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名称：超高真空多功能微纳增材镀膜系统采购数量：1台 主要参数：1.系统具备金属、氧化物、ITO、磁学自旋电子学及化合物微纳多功能增材薄膜精密制备功能；可升级连接MBE等分子束沉积外延系统。 2.向上反重力镀膜，不少于11个2英寸磁控阴极溅射功能源及可替换接口，并可兼容MgO（氧化镁）等特种功能材料离轴溅镀升级接口；溅射源兼容3mm铁磁材料制备，并可兼容非磁性广谱材料镀膜，溅射源采用稀土材料可被烘烤至200℃，适应真空度10E-11 Torr环境，无需在烘烤系统前移除磁铁，磁铁安装在水冷系统外，确保后续维护、清洁、故障排除和维修的便利；共聚焦溅射源可原位偏转角度，实现精密增材镀膜。3. 样品台可以在0-40RPM的范围内匀速电控转动；样品台可加热，可在氧气环境下加热，加热温度≥850℃，PID温控精度≤±1℃，过温保护；并具备射频偏压预清洗功能以及可兼容升级制备楔形功能薄膜；4. 采用不少于5个直流电源和2个射频电源，以及直流和射频分别配置一套一 (略) 开关箱带输出电缆；5. 配置带多层结构片盒传输的预真空室，带定制样品托盘衬托器的磁性传送杆，能方便、快捷地将样品传送至主腔室；6. 配置 (略) 气路，包含Ar、N2、O2和预 (略) ，并采用下游压力控制，设备采用闭环自动压力控制/隔离阀；阀门开和闭之间满量程不少于1000位调节，通过真空计和PID控制器精确控制气压，控制器带气压和阀门位置预设以及电池组，断电时可在3秒内关闭阀门；7. 主腔体配置知名品牌Brooks CTI-8或同级别厂家生产的低温泵，抽速不低于1500 升/秒；主腔室极限真空值达到或优于9×10-9Torr；8. 提供可编程Labview软件控制系统，带有不少于5个直流和不少于4个射频电源接口，并带有不少于1个直流和1个射频转换控制箱控制接口；用于输出模式、定点、线性缓慢升温和等离子检测控制； (略) 气体质量流量控制接口；阀门控制接口，楔形挡板控制接口；操作软件应具备带多项自动保护功能、系统故障自检功能和提示报警功能；不少于100个单独密码保证工艺膜层和工艺安全性，采用多级进入系统操作，确保系统运行和真空控制的安全性；

崔宝山 *

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名称：超高真空多功能微纳增材镀膜系统采购数量：1台 主要参数：1.系统具备金属、氧化物、ITO、磁学自旋电子学及化合物微纳多功能增材薄膜精密制备功能；可升级连接MBE等分子束沉积外延系统。 2.向上反重力镀膜，不少于11个2英寸磁控阴极溅射功能源及可替换接口，并可兼容MgO（氧化镁）等特种功能材料离轴溅镀升级接口；溅射源兼容3mm铁磁材料制备，并可兼容非磁性广谱材料镀膜，溅射源采用稀土材料可被烘烤至200℃，适应真空度10E-11 Torr环境，无需在烘烤系统前移除磁铁，磁铁安装在水冷系统外，确保后续维护、清洁、故障排除和维修的便利；共聚焦溅射源可原位偏转角度，实现精密增材镀膜。3. 样品台可以在0-40RPM的范围内匀速电控转动；样品台可加热，可在氧气环境下加热，加热温度≥850℃，PID温控精度≤±1℃，过温保护；并具备射频偏压预清洗功能以及可兼容升级制备楔形功能薄膜；4. 采用不少于5个直流电源和2个射频电源，以及直流和射频分别配置一套一 (略) 开关箱带输出电缆；5. 配置带多层结构片盒传输的预真空室，带定制样品托盘衬托器的磁性传送杆，能方便、快捷地将样品传送至主腔室；6. 配置 (略) 气路，包含Ar、N2、O2和预 (略) ，并采用下游压力控制，设备采用闭环自动压力控制/隔离阀；阀门开和闭之间满量程不少于1000位调节，通过真空计和PID控制器精确控制气压，控制器带气压和阀门位置预设以及电池组，断电时可在3秒内关闭阀门；7. 主腔体配置知名品牌Brooks CTI-8或同级别厂家生产的低温泵，抽速不低于1500 升/秒；主腔室极限真空值达到或优于9×10-9Torr；8. 提供可编程Labview软件控制系统，带有不少于5个直流和不少于4个射频电源接口，并带有不少于1个直流和1个射频转换控制箱控制接口；用于输出模式、定点、线性缓慢升温和等离子检测控制； (略) 气体质量流量控制接口；阀门控制接口，楔形挡板控制接口；操作软件应具备带多项自动保护功能、系统故障自检功能和提示报警功能；不少于100个单独密码保证工艺膜层和工艺安全性，采用多级进入系统操作，确保系统运行和真空控制的安全性；

崔宝山 *