A*电子工业专用生产设备

(略) 拟采购激光直写光刻机1套。主要技术指标：基于AOD技术的激光直写，最小结构尺寸0.5um，具有3个不同分辨率物镜10X，20X，50X；支持基底厚度1－15mm，支持Z轴AutoFocus基底翘曲100um；支持扫描曝光，灰度曝光，拖曳曝光等多种曝光模式；书写速度不小于100mm2/*@*um；对准套刻精度500nm；支持256阶3D灰度光刻；X、Y、Z和Ф（转轴），X、Y轴采用压电陶瓷电机驱动，Z轴采用压电陶瓷机构进行聚焦驱动，X、Y轴幅面150mm×150mm，X、Y轴定位分辨率10nm，旋转轴Ф±7°；支持基片5mmx5mm-200mmx200mm任意尺寸；光源405nm或者375nm支持正胶和负胶；具有PLM相位调制功能，支持周期性图形相位调制光刻；支持GDSⅡ，DXF，BMP图形格式，支持正胶和负胶；整机带有大理石框架结构，具有气浮隔振系统；带背光曝光功能；可自动对焦。售后服务要求:3年质保期，对所提供的货物在质保期内，因产品质量而导致的缺陷，必须免费提供包修、包换、包退服务。

A*电子工业专用生产设备

(略) 拟采购激光直写光刻机1套。主要技术指标：基于AOD技术的激光直写，最小结构尺寸0.5um，具有3个不同分辨率物镜10X，20X，50X；支持基底厚度1－15mm，支持Z轴AutoFocus基底翘曲100um；支持扫描曝光，灰度曝光，拖曳曝光等多种曝光模式；书写速度不小于100mm2/*@*um；对准套刻精度500nm；支持256阶3D灰度光刻；X、Y、Z和Ф（转轴），X、Y轴采用压电陶瓷电机驱动，Z轴采用压电陶瓷机构进行聚焦驱动，X、Y轴幅面150mm×150mm，X、Y轴定位分辨率10nm，旋转轴Ф±7°；支持基片5mmx5mm-200mmx200mm任意尺寸；光源405nm或者375nm支持正胶和负胶；具有PLM相位调制功能，支持周期性图形相位调制光刻；支持GDSⅡ，DXF，BMP图形格式，支持正胶和负胶；整机带有大理石框架结构，具有气浮隔振系统；带背光曝光功能；可自动对焦。售后服务要求:3年质保期，对所提供的货物在质保期内，因产品质量而导致的缺陷，必须免费提供包修、包换、包退服务。