中山大学2022年11至4月政府采购意向-原子层沉积系统-A030699其他非金属矿物制品工业专用-预算金额285.000000万元(人民币)

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中山大学2022年11至4月政府采购意向-原子层沉积系统-A030699其他非金属矿物制品工业专用-预算金额285.000000万元(人民币)

原子层沉积系统
项目所在采购意向:中山大学2022年11至4月政府采购意向
采购单位:中山大学
采购项目名称:原子层沉积系统
预算金额:285.*万元(人民币)
采购品目:
A*其他非金属矿物制品工业专用设备
采购需求概况:
原子层沉积系统, 数量:1套。 该设备用于先 (略) 如晶体管栅极电介质层、互联种子层和势垒层,光电元件的特殊纳米涂层和有机发光显示器的反湿涂层,电磁记录头涂层,以及铁电功能薄膜等的快速沉积;技术要求:1.要求能够制备多种薄膜,如:Pt、Ru、Al2O3、La2O3、HfO2、Si3N4等材料,须提供满足要求的前驱体源名称、并配置相应的前 (略) 和装置,并承诺设备交付时提供相应材料的工艺菜单,投标公司须提供相应的实验数据证明。2.样品最大尺寸为直径200mm,并能兼容处理直径200mm以下单片、三维样品的沉积,进样室配备涡轮分子泵,真空度可达10-5mbar。3.反应腔体应带独立的进气口,对应独立 (略) 系统,可满足至少6种前驱体同时从独立的进气口进入反应腔体,每一种前驱体通过一个独立 (略) 进入反应腔体,避免薄膜生长时前驱体相互间的交叉污染、CVD式提前反应以及由此带来的颗粒与孔洞入口堵塞等问题,确保薄膜不会 (略) 壁。4. 可实现热法与等离子体法沉积,通过升降马达自动切换,在同1个工艺中可交替使用。5. 配备帕尔帖半导体(Peltier)制冷系统,可单独控制每一个液体源的温度,用于将前躯体蒸汽冷却到环境温度低3-5度,源蒸汽流经温度较高的设备管件时,确保不会有冷凝发生,从而避免CVD式反应的源头。6. 有毒/腐 (略) (例如NH3) (略) bypass。3.1在工艺温度下,工艺腔体漏率<5 mTorr/min,Gas line漏率<1 mTorr/min,Loadlock 漏率<10 mTorr/min,金属沾污:钠、铝、钾、铬、铁、镍、铜、镁、锌、钛和钙等金属离子含量<5E10/cm2,颗粒控制: <100 @>0.25um;平均故障间隔时间MTBF >150hrs,平均恢复时间MTTR <4hrs,平均辅助间隔时间MTBA>100hrs;交付时间要求:合同签订后6个月内。交付地点要求:广州中山大学南校园;售后服务要求(含培训):到货安装调试完成后1个月内,有专业工程师免费现场提供一次系统的使用培训服务,直至用户相关人员熟练掌握为止,如对设备有疑问,用户可使用电话或邮件咨询,如有必要,供应商可提供相关技术交流与培训。保修期:质量保证期从验收完成之日起,原厂保修期不少于1年。保修期内,一切服务费用(包括零配件的费用及运费)由投标方承担;保修期内,投标方负责设备的所有相关软件在最新版本发布后免费升级;在保修期过后,卖方继续向买方提供及时有效的售后服务和零备件供应,卖方应承诺保证零备件供应期不少于5年。
预计采购时间:2022-12
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

,中山
原子层沉积系统
项目所在采购意向:中山大学2022年11至4月政府采购意向
采购单位:中山大学
采购项目名称:原子层沉积系统
预算金额:285.*万元(人民币)
采购品目:
A*其他非金属矿物制品工业专用设备
采购需求概况:
原子层沉积系统, 数量:1套。 该设备用于先 (略) 如晶体管栅极电介质层、互联种子层和势垒层,光电元件的特殊纳米涂层和有机发光显示器的反湿涂层,电磁记录头涂层,以及铁电功能薄膜等的快速沉积;技术要求:1.要求能够制备多种薄膜,如:Pt、Ru、Al2O3、La2O3、HfO2、Si3N4等材料,须提供满足要求的前驱体源名称、并配置相应的前 (略) 和装置,并承诺设备交付时提供相应材料的工艺菜单,投标公司须提供相应的实验数据证明。2.样品最大尺寸为直径200mm,并能兼容处理直径200mm以下单片、三维样品的沉积,进样室配备涡轮分子泵,真空度可达10-5mbar。3.反应腔体应带独立的进气口,对应独立 (略) 系统,可满足至少6种前驱体同时从独立的进气口进入反应腔体,每一种前驱体通过一个独立 (略) 进入反应腔体,避免薄膜生长时前驱体相互间的交叉污染、CVD式提前反应以及由此带来的颗粒与孔洞入口堵塞等问题,确保薄膜不会 (略) 壁。4. 可实现热法与等离子体法沉积,通过升降马达自动切换,在同1个工艺中可交替使用。5. 配备帕尔帖半导体(Peltier)制冷系统,可单独控制每一个液体源的温度,用于将前躯体蒸汽冷却到环境温度低3-5度,源蒸汽流经温度较高的设备管件时,确保不会有冷凝发生,从而避免CVD式反应的源头。6. 有毒/腐 (略) (例如NH3) (略) bypass。3.1在工艺温度下,工艺腔体漏率<5 mTorr/min,Gas line漏率<1 mTorr/min,Loadlock 漏率<10 mTorr/min,金属沾污:钠、铝、钾、铬、铁、镍、铜、镁、锌、钛和钙等金属离子含量<5E10/cm2,颗粒控制: <100 @>0.25um;平均故障间隔时间MTBF >150hrs,平均恢复时间MTTR <4hrs,平均辅助间隔时间MTBA>100hrs;交付时间要求:合同签订后6个月内。交付地点要求:广州中山大学南校园;售后服务要求(含培训):到货安装调试完成后1个月内,有专业工程师免费现场提供一次系统的使用培训服务,直至用户相关人员熟练掌握为止,如对设备有疑问,用户可使用电话或邮件咨询,如有必要,供应商可提供相关技术交流与培训。保修期:质量保证期从验收完成之日起,原厂保修期不少于1年。保修期内,一切服务费用(包括零配件的费用及运费)由投标方承担;保修期内,投标方负责设备的所有相关软件在最新版本发布后免费升级;在保修期过后,卖方继续向买方提供及时有效的售后服务和零备件供应,卖方应承诺保证零备件供应期不少于5年。
预计采购时间:2022-12
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

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