A9999其他不另分类的物品

本项目拟采购1套光刻机，系统示意图如图1所示。光刻机，又名掩模对准曝光机，一般在百级净化间配合涂胶机使用，是MEMS芯片制造流程中，光刻工艺的核心设备。而光刻工艺是芯片制造流程中最关键的一步，光刻确定了MEMS芯片的关键尺寸，在整个芯片的制造过程中约占据了整体制造成本的35%。光刻机是MEMS器件加工过程中不可缺少的一环，西 (略) 在MEMS器件方面取得了显著成果， (略) 还没有一套完整的MEMS加工设备。目标是为了解决电气工程学科自主研发MEMS工艺器件及功率半导体器件，长期受限于工艺外委加工，加工周期长，不能在项目时间范围内实现创新性器件结构的优化设计及验证问题，进而攻克影响MEMS器件取得突破性进展的瓶颈问题。同时，我们加工器件的紧迫性，在国外实施卡脖子政策的当下，大量高技术设备都处于紧缺状态。必须独立自主自力更生，促进MEMS器件加工设备的齐全，使国产MEMS器件研发早日获得突破。利用该光刻机实现西安交通 (略) 各课题组MEMS器件光刻工艺的全部或大部分流程，避免光刻工艺的外委加工。

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