光学芯片刻蚀系统项目所在采购意向：华南理工大学2022年11月政府采购意向采购单位：华南理工大学采购项目名称：光学芯片刻蚀系统预算金额：320.*万元(人民币)采购品目：
A*其他光学仪器采购需求概况 ：
主要参数： 1. 超声波清洗机，容量10L，超声频率：40KHz 2. 等离子清洗机，频率 13.56MHz，石英腔室尺寸 直径：74mm 深度：185mm 3. 匀胶旋涂机，基片尺寸5-150mm，转速精度 1RPM，胶均匀性 ±1% 4. 热板，室温-400℃，温控连续可调，加热板尺寸：200X200mm 5. 微量注射泵，通道数量2 ，最大行程140mm 6. 磁力搅拌器（加热），最大搅拌量（水）：5L，转速范围：100-1800转/分，台面加热温度：室温-400℃ 7. 振荡器，运行方式：圆周，周转直径：4mm 8. 光刻机，采用激光直写技术，采用数字微镜技术（DMD）,无需物理掩膜版，最大可容纳基片尺寸：155mm x 155mm x 7mm，标准直写分辨率1.0 μm。 9. 纳米压印机，热压印温度高达200℃；UV纳米压印，365nm曝光；真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar），直径最大210mm（圆形）腔室 10. 扫描电镜，倍率 ×10～×100,000（照片倍率），图像信号 背散射电子，最大样品尺寸： 80 mm（直径） 50 mm（厚度） 11. 电子分析天平，可读性：0.1mg，称量范围：220g，称盘尺寸：φ91mm 12. 显微镜，多长工作距离平场物镜组合，多滤波片夬，载物台 (略) （尺寸：210mm×140mm，移动范围：75mm×50mm），白光LED。 13. 数显厚度表，测厚精度及范围：0.001mm，0-12mm。 14. 纯水机，水质在线监测，运行状态人性化显示，分质取水，一机两用功能预计采购时间：2022-11备注：

光学芯片刻蚀系统项目所在采购意向：华南理工大学2022年11月政府采购意向采购单位：华南理工大学采购项目名称：光学芯片刻蚀系统预算金额：320.*万元(人民币)采购品目：
A*其他光学仪器采购需求概况 ：
主要参数： 1. 超声波清洗机，容量10L，超声频率：40KHz 2. 等离子清洗机，频率 13.56MHz，石英腔室尺寸 直径：74mm 深度：185mm 3. 匀胶旋涂机，基片尺寸5-150mm，转速精度 1RPM，胶均匀性 ±1% 4. 热板，室温-400℃，温控连续可调，加热板尺寸：200X200mm 5. 微量注射泵，通道数量2 ，最大行程140mm 6. 磁力搅拌器（加热），最大搅拌量（水）：5L，转速范围：100-1800转/分，台面加热温度：室温-400℃ 7. 振荡器，运行方式：圆周，周转直径：4mm 8. 光刻机，采用激光直写技术，采用数字微镜技术（DMD）,无需物理掩膜版，最大可容纳基片尺寸：155mm x 155mm x 7mm，标准直写分辨率1.0 μm。 9. 纳米压印机，热压印温度高达200℃；UV纳米压印，365nm曝光；真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar），直径最大210mm（圆形）腔室 10. 扫描电镜，倍率 ×10～×100,000（照片倍率），图像信号 背散射电子，最大样品尺寸： 80 mm（直径） 50 mm（厚度） 11. 电子分析天平，可读性：0.1mg，称量范围：220g，称盘尺寸：φ91mm 12. 显微镜，多长工作距离平场物镜组合，多滤波片夬，载物台 (略) （尺寸：210mm×140mm，移动范围：75mm×50mm），白光LED。 13. 数显厚度表，测厚精度及范围：0.001mm，0-12mm。 14. 纯水机，水质在线监测，运行状态人性化显示，分质取水，一机两用功能预计采购时间：2022-11备注：