备应易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持； 4）设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施； 5）设备应提供足够长时间的质保期； 6）能够完成8寸晶圆及以下尺寸样品的测量。 " | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 2,* | 2022年12月 | |
| 5 | 松山湖材料实验室PZT测试系统采购项目 | 标的名称：PZT测试系统 标的数量：1 主要功能或目标：主要用于对PZT薄膜的压电/铁电/介电特性进行测试表征，判断PZT加工设备的工艺状态、保证PZT成膜质量。 需满足的要求："需满足的工艺技术指标： 1、可进行压电、铁电和介电性能测试； 2、压电测试：具备逆压电测试能力，具备纵向压电系数e31的测试/提取能力，施加电压≥200V；振动位移分辨率≤2nm；测试精度≤0.05C/m2；连续测试重复性≤2%； 3、铁电测试：具备电滞回线、击穿漏电、铁电疲劳的测试能力，施加频率≥100kHz，施加电压≥200V； 4、介电测试：具备介电常数、介电损耗、介电疲劳的测试能力； 5、配备测试夹具、探针台及观测系统。" | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 2,* | 2022年10月 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
松山湖材料实验室
2022年09月02日
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